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질소 이온주입법에 의한 BN 박막의 계면구조 개선 및 밀착력 향상
변응선(E. Byon),이성훈(S.H. Lee),이상로(S.R. Lee),이구현(K.H. Lee),한승희(S.H. Han),이응직(E.J. Lee),윤재홍(J.H. Youn) 한국진공학회(ASCT) 1999 Applied Science and Convergence Technology Vol.8 No.2
ME-ARE법에 의해 합성된 c-BN 박막의 초기성장층 및 이의 계면구조를 개선하고 밀착력을 향상시키고자 후처리로서 질소이온을 주입 (PSII-N^+)하였다. 이온 주입량이 c-BN 박막의 미세구조, 계면구조에 미치는 영향에 대하여 조사하였으며 이와 함께 박막의 경도 및 박리특성에 미치는 효과를 고찰하였다. 질소이온 주입시 약 5.0×10^(15)atoms/㎠ 이상의 주입량에서부터 IR스펙트럼의 변화가 보이기 시작하였으며 5.0×10^(16)atoms/㎠ 이상의 주입량 이상에서부터 급격한 c-BN→ h-BN 상전환이 일어났다. HRTEM관찰 결과, 이온주입에 의해, sp² 결합을 하고 있는 취약한 초기성장층의 결정구조 개선을 확인할 수 있었으며 이온주입된 박막의 경도 및 박리거동을 비교하여 이온주입 및 주입량에 따른 경도 및 박리 상관관계를 설명하였다. The post ion implantation has been applied to modify early-grown BN layer and improve the adhesion of the BN films. The effect of ion implantation doses on microstructure and interlayer was investigated by FTIR and HRTEM. And the hardness and delamination life time of N^+-implanted BN films were measured. With increasing the ion dose up to 5.0×10^(16)atoms/㎠, the change of IR spectrum is observed. At 5.0×10^(16) atoms/㎠, a drastic transition of cubic phase into hexagonal phase is detected. The change of microstructure of early-grown layers by ion implantation is confirmed using HRTEM. Both microhardness and delamination life time of BN films increase with ion dose. The modification model of early-grown BN layers is briefly discussed based on the displacement per atom and excess boron in the BN film induced by ion irradiation.
하동명(Ha, D.M.),유현식(Yoo, H.S.),강석환(Kang, S.H.),박동진(Park, D.J.),정진용(Jeong, J.Y.),이명호(Lee, M.H.),최원영(Choi, W.Y.),한승희(Han, S.H.) 한국화재소방학회 2008 한국화재소방학회 학술대회 논문집 Vol.2008 No.춘계
본 연구에서는 가연성혼합물의 구성하는 각 순수성분의 연소열과 기상 조성을 이용하여 폭발한계를 예측하였다. 제시된 방법론에 의한 계산값은 적은 오차범위에서 문헌값과 일치하였다. 따라서 제시된 결과로부터 제시된 방법론이 다른 가연성혼합물의 폭굉한계 예측에 폭넓게 적용되기를 기대한다. In this study, the lower detonation limits(LDL) and the upper detonation limits(UDL) of the flammable substances predicted with the appropriate use of the heat of combustion and the stoichiometric coefficient. The values calculated by the proposed equations were a good agreement with literature data within a few percent. From a given results, It is to be hoped that this methodology will contribute to the estimation of the detonation limits of for other flammable substances.
표면 조성분석의 정량화를 위한 Pt - Co 합금박막 표준시료의 개발 및 공동분석
김경중(K. J. Kim),문대원(D. W. Moon),한명섭(M. S. Han),강희재(H. J. Kang),김준곤(J. K. Kim),한승희(S. H. Han),이중환(J. H. Lee),윤선진(S. J. Yun),신광수(K. S. Shin),김차연(C. Y. Kim),김태형(T. H. Kim),이동석(D. S. Lee),김영남(Y. N. Kim),최홍 한국진공학회(ASCT) 1998 Applied Science and Convergence Technology Vol.7 No.3
Si 기판 위에 3종의 Pt-Co 합금박막 (Pt66-Co34, Pt40-Co60, Pt18-Co82)과 순수한 Pt, Co 박막 시료를 제작하여 표면 조성분석의 정량화 및 표준화를 위한 표준시료로 제안하였다. in-situ X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) 분석에 의해 증착된 이원 합금박막의 조성이 정확히 조절되었으며, 합금박막의 실제 조성은 유도결합플라즈마-원자방출분광법 (inductively coupled plasma-atomic emission spectroscopy: ICP-AES)과 러더퍼드 후방산란분광법 (Rutherford back-scattering spectrometry: RBS)에 의해 결정되었다. in-situ XPS 결과와 ICP에 의한 조성을 비교한 결과 매질 효과를 고려하면 비교적 정확한 조성을 구할 수 있음이 확인되었다. 이 시료를 이용한 XPS와 Auger electron spectroscopy(AES)에 의한 국내 공동분석 결과는 약 4% 내외의 큰 편차를 보이고 있지만, 평균 조성 값은 약 1%의 오차 범위 내에서 두 방법에 의한 결과가 서로 잘 일치하였다. 이온빔 스퍼터링에 의해 Pt 조성이 증가된 표면층이 형성되어 정확한 조성분석을 위해서는 선택스퍼터링에 의한 표면 변형을 정량적으로 이해하여야 함을 알았다. Pure Pt, Co and their alloy thin films with three different compositions (Pt66-Co34, Pt40-Co60 and Pt18-Co82) were deposited on Si(100) wafers and proposed as a set of certified reference materials (CRM) for the quantification and standardization of surface compositional analysis. The compositions of the binary alloy thin films were controlled by in-situ XPS analyses and the certified compositions of the films have been determined by ICP-AES and RBS analyses after thin film growth. Through comparison of the compositions determined by in-situ XPS with those by ICP, relatively accurate compositions could be obtained with a matrix effect correction. Standard deviations of XPS and AES round robin tests with the Pt-Co alloy thin films were large up to about 4%. On the other hand, the average compositions of the Pt-Co alloy thin films by two methods were in a good agreement within 1 %. The formation of a Pt rich surface layer by ion beam sputtering indicates that the surface modification by preferential sputtering must be understood for a better compositional analysis.
무전해 니켈도금방법을 이용한 EMI 복합분말제조에 관한 연구
정인,윤성렬,한승희,나재훈,김창욱,Joung, I.,Yoon, S.R.,Han, S.N.,Na, J.H.,Kim, C.W. 한국재료학회 1998 한국재료학회지 Vol.8 No.5
EMI 차폐재를 이용하여 전자파 장해를 극복하는 방법에는 금속판을 이용하는 방법과 플라스틱 표면에 전도층을 형성하는 방법, 전도성 충진제를 플라스틱에 혼입하는 방법이 대표적으로 사용되고 있으나 각각의 방법마다 장단점이 존재하기 때문에 많은 연구들의 목적은 전자 기기 본체의 무게를 증가시키지 않고 최대한 전자파 차폐 효율을 높이는 물질 개발에 목적을 두고 있다. 이러한 목적을 위하여 본 연구에서는 비중이 낮고 판상형인 운모 분체 펴면 위에 무전해 니켈 도금을 시행하므로써 전도성을 지니는 금속화운모를 제조하여, 이를 EMI차폐용 분체로서 사용하였다. 또한 이 EMI 차폐용 분체의 특성을 고찰 하였다. 미분체 운모 표면에 무전해 니켈막 금속화운모 미분체를 도료화하여 전자파 차폐 효과를 측정한 결과 최고 63dB를 나타내었다. 이 값은 구리 금속판을 이용한 전자파 차폐의 90dB에는 못 미치지만, 도포 횟수를 6회 이상 시행했을 경우 전자파 차폐 효과가 약 10dB 정도가 증가함을 알 수 있었고, 넓은 범위의 전자파 차폐 효과를 거둘 수 있는 특징이 있다. There are various shielding materials that have been considered; the use of a metallic plate or the layering of a conductive material on a plastic surface and the insertion of filler in plastics. All of these methods have shown their merits and weakness. Therefore, many studies have concentrated on developing materials that effectively cut down EMI without increase in weights of housing materials. In these respects, this study has focused on investigations of the shielding effect of materials that have electroless nickel plating on the lamella structured micro particles surface with low specific gravity. When a film of electroless nickel were plated on a micro particle surfaces and then mixed with paint, the electromagnetic shielding effects were measured as 63dB. Although these effects were less than that 90dB of the copper plate, trials in a series of 6 times increased the shielding effect by IOdB and is applicable to wide range of EMI shielding.