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XPS와 SEM을 이용한 폴리실리콘 표면에 형성된 잔류막에 대한 연구
김태형(T. H. Kim),이종완(J. W. Lee),최상준(S. J. Choi),이창원(C. W. Lee) 한국진공학회(ASCT) 1998 Applied Science and Convergence Technology Vol.7 No.3
HBr/Cl₂/He-O₂반응 기체를 이용한 반응성 이온 식각후, 폴리실리콘 표면에 형성된 잔류막을 x-선 광전자 분광법(x-ray photoelectron spectroscopy, XFS)과 전자 현미경(scanning electron microscopy, SEM)을 이용하여 관찰하였다. 그 결과 잔류물은 패턴된 폴리실리콘의 맨 윗부분에 잔존하고 있었으며, 화학 결합 상태는 실리콘 산화물임이 밝혀졌다. 잔류물인 실리콘 산화물의 형성 메카니즘을 규명하기 위하여 원래의 혼합 기체 성분중 한가지씩의 반응 기체를 제외시켜 가면서 실험하였다. 비록 플라즈마 성질이 다를지라도, 잔류물은 산소의 존재하에서 잘 형성됨을 알 수 있었는데, 이는 휘발성이 낮은 실리콘-할로겐 화합물이 산소에 의해 산화됨으로써 형성되는 것으로 이해하게 되었다. 또한 반응성 이온 식각후 형성된 잔류층은 소자의 전기적 특성과 후처리 공정에 영향을 미치는 것으로 알려져 있어서, 이를 제거하기 위해 습식과 건식 후처리 공정을 도입하여 비교하였다. 그 결과 건식 공정의 경우 반응 기체에 의해 새로운 잔류물이 형성됨을 XPS를 통하여 관찰하였다. 따라서 잔류물을 제거하고 깨끗한 표면을 얻기 위해서는 습식 공정이 더 적합함을 알았다. The plasma etching of polysilicon was performed with the HBr/Cl₂/He-O₂ gas mixture. The residual layers after photoresist strip were investigated using x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and scanning electron microscopy (SEM). The etch residue was identified as silicon oxide deposited on the top of the patterned polysilicon. In order to clarify the formation mechanism of the etch residue, the effects of various gas mixtures such as Cl₂/He-O₂, HBr/He-O₂ and HBr/Cl₂ were investigated. We found that the etch residue is well formed in the presence of oxygen, suggesting that the etch residue is caused by the reaction of oxygen and non-volatile silicon halide compounds. Wet cleaning and dry etch cleaning processes were applied to remove the polysilicon etch residue, which can affect the electrical characteristics and further device processes. XPS results show that the wet cleaning is suitable for the removal of the etch residue.
체외수정 및 미세조작에 의한 가축배의 생산과 효율적 이용에 관한 연구 6. 소 핵이식배의 체외배양 , 동결보존 및 성판정에 관한 연구
정영채,김창근,윤종택,나광빈,오성종,이종완,김흥률,김광식,박선애,유영아 ( Y . C . Chung,C . K . Kim,J . T . Yoon,G . B . Luo,S . J . Oh,J . W . Lee,H . R . Kim,K . S . Kim,S . A . Park,Y . A . You ) 한국축산학회 1997 한국축산학회지 Vol.39 No.3
This study was carried out to establish an effective method for the improvement of subsequent development after nuclear transfer(NT) in bovine embryo, for the extension of utility through freezing and sexing of NT embryos. The rates of cleaved and developed embryos upto morula-blastocyst stages after the NT in in vitro produced embryos were 60.6 and 3.7%, respectively. Whereas, in in vivo embryos, slightly higher developments were obtained(70.8 and 5.6%), respectively. No difference was found in embryonic development upto morulablastocyst stages among the different levels of EGF added to the serum containing medium. The rates of cleaved and developed embryos upto morula-blastocyst were higher when electrostimulation was performed either before fusion or after addition at 21h IVM. The survival rate of frozen NT embryos was higher in late morula than that of earlier embryos. PCR-based sexing of NT embryo demonstrated that higher proportion of embryos was male(1.9:1), instead of normal ratio(1:1).
SIMS, XPS, AFM을 이용한 LCD blue color filter의 고분자 표면 연구
김승희(S. H. Kim),김태형(T. H. Kim),이상호(S. H. Lee),이종완(J. W. Lee) 한국진공학회(ASCT) 1997 Applied Science and Convergence Technology Vol.6 No.4
LCD용 칼라 필터를 제작하는 방법으로 감광성 고분자(photosensitive polymer)에 광리소그라피(photolithography) 기술이 많이 이용되어지고 있다. 이로 인해 감광성 고분자 표면의 물리적, 화학적 성질이 변하게 되는데, 이는 후속 공정인 플라즈마 식각이나 ITO 전극의 증착 등에도 많은 영향을 주므로, 각 공정에 따른 이들 고분자의 표면 연구는 매우 중요하다. 본 논문에서는 blue 칼라 필터의 고분자 표면에 대한 연구를 SIMS와 XPS를 이용하여 수행하였으며, 표면의 거칠기 변화를 AFM을 통해 관찰하였다. SIMS와 XPS결과로 부터 초기 공정인 blue 칼라 필터를 스핀 코팅하고 pre bake한 상태에서는 주로 칼라 필터의 주 성분인 단량체와 결합제의 고분자 물질이 표면에 드러나 있다가, 노광 과정을 거치고 post bake한 시료에서는 색깔을 내는 안료 성분이 표면에 드러남을 확인하였고, AFM을 통해서는 post bake후에 표면이 더 거칠어 짐을 관찰하였다. Recently, photosensitive color filters have received much attention for their use in the liquid crystal display (LCD) industry. It is well known that chemical and physical properties of polymer surfaces can be modified by special surface treatments. In this work, we have studied the polymer surfaces of LCD blue color filters which were exposed to the UV light during photolithography. A better understanding of the irradiated polymer surfaces is required for the subsequent processes such as plasma etching, ITO electrode deposition, etc. The surface analysis has been undertaken using secondary ion mass spectrometry (SIMS), x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and atomic force microscopy (AFM). A significant enrichment of the pigment component and roughening of surface with bubble-like feature have been observed at the modified polymer surface.