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Polarograph법에 의한 Cadmium-Acetato Complexes에 관한 연구
황정의,정종재,손무룡,박유철 慶北大學校 1969 論文集 Vol.13 No.-
HAc와 NaAc용액을 혼합한 완충용액에서 Hume과 DeFord의 Polarograph 법으로Cadmium의 Acetato Complex의 안정도상수 및 그 조성을 Ion 강도 0.4, 0.7 및 2.0와 15℃, 20℃, 25℃ 및 30℃ 의 온도에서 각각 측정하였다. 초산Ion의 농도가 약 0.2 mole/ℓ 이상에서는 CdA_c^+, CdA_c2 및 CdA_c3- 3종의 착체가 존재하나 약 0.2 mole/ℓ 이하에서는 CdA_c3- 착체는 존재치 않는다. 실험범위내에서 측정된 안정도 상수(K_ijk)와 (T_k)사이에는 Log K_ik=A_i/T_k+B_i란 일반식이 성립하여 안정도상수와 Ion강도 (μj) 사이에는 LogK_ij=A_iμj+B_i란 일반식이 주어짐을 알았다.
신영민(Yeong-Min Sin),손영욱(Yeong Uk Son),이선화(Seon Hwa Lee),정지윤(Ji Yoon Jeong),원영준(Young Jun Won),이창희(Chang Hee Lee),김우성(Woo Seong Kim),채갑용(Kab-Ryong Chae),홍무기(Moo Ki Hong) 한국농약과학회 2005 농약과학회지 Vol.9 No.1
For the removal of residual pesticides in ginseng extracts, we estabilished the removal process using pilot plant system, the characteristic components of ginseng maintains only. According to the agricultural chemical removal process, we monitored residual pesticides of 155 species, compraing the characteristic components of ginseng. The process of 4 types of agricultural chemical removal process compared to the control test was appeared that the residual pesticides were eliminated. As results above, the most efficient method of the possibility of raising the removal ratio of the agricultural chemical construction process was dried process of hexane after dipping and also remaining quality of the hexane appeared lowly. Besides, the removal process had an effected on the ginsenocide og ginseng, only the residual pesticides will be able to remove.
이택홍,박두선,손무용,Lee, Taeck Hong,Park, Doo Seon,Son, Moo Ryong 대한화학회 1998 대한화학회지 Vol.42 No.5
가스분석에서 극미량 성분분석은 반도체 관련 산업의 발달과 더불어 매우 중요하다. 특히 반도체 생산설비 중 가스공급시스템의 공기성분에 의한 오염은 제조자에게 어려움을 제공해 왔다. 그래서 공기성분의 분석은 반도체의 품질조절에 매우 중요하다. 본 연구에서는 가스분석에서 범용으로 사용되는 열전도도 검출기를 장착한 가스크로마토그래프와 액체질소트랩을 이용하여 헬륨과 수소 중의 질소와 아르곤성분을 분석하였다. 농축법으로 결정된 미지 시료의 농도를 다른 종류의 검출기와 비교 분석하였다. 이 방법에 의해서 결정된 농도는 결정된 확장불확도 범위 내에서 만족할 만한 결과를 보여 주었다. Analysis of trace impurities in the gases has been very important with the development of semi-conductor related industry. Particularly, the contamination of the gas handling systems in a semi-conductor plant by the air has been a trouble to the manufacturers. Thus, the analysis of the air components in the system has been a task to the analysts. In this study, we report the analysis data with a expanded uncertainty for the trace impurities of nitrogen and argon in the bulk helium and hydrogen. All data show a good correspondence, exhibiting reliable statistical error ranges.