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폴리설폰 분리막을 이용한 NF3, N2, O2 분리 특성 연구
박완근,이민우,가명진,장원철 한국막학회 2015 한국막학회 총회 및 학술발표회 Vol.2015 No.05
NF3 기체는 반도체, 디스플레이 산업에서 cleaning 또는 etching 가스로 많이 이용되고 있다. 6대 온실가스에 속하지는 않으나 차기 온실가스로 지구온난화지 수도 이산화 탄소에 비해 17200배 높다. 최근 NF3를 분리 농축 회수에 있어서 고분자 분리막, 복합막등의 다양한 연구가 이루어지고 있다. 하지만 실제 공정설계, 공정 최적화를 이루기 위한 분리특성의 연구가 미비한 상태이다. 이에 따라 본 연구에서는 NF3와 N2, O2의 온도와 압력에 따른 투과특성을 확인하고, 혼합기체에서의 주입농도와 Stage-cut에 따른 농축농도와 회수율에 대하여 연구하였다.
반도체 폐가스로부터 SF<sub>6</sub> 분리 농축시스템
박완근,이민우,가명진,장원철 한국공업화학회 2015 한국공업화학회 연구논문 초록집 Vol.2015 No.1
SF6 기체는 etching 또는 cleaning 가스로 반도체 및 디스플레이 산업에서 사용되고 있다. 이 가스는 물리 화학적으로 안정하여 높은 지구온난화지수 (CO<sub>2</sub>의 23,900배)로 알려져 있으며, 6대 온실기체로 지정되어 있다. SF<sub>6</sub>의 분리에 다양한 기술로 연구가 진행되고 있지만, 타 기술에 비해 분리막을 이용한 기체분리 공정이 경쟁력이 우수하다. 선행연구로 Polysulfone 재질의 중공사 고분자 분리막을 통한 SF6 분리 공정의 공정변수(Stage cut, 공급기체 조성) 변화에 따른 최적화 연구가 수행되었다. 이의 연장선으로 본 연구에서 대용량 중공사 분리막 시스템을 구축하였고, 이의 성능평가 연구를 수행하였다.