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유현승,김갑용,김두만 한국 항공대학교 항공산업기술연구소 1999 航空宇宙産業技術硏究所 硏究誌 Vol.9 No.-
본 연구는 구조물의 측정에 이용되는 Extensometer를 국산화하는 것을 목적으로하였다. 외국의 시방서를 참고로 스트레인게이지를 이용하여 시제품을 제작하였다. 수감체는 알루미늄 합금을 사용하여 최대용량을 4 Kgf로 하였다. 시제품을 제작하고 정적인 Calibration 을 한 후 성능 평가를 하였다. 성능 평가는 알루미늄 시편에 시제품을 고정시키고 MTS로 반복하중을 가하는 방법으로 하였다. 시제품의 성능은 단일축 게이지보다 4배의 출력을 보였다. 또 최대하중의 5%의 하중을 8시간(약10000회)동안 반복적으로 가하였다. 이때 실험전과 실험후의 출력이 일정한 값을 보였다. 앞으로 실제 구조물을 측정할 수 있는 용량의 Extensometer를 제작하기 위하여 Extensometer의 재료와 열처리 기술에 대한 연구가 필요하겠다. 또 실제구조물을 측정하고 그 실용성을 평가해 보겠다. In this paper, the technique to make our own's extensometer is studied. The extensometer is to measure a structure. The prototype is manufactured by using a strain-gauge with the help of a foreign manual. The capacity of sensing part in aluminum alloy is 4 Kgf. The prototype is estimated after static calibration is done. The MTS is used to estimate the protype. The ability of a prototype is 4 times than it of an uniaxial strain-gauge. The 5 percent of maximum force is loaded repeatedly for 8 hours. The result shows that experiment is equal to theory. Later, the material of an extensometer and the technique of heat treatment must be studied to measure a real structure.
Plasmid DNA pBR 322의 증폭과 Hydroxyapatite Chromatography에 의한 분리
오두환,유주현,신원철,정건섭,유승구 연세대학교 산업기술연구소 1984 논문집 Vol.16 No.1
The amplification and the isolation conditions of pBR322 plasmid DNA were investigated. For the amplification of pBR322 plasmid DNA, cells from logarithmic growth phase were most effective. The optimal conditions for the amplification of pBR322 plasmid DNA in Escherichia coli GM4 were obtained as follows; 50-150 ㎍/ml of chloramphenicol concentration, 6-8 hours of incubation time in the presence of chloramphenicol. Ampicillin and tetracycline had no effect on the amplification of pBR322 plasmid DNA. Approximately 1 mg of pBR322 plasmid DNA was purified from 3.5 ℓof Escherichia coli GM4 culture broth by hydroxyapatite chromatography. The purified pBR322 plasmid DNA was expressed in Escherichia coli C600.
Nonlinear 구성방정식을 이용한 트레드 고무블록의 접지압 해석
김두만,김용엽,박인정,유현승 한국 항공대학교 항공산업기술연구소 2000 航空宇宙産業技術硏究所 硏究誌 Vol.10 No.-
자동차용 트레드블록의 형상디자인을 위한 설계인자를 도출하고자, 해석적 방법과 실험을 통하여, 트레드블록 접지면에서의 접지압을 해석하였다. 본 연구에서는 더욱 복잡한 elastomer의 거동을 해석하고자, 비교적 간단하면서 large strain에서도 잘 맞는 것으로 알려진 Mooney-Rivlin Model을 제시하였으며, 접지압을 계산하여, Nonlinear elastic 거동 해석에 쓰이는 다른 몇몇 이론들과 비교, 검토하였다. 또한, 접지압 분포의 경향을 실험과 함께 분석함으로서, 실제 거동에 가장 적절한 Model을 제시하였다. To analyze the stress distribution on the contact surface of Tread block, and to provide the factor of design for the shape of tread block for automobile, the tread block has been analyzed the stress distribution on the surface of contact by analytical method and experiment. In this study, to analyse the contact stress on the elastomer, Mooney-Rivlin model has been suggested which is comparatively simple and well fit to the behavior of rubber-like materials. Also, Hooke's model and Neo-Hookean model were compared and investigated. The experiment was conducted to verify the results and we suggested the most efficient model to analyse the contact stresses of rubber block.
내압 및 수직하중 작용시 Radial Tire Sidewall부 변형의 시간에 따른 변화 연구
성경진,박인정,유현승,김두만 한국 항공대학교 항공산업기술연구소 2001 航空宇宙産業技術硏究所 硏究誌 Vol.11 No.-
본 연구에서는 타이어 sidewall부에 대한 내압 및 수직하중 그리고 시간에 따른 변형율 변화를 strain gage를 사용하여 측정하였다. 결과적으로 타이어에 최초 내압 작용 후 24시간이 지나면서 타이어의 strain 값이 안정되는 것을 확인하였으며 수직하중에 대한 실험 수행 시 1시간 이상 지난 후에 측정해야 하중작용 실험의 영향이 나타나지 않는 것을 확인하였다. 이로서 Strain gage를 이용한 실험 및 해석의 기반을 마련하였다. In this paper, variation of the strain on the radial tire sidewall with inflation pressure and vertical loading has been measured with respect to the time by experiment of method. As a result, the strain was stable after 24 hours, and vertical loading test must be done after I hour later from the prior loading test. The experiment was conducted to verify the deformation behavior experiment analyze method using strain gage. So the basis for the experiment and analysis of sidewall strain was established.
Chemical Vapor Deposition of Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Thin Films on Si Substrates
Kim, Doo-Hyun,Yoo, Seung-Ho,Chung, Taek-Mo,An, Ki-Seok,Yoo, Hee-Soo,Kim, Yun-Soo Korean Chemical Society 2002 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.23 No.2
Amorphous $Ga_2O_3$ films have been grown on Si(100) substrates by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) using gallium isopropoxide, $Ga(O^iPr)_3$, as single precursor. Deposition was carried out in the substrate temperature range 400-800 $^{\circ}C$. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis revealed deposition of stoichiometric $Ga_2O_3$ thin films at 500-600 $^{\circ}C$. XPS depth profiling by $Ar^+$ ion sputtering indicated that carbon contamination exists mostly in the surface region with less than 3.5% content in the film. Microscopic images of the films by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) showed formation of grains of approximately 20-40 nm in size on the film surfaces. The root-mean-square surface roughness from an AFM image was ${\sim}10{\AA}$. The interfacial layer of the $Ga_2O_3$/Si was measured to be ${\sim}35{\AA}$ thick by cross-sectional transmission electron microscopy (TEM). From the analysis of gaseous products of the CVD reaction by gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS), an effort was made to explain the CVD mechanism.