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      • KCI등재

        Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma

        하태경,우종창,김창일 한국전기전자재료학회 2010 Transactions on Electrical and Electronic Material Vol.11 No.4

        In this study, we changed the etch parameters (gas mixing ratio, radio frequency [RF] power, direct current [DC]-bias voltage, and process pressure) and then monitored the effect on the HfAlO3 thin film etch rate and the selectivity with SiO2. A maximum etch rate of 108.7 nm/min was obtained in Cl2 (3 sccm)/BCl3 (4 sccm)/Ar (16 sccm) plasma. The etch selectivity of HfAlO3 to SiO2 reached 1.11. As the RF power and the DC-bias voltage increased, the etch rate of the HfAlO3 thin film increased. As the process pressure increased, the etch rate of the HfAlO3 thin films increased. The chemical state of the etched surfaces was investigated with X-ray photoelectron spectroscopy. According to the results, the etching of HfAlO3 thin film follows the ion-assisted chemical etching.

      • UICC/AJCC 제7판 위암 병기 분류법은 제6판 분류법에 비하여 예후 예측을 증진시키는가?

        하태경,김현자,권성준,Ha, Tae-Kyung,Kim, Hyun-Ja,Kwon, Sung-Joon 대한위암학회 2009 대한위암학회지 Vol.9 No.4

        목적: 제6판 UICC TNM 분류법과 비교하여 새로 개정될 제7판 분류법이 위암 환자들의 예후를 예측하는데 어떠한 차이점이 있는지를 그 유용성과 함께 비교 분석한다. 대상 및 방법: 1992년 6월부터 2006년 12월 사이에 한양대학교병원 외과에서 위암으로 수술 받은 1,633명을 대상으로 제6판 및 제7판(예정) UICC TNM 병기분류법에 따른 예후 예측과 관련된 사항들을 비교 분석하였다. 결과: 제7판 분류에 의한 T2와 T3 사이 생존율의 차이가 유의하지 않았으나 N0, N1, N2, N3a, N3b 사이 생존율은 모두 유의한 차이를 보였다. 제7판에 따른 병기 III와 병기 IV 사이의 생존율 차이는 유의하였으나 병기 Ia와 Ib사이, Ib와 IIa사이, IIa와 IIb사이, IIb와 IIIa 사이의 생존율 차이는 유의하지 않았다. 동일병기로 분류되었으나 구성요소의 차이에 따라 생존율의 동질성을 확보하지 못하는 경우가 병기 IV를 제외하면 제6판보다 제7판에서 더 많았다. 결론: 제7판 분류법은 제6판 분류법에 비하여 너무 복잡하게 구성되어 있으며, 서로 다른 병기 사이의 생존율의 차별화나 동일 병기를 이루고 있는 서로 다른 인자로 구성된 경우들 사이에서의 생존율의 동질성 평가에서 부족하였다. 그러나 근치 인자와 비근치 인자를 같은 병기로 구분한 제6판의 병기 IV 분류 기준을 수정하여 서로 다른 병기로 분리 해 놓은 제7판에서의 변화는 적절하다고 평가할 수 있겠다. Purpose: We evaluated the efficacy and prognostic predictability of the $7^{th}$ UICC TNM classification compared to $6^{th}$ UICC TNM classification in patients with gastric cancer. Materials and Methods: Between June 1992 and December 2006, 1,633 patients with gastric cancer who had undergone gastric surgery and who had been analyzed by the $6^{th}$ UICC method were analyzed using the new $7^{th}$ UICC system. Results: Significant differences in 5-year survival rates were observed for $7^{th}$ UICC N0, N1, N2, N3a, and N3b compared to $6^{th}$ UICC. There were no significant differences in 5-year survival rates between T2 and T3. Distinct survival differences were present between stage III (IIIa, IIIb, and IIIc) and stage IV in $7^{th}$ UICC. Significant differences in 5-year survival rates were not expected for Ia versus Ib, Ib versus IIa, and IIb versus IIIa. The survival rates for the same stages were not homogeneously differentiated by $7^{th}$ UICC except for stage IV. Conclusion: The $7^{th}$ UICC classification system is not better able to predict patient survival compared to 6th UICC in patients with gastric cancer, but is better for accurate prognosis of patients with stage IV gastric cancer.

      • KCI등재

        Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

        하태경,우종창,김관하,김창일 한국전기전자재료학회 2010 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.5

        Recently, silicon etching have received much attention for display industry, nano imprint technology, silicon photonics, and MEMS application. After the etching process, removing of etch mask and residue of sidewall is very important. The investigation of the etched mask removing was carried out by using the ashing, HF dipping and acid cleaning process. Experiment shows that oxygen component of reactive gas and photoresist react with silicon and converting them into the mask fence. It is very difficult to remove by using ashing or acid cleaning process because mask fence consisted of Si and O compounds. However, dilute HF dipping is very effective process for SiOx layer removing. Finally, we found optimized condition for etched mask removing.

      • KCI등재

        중학교 생물 수업에서 동기 유발 전략을 활용한 4E&E 모형의 학습 효과

        하태경,심규철,김현섭,박영철 韓國生物敎育學會 2008 생물교육 Vol.36 No.2

        The purpose of this study was to find out the effects of 4E&E Model using learning motivation in middle school biology. The model consists of 4 cycling phases(engagement, exploration, explanation, expansion) and 1 phase(evaluation) applying phases to each phases(evaluation). The subjects were 200 seventh grade students in D middle school, Chungnam: the control group of 99 seventh graders, and experimental one of 101 seventh graders. Both average scores of academic achievement and scientific inquiry ability were significantly different between control and experimental groups. 4E&E Model using learning motivation can be effective in improving in terms of knowledge achievement and scientific inquiry ability. We found that the 4E&E Model using motivational learning stimulates the learners to be immersed in instruction, and this model has potentials to educate the students in science education.

      • KCI등재

        O<sub>2</sub>/BCl<sub>3</sub>/Ar 플라즈마를 이용한 HfAlO<sub>3</sub> 박막의 식각특성 연구

        하태경,우종창,김창일,Ha, Tae-Kyung,Woo, Jong-Chang,Kim, Chang-Il 한국전기전자재료학회 2010 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.12

        In this study, $HfAlO_3$ thin films using gate insulator of MOSFET were etched in inductively coupled plasma. The etch characteristics of the $HfAlO_3$ thin films has been investigated by varying $O_2/BCl_3$/Ar gas mixing ratio, a RF power, a DC bias voltage and a process pressure. As the $O_2$ concentration increases further, $HfAlO_3$ was redeposited. As increasing RF power and DC bias voltage, etch rates of the $HfAlO_3$ thin films increased. Whereas, as decreasing of the process pressure, etch rates of the $HfAlO_3$ thin films increased. The chemical reaction on the surface of the etched the $HfAlO_3$ thin films was investigated with X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). These peaks moved a binding energy. This chemical shift indicates that there are chemical reactions between the $HfAlO_3$ thin films and radicals and the resulting etch by-products remain on the surface.

      • KCI등재후보

        UICC/AJCC 제7판 위암 병기 분류법은 제6판 분류법에 비하여 예후 예측을 증진시키는가?

        하태경,김현자,권성준 대한위암학회 2009 Journal of gastric cancer Vol.9 No.4

        목적: 제6판 UICC TNM 분류법과 비교하여 새로 개정될 제7판 분류법이 위암 환자들의 예후를 예측하는데 어떠한 차이점이 있는지를 그 유용성과 함께 비교 분석한다. 대상 및 방법: 1992년 6월부터 2006년 12월 사이에 한양대학교병원 외과에서 위암으로 수술 받은 1,633명을 대상으로 제6판 및 제7판(예정) UICC TNM 병기분류법에 따른 예후 예측과 관련된 사항들을 비교 분석하였다. 결과: 제7판 분류에 의한 T2와 T3 사이 생존율의 차이가 유의하지 않았으나 N0, N1, N2, N3a, N3b 사이 생존율은 모두 유의한 차이를 보였다. 제7판에 따른 병기 III와 병기 IV 사이의 생존율 차이는 유의하였으나 병기 Ia와 Ib사이, Ib와 IIa사이, IIa와 IIb사이, IIb와 IIIa 사이의 생존율 차이는 유의하지 않았다. 동일병기로 분류되었으나 구성요소의 차이에 따라 생존율의 동질성을 확보하지 못하는 경우가 병기 IV를 제외하면 제6판보다 제7판에서 더 많았다. 결론: 제7판 분류법은 제6판 분류법에 비하여 너무 복잡하게 구성되어 있으며, 서로 다른 병기 사이의 생존율의 차별화나 동일 병기를 이루고 있는 서로 다른 인자로 구성된 경우들 사이에서의 생존율의 동질성 평가에서 부족하였다. 그러나 근치 인자와 비근치 인자를 같은 병기로 구분한 제6판의 병기 IV 분류 기준을 수정하여 서로 다른 병기로 분리 해 놓은 제7판에서의 변화는 적절하다고 평가할 수 있겠다.

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