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RFID를 응용한 콘크리트 타설 모니터링 시스템의 적용방안
문성우,홍승문,Moon, Sung-Woo,Hong, Seung-Moon 한국건설관리학회 2007 건설관리 : 한국건설관리학회 학회지 Vol.8 No.3
최근 유비쿼터스 관련 기술을 건설관리에 적용하고자 하는 노력이 진행되고 있다 유비쿼터스 기술을 건설관리에 도입하기 위해서는 웹 환경의 사용자 환경뿐만 아니라 하드웨어와 소프트웨어 기술을 접목해야 한다. 하드웨어와 소프트웨어를 융합함으로써 건설 프로세스 상에서 생성되는 데이터를 실시간으로 획득하여 신속하게 진도현황을 파악할 수 있다. 본 논문의 목적은 RFID (Radio Frequency Identification) 기술을 응용하여 콘크리트 타설 프로세스 상의 정보관리를 개선하는 것이다. 연구 수행을 위해서 RFID 기술을 기반으로 하는 콘크리트 모니터링 프로세스를 수립했다. 또한 RFID 리더기와 태그를 사용하여 콘크리트 타설 프로세스 상에서 생성되는 데이터를 자동으로 처리하는 u-CPS (Ubiquitous Concrete Pour System)의 프로토타입을 개발했으며, 아파트 타설현장에 적용되어 시스템의 적용성을 검증했다. H-CPS는 콘크리트 타설 프로세스 상에서 생산과 품질정보를 제공하여 레미콘 트럭의 배치간격 조정 등 원활한 작업계획을 세우기 위한 의사결정 정보를 제공하는 것으로 나타났다. A ubiquitous environment in construction should be developed integrating hardware and software systems. The objective of this paper is to study the feasibility of applying the RFID technology to the concrete pour process, and improve the effectiveness of data exchange A pilot system of u-CPS (Ubiquitous Concrete Pour System) has been developed to test the feasibility. The pilot can automatically generate the data for concrete pour work such as departure time, arrival time, concrete pour time. Construction managers can keep track of the progress of concrete pour work using the information. A case study was done for a building construction using the pilot system, the result of which demonstrated that the RFID-base system can help improve the effectiveness of data communication during the concrete pour process.
포스터 8 : 자동 임상화학 분석 검사장비 AU-5810 성능적격성 평가 경험
이명종,홍승문,최진기,이영애,김종훈,임가영,서영익,이미경,김준년,김명한,조남선 대한임상병리사협회 2013 임상수혈검사학회 발표자료집 Vol.2013 No.-
배경(Background): 대한적십자사 중앙혈액검사센터는 2013년 9월 자동 임상화학 분석 검사장비인 AU-5810(Beckman Coulter, USA)을 새로 도입하면서 장비의 성능적격성 평가(PerformanceQualification, PQ)를 시행하였다. 방법(Methods): 성능적격성 평가는 정밀도 평가(검사내, 검사간, 검사일간), 정확도 평가, 직선성 평가, 장비간 상관성 평가, Carry-Over 평가로 구분하여 실시하였다. 정밀도 평가는ALT, TP (Total protein)항목으로 시행하였으며 평가물질은 참고치내 혈청과 참고치를 벗어난 혈청, 정도관리물질 Level 1(저농도), Level 2(고농도)로 구성하였다. 검사내 정밀도 평가및 검사간 정밀도 평가는 검체를 20회 반복 측정하였다. 검사일간 정밀도 평가는 10일 이상에 걸쳐 반복 측정하였다. 정확도 평가는 ALT, TP 항목에 대하여 실시하였으며 Level 1(저농도),Level 2(고농도)를 3회 측정하였고 고농도의 검체를 저농도의 검체로 희석하여 농도를 달리한 5개 검체를 3회 측정하여 기대치에 대한 실측치의 상관계수를 평가하였다. 직선성 평가는 ALT, TP, ALB (Albumin), BUN (Blood Urea Nitrogen), AST, TCH (Total Cholesterol)항목에 대하여 5가지 이상의 농도 값을 가진 물질을 사용하여 검사항목별, 농도별로 2회 반복측정하여 직선성을 평가하였다. 장비간 상관성 평가는 헌혈자 검체 중 정상 값, 높은 값, 낮은값이 잘 분포된 50검체를 AU-640장비(Olympus, USA)와 ALT, TP, ALB, BUN, AST, TCH항목를 비교하였다. Carry-over 평가는 ALT 기준으로 고농도와 저농도 검체를 준비하여 먼저 고농도 검체를 4회, 다음에 저농도 검체를 4회 연속 측정하였다. 결과(Results): 검사내 정밀도에서 CV 값은 ALT, TP 각각 참고치내 혈청에서는 1.23, 0.65, 참고치를 벗어난 혈청에서는 0.52, 1.03, 정도관리물질 Level 1 1.46, 0.96, 정도관리물질Level 2는 0.65, 0.66이었다. 검사간 정밀도에서는 CV 값이 ALT, TP 각각 참고치내 혈청에서는 1.47, 1.49, 참고치를 벗어난 혈청에서는 0.67, 1.44, 정도관리물질 Level 1은 2.36, 1.53,정도관리물질 Level 2는 1.43, 1.22이었다. 검사일간 정밀도 평가의 CV 값은 ALT, TP 각각 참고치내 혈청에서는 3.04, 1.38, 참고치를 벗어난 혈청에서는 1.03, 2.24, 정도관리물질 Level1은 2.81, 1.71, 정도관리물질 Level 2는 1.58, 1.45로 정밀도 CV 값이 모두 5% 이내로 허용기준에 적합하였다. 정확도 평가는 기대치에 대한 실측치의 상관계수가 ALT 0.9988, TP0.9982로 0.975~1 이내의 허용기준에 포함되어 적합하였다. 직선성 평가는 ALT 0.9992, TP0.9996, ALB 0.9988, BUN 1, AST 0.9876, TCH 0.9999의 상관계수를 보여 허용기준인 0.975 ~ 1 이내로 적합하였다. 장비간 상관성 평가에서는 AU-5810과 AU-640을 비교 평가하여 ALT 1, TP 0.9866, ALB 0.9885, BUN 0.9993, AST 1, TCH 0.9940의 상관계수를 보여 허용기준 0.975<R≤1 (단, TP, ALB은 0.950 이상)에 포함되어 적합하였다. Carry over평가결과는 0.1%였으며 허용기준 1.0% 미만이므로 적합하였다. 고찰(Discussion): 자동 임상화학 분석 검사장비 AU-5810은 성능적격성 평가항목에서 모두 적합하여 헌혈자 선별검사를 시행하기에 적절한 장비로 생각된다.
도선에 커플링 되는 고출력 전자파에 의한 CMOS IC의 피해 효과 및 회복 시간
황선묵(Sun-Mook Hwang),홍주일(Joo-Il Hong),한승문(Seung-Moon Han),허창수(Chang-Su Huh) 한국전자파학회 2008 한국전자파학회논문지 Vol.19 No.6
본 논문은 고출력 전자파에 따른 CMOS IC 소자의 피해 효과와 회복 시간을 알아보았다. 고출력 전자파 발생장치는 마그네트론을 사용하였고, CMOS 인버터의 오동작/부동작 판별법은 유관 식별이 가능한 LED 회로로 구성하였다. 그리고 고출력 전자파에 의해 오동작된 CMOS 인버터의 전원 전류와 회복 시간을 관찰하였다. 그 결과, 전계 강도가 약 9.9 ㎸/m에서의 전원 전류는 정상 전류의 2.14배가 증가하였다. 이는 래치업에 의한 CMOS 인버터가 오작동된 것을 확인할 수 있었다. 또한, COMS 인버터의 파괴는 컴포넌트, 온칩와이어, 그리고 본딩와이어에서 다른 형태로 관찰하였다. 위 실험 결과로, 전자 장비의 고출력 전자파 장해에 대한 이해를 돕는데 기초 자료로 활용될 것으로 예측된다. This paper examines the damage effect and delay time of CMOS integrated circuits device with coupling caused by high power microwaves. The waveguide and magnetron was employed to study the influence of high power microwaves on CMOS inverters. The CMOS inverters were composed of a LED circuit for visual discernment. Also CMOS inverters broken by high power microwave is observed with supply current and delay time. When the power supply current was increased 2.14 times for normal current at 9.9 ㎸/m, the CMOS inverter was broken by latch-up. Three different types of damage were observed by microscopic analysis: component, onchipwire, and bondwire destruction. Based on the results, CMOS inverters can be applied to database to elucidate the effects of microwaves on electronic equipment.
“구” 노이즈 개선을 위한 변속기 캐이싱과 클러치의 영향성 고찰
심현수(Hyunsoo Sim),홍승문(Seungmoon Hong) 한국자동차공학회 2010 한국자동차공학회 학술대회 및 전시회 Vol.2010 No.11
In development project of a new car, the optimization of noise and vibration is very important to meet customer’s satisfaction. Resonance among items is one of reasons that cause vibration and noise in vehicles. In front-wheel-driven vehicles, “Goo” noise will occur when clutch pressure plate resonance frequency reach to transmission input-shaft resonance frequency in clutch partial engagement area in engine starting torque. In this paper, experiments to investigate main factors causing resonance at components of clutch and transmission were carried out.
전자파 잔향실의 교반기 매개변수에 따른 전계 균일도 향상 방안
김광용(Kwang-Yong Kim),홍주일(Joo-Il Hong),한승문(Seung-Moon Han),두진석(Jin-Suk Doo),허창수(Chang-Su Huh),이기택(Ki-Taek Lee) 대한전기학회 2009 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2009 No.7
Reverberation chamber have become a common tool in radiated susceptibility and emission testing of electronic equipment. In a reverberation chamber, internal electromagnetic fields are mixed by metallic stirrer. Due to elimination of Polarization characteristic in reverberation chamber, electromagnetic wave reached to EUT all aspect angle. Hence, Field distribution in overmode reverberation chamber can be presented by chi-square distribution. Field uniformity in reverberation chamber have to satisfy standard deviation below 3㏈ and is influenced by mechanical stirrer. This paper investigates relationship between change of stirrer parameter and field uniformity in reverberation chamber.