이중 초점 렌즈를 이용한 홀로그램 정보저장장치의 실험적 검증

박우제,김성필,송석호,오차환,김필수,김지덕,이홍석 한국통신학회 2004 한국통신학회 기타 간행물 Vol.2004 No.11

표면 부조 홀로그램 마스크를 이용한 내부전반사 홀로그래픽 노광기술

박우제,이준섭,송석호,이성진,김태현,Park, Woo-Jae,Lee, Joon-Sub,Song, Seok-Ho,Lee, Sung-Jin,Kim, Tae-Hyun 한국광학회 2009 한국광학회지 Vol.20 No.3

내부전반사 홀로그래픽 노광 기술은 넓은 면적(6")을 아주 미세하게($0.35{\mu}m$) 노광할 수 있는 차세대 광 노광 기술로서 평가받고 있다. 기존의 광 노광 기술은 $1.5{\mu}m/6}$ 이상이 가능한 (LCD용 노광기)과 $0.2{\mu}m/1.5"$ 이하(반도체용 노광기)의 패턴을 노광할 수 있도록 양분되어 발전하여 왔다. 이에 반하여 내부전반사 홀로그래픽 노광 기술은 일괄 노광 면적은 6"로 유지하면서 $0.35{\mu}m$에서 $1.5{\mu}m$의 사이의 패턴을 구현할 수 있는 특별한 능력을 갖고 있다. 이는 기존 광 노광 방식에서 반드시 필요로 하는 결상 광학계를 사용하지 않고 홀로그램 마스크를 사용하기 때문이다. 본 논문에서는 내부전반사 홀로그래픽 노광 기술의 핵심기술인 홀로그램 마스크를 표면 부조 홀로그램 형태로 구현할 수 있는 핵심 인자가 무엇인지를 분석하여 최적화 하는 방법에 대해 논하고, 이를 이용하여 노광한 미세패턴에 대한 결과를 실험적으로 평가하였다. Holographic lithography is one of the potential technologies for next generation lithography which can print large areas (6") as well as very fine patterns ($0.35{\mu}m$). Usually, photolithography has been developed with two target purposes. One was for LCD applications which require large areas (over 6") and micro pattern (over $1.5{\mu}m$) exposure. The other was for semiconductor applications which require small areas (1.5") and nano pattern (under $0.2{\mu}m$) exposure. However, holographic lithography can print fine patterns from $0.35{\mu}m$ to $1.5{\mu}m$ keeping the exposure area inside 6". This is one of the great advantages in order to realize high speed fine pattern photolithography. How? It is because holographic lithography is taking holographic optics instead of projection optics. A hologram mask is the key component of holographic optics, which can perform the same function as projection optics. In this paper, Surface-Relief TIR Hologram Mask technology is introduced, and enables more robust hologram masks than those previously reported that were formed in photopolymer recording materials. We describe the important parameters in the fabrication process and their optimization, and we evaluate the patterns printed from the surface-relief TIR hologram masks.

비트 방식 홀로그램 정보저장 장치의 다중화 방법

박우제,김성필,송석호,오차환,김필수,김지덕,Park, Woo-Jae,Kim, Sung-Phil,Song, Seok-Ho,Oh, Cha-Hwan,Kim, Pill-Soo,Kim, Ji-Deog 한국광학회 2005 한국광학회지 Vol.16 No.5

비트 방식 홀로그램 정보저장 장치는 페이지 방식에 비해서 상용화 하는데 있어서 구성이 간단하고 작은 크기로 설계가 유리한 점 등의 많은 장점을 가지고 있다. 하지만 페이지 방식처럼 하나의 기록점에 2차원 면 정보를 이용해서 높은 저장밀도를 기대 할 수 없는 대신 다중화의 다양화가 필요하다. 본 논문에서는 회전 다중화와 각도 다중화를 동시에 용이하게 할 수 있는 비트 방식 홀로그램 정보저장 장치용 광학계를 제안하고 광학계의 선택도 및 특성 분석, 초점면에 72개의 비트 홀로그램 다중화 실험, 기존 DVD의 10배 정도되는 단위면적당 저장밀도 산출로 본 광학계의 가능성을 검증하였다. The bit type holographic data storage is known to have many advantages in instrumentation for its compactness and simplicity, when compared to the 2-D page type holographic data storage. But it requires various multiplexing method for one bit hologram to achieve high storage densities. We propose an optical architecture for bit type holographic data storage which utilizes peristrophic and angular multiplexing simultaneously. Selectivity and characterization are analyzed for the proposed architecture. The possible number of multiplexing(72 bit holograms) and maximum storage densities calculation is confirmed experimentally.

양수발전소 「방수로 수문 개폐장치」 개선을 통한 신뢰도 확보

박우제(Park Woo Je),박현준(Park Hyun Jun) 대한전기학회 2023 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2023 No.7

대학생의 스키용품 구매 시 선택속성에 대한 중요도-성취도 분석

박우제(Park, Wooje),진대근(Jin, Daegeun),조송현(Cho, Songhyun) 한국스포츠산업경영학회 2021 한국스포츠산업경영학회지 Vol.26 No.4

본 연구는 대학생의 스키용품 구매 시 선택속성에 대한 중요도와 성취도 분석을 통해 개선이 필요한 항목의 우선순위를 도출하여 향후 스키용품 관련업체들의 효율적 마케팅전략 수립에 활용될 수 있는 기초자료를 제공하는데 목적이 있다. 이러한 목적을 달성하기 위하여 한국대학스키연맹 소속 33개 대학의 스키부원들을 모집단으로 선정하였으며, 표집방법은 편의표집방법을 이용하여 총 319명을 표집하였다. 이 중 불성실한 응답으로 판단되는 30명의 자료를 제외한 289명의 자료를 실제 분석에 사용하였다. 자료분석은 SPSS 26.0 통계프로그램을 이용하여 빈도분석, 탐색적 요인분석, Cronbach’s α 계수 산출, 대응표본 t -test, IPA를 실시하였으며, 이러한 절차에 따른 결과는 다음과 같다. 첫째, 스키용품 구매 시 선택속성에 대한 중요도 순위를 분석한 결과, ‘안정성’, ‘기술구사 용이성’, ‘편안함’, ‘무게’, ‘가격대비 가치’ 순으로 나타났으며, 성취도는 ‘수입 브랜드’, ‘브랜드 인지도’, ‘안전성’, ‘고급 브랜드’, ‘대회협찬 브랜드’ 순으로 나타났다. 둘째, 스키용품 구매 시 선택속성에 대한 중요도와 성취도 간의 차이를 분석한 결과, 디자인 요인의 ‘모양’을 제외한 모든 문항에서 유의한 차이가 있는 것으로 나타났다. 서비스, 가격, 기능, 디자인 요인의 모든 문항은 중요도보다 성취도가 낮은 것으로 나타났으며, 브랜드 요인의 모든 문항은 중요도보다 성취도가 높은 것으로 나타났다. 셋째, 스키용품 구매 시 선택속성에 대한 IPA 결과, Ⅰ사분면은 ‘편안함’, ‘소재 구성요소’, ‘안정성’ 등 8개 문항이 포함되었으며, Ⅱ사분면에는 ‘A/S 용이성’, ‘A/S 무상 여부’, ‘A/S 전문성’ 등 7개 문항이 포함되었다. Ⅲ사분면에는 ‘A/S 접근성’, ‘A/S 기간’ 등 2개 문항이 포함되었으며, Ⅳ 사분면에는 ‘고급 브랜드’, ‘유행 브랜드’, ‘수입 브랜드’ 등 5개 문항이 포함되었다. This study aims to provide basic data that can be used to establish efficient marketing strategies for ski product-related companies in the future by prioritizing items that need improvement through analysis of the importance and performance of university students’ selection attributes in ski product purchase. For this purpose, the members of the ski club of 33 universities belonging to the Korea University Ski Federation were selected as a population, and a total of 319 people were selected using convenience sampling methods. Among them, 289 data were used for the actual analysis, excluding those of 30 people who were judged to have been unfaithful responses were used for the actual analysis. The data analysis was conducted using the SPSS 26.0 statistical programs to analyze frequency analysis, exploratory factor analysis, Cronbach’s α coefficient calculation, paired sample t -test, and Importance-Performance Analysis, the findings shows as follows. First, as a result of analyzing the importance ranking of selection properties when purchasing ski goods, it was found that ‘stability,’ ‘easy to use technology,’ ‘comfortable,’ ‘weight’ and ‘value-to-value’ followed by ‘import brand,’ ‘brand awareness,’ ‘safety,’ ‘high-end brand’ and ‘competition sponsorship brand.’ Second, as a result of analyzing the difference between the importance and achievement of the optional property when purchasing ski products, there was a significant difference in all questions except the ‘look’ of design factors. Third, In the Ⅰ quadrant, eight items were included, including ‘comfort,’ ‘material composition,’ and ‘stability,’ In the Ⅱ quadrant, seven items were included, including ‘A/S service ease of use,’ ‘A/S professionalism,’ ‘low price.’ In the Ⅲ quadrant, two items were included, including ‘A/S service accessibility,’ ‘A/S service period,’ In the Ⅳ quadrant, five items were included, including ‘luxury brand,’ ‘trendy brand,’ ‘imported brand.’

발전설비 식별표시 표준화를 통한 인적실수 예방

박우제(Woo Jae Park),김창수(Chang Su Kim),장수진(Su Jin Jang) 한국유체기계학회 2019 한국유체기계학회 학술대회 논문집 Vol.2019 No.11

양수발전소 「방수로 수문 개폐장치」 개선을 통한 신뢰도 확보

박우제(Park Woo Je),박현준(Park Hyun Jun) 대한전기학회 2023 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2023 No.7

대면적 리소그래피를 위한 홀로그램 영상의 연결과 연결 영역에서의 간섭무늬 제거

이준섭,박우제,이지환,송석호,이성진,김의석,Lee, Joon-Sub,Park, Woo-Jae,Lee, Ji-Whan,Song, Soek-Ho,Lee, Sung-Jin,Kim, Oui-Serg 한국광학회 2009 한국광학회지 Vol.20 No.1

본 논문에서는 대면적 리소그래피를 위하여 홀로그램 영상을 연결하여 기록 물질에 저장하고 이를 마스크로 이용하는 노광 방법을 제안하고 구현하였으며, 홀로그램 영상을 재생하는 과정에서 발생되는 영상 연결 부분에서의 간섭 무늬를 제거하였다. 연결하고자 하는 영상은 DMD(digital micro-mirror device)로 표시하였으며, DMD 영상은 축소 광학계를 통하여 기록 물질에 저장되었다. 기록 물질은 전동 스테이지로 이동되도록 하여, DMD로 표시되는 영상이 기록 물질에 연속적으로 저장되도록 하였다. 이러한 방법으로 저장되는 연결된 영상은 재생광에 의하여 노광에 사용되는데, 재생광의 간섭성에 의하여 연결부분에 간섭무늬가 발생된다. 간섭무늬는 노이즈로 작용하는데, 다중 노광에 의한 홀로그램 영상의 기록과 재생을 이용하여 이를 제거하였다. 본 논문에서는 DMD와 전동 스테이지를 이용하여 영상을 연결하여 기록하고, 다중 노광에 의한 영상 기록 방법을 이용하여, 간섭 무늬가 제거된 연결된 영상을 구현하고 이를 리소그래피에 적용하였다. In this study, we propose an image stitching method for large-area holographic photo lithography. In this method, a hologram medium become a hologram mask for lithography. And the mask has information for stitched images. These images are recorded by signal images which are controlled with DMD (digital micro-mirror device), and serial hologram recording is achieved with a motorized linear stage. Using this method, fringe seams appear on the stitching area. To remove these fringe seams, double exposure holographic lithography is tried. Each stitched image is recorded and reconstructed with a different reference beam. The experiments confirm that fringe seams are removed.

비가간섭광을 이용한 내부전반사 홀로그래픽 리소그라피

이준섭,박우제,이지환,송석호,이성진,Lee, Joon-Sub,Park, Woo-Jae,Lee, Ji-Whan,Song, Seok-Ho,Lee, Sung-Jin 한국광학회 2009 한국광학회지 Vol.20 No.6

Recently, with increasing demand for flat-panel display product, methods for large area patterning are required. TIR (total internal reflection) holographic photo-lithography isstudied as one of the methods of large area lithography. In conventional TIR holography, light sources for hologram recording and image reconstruction are coherent beams such as laser beams. If the image is reconstructed with an incoherent light source such a UV lamp, the image noise from the coherence of light will be reduced and the UV lamp will be a better light source for large area exposure. We analyzed the effect of spectral bandwidth and angular bandwidth of the light source in image reconstruction and verified image blurring with experiments. For large area patterning which has micro-scale line width, it is expected that TIR holographic photo lithography by UV lamp will become a low-noise and low-priced technique. 최근 디스플레이 기기의 수요가 증대되면서 대면적 노광에 대한 요구가 증대되고 있는데, 내부전반사(total internal reflection: TIR)홀로그래픽 리소그라피는 대면적 노광을 위한 효과적인 방법으로 연구가 진행되고 있다. TIR 홀로그래피에서는 일반적으로 레이저를 이용하여 영상을 기록하고 재생한다. 그러나 자외선 램프와 같은 비가간섭광을 이용하여 재생한다면, 가간섭성에 의해 나타나는 영상잡음을 줄일 수 있고, 대면적 노광에도 보다 용이할 것이다. TIR 홀로그램의 재생을 위하여 자외선 램프를 이용할 때, 램프의 유한한 선폭과 확산각이 재생 영상에 미치는 영향을 분석하고, 재생패턴에 나타나는 선폭 확대 결과를 실험을 통하여 검증하였다. ${\mu}m$ 규모의 선폭을 갖는 대면적 패턴을 TIR 홀로그램으로부터 얻기 위한 재생 광원으로, 가간섭성 광원인 레이저 대신 저잡음성과 경제성을 갖춘 일반적인 자외선 램프의 사용이 가능할 것으로 기대된다.

가변 속도 이동식 마스크를 이용한 렌즈 곡면 형성

이준섭,박우제,송석호,오차환,김필수,Lee Joon-Sub,Park Woo-Jae,Song Seok-Ho,Oh Cha-Hwan,Kim Pill-Soo 한국광학회 2005 한국광학회지 Vol.16 No.6

MEMS 공정을 이용한 굴절렌즈 제작을 위하여, 슬릿 패턴을 갖는 마스크를 이동시키며 노광을 하는 가변 속도 이동식 마스크에 의한 노광 방법을 제안하였다. 감광제 면이 굴절렌즈의 곡면을 이루려면 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 조절해야 한다. 마스크의 패턴 형태와 이동 속돈 방향에 따라 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 이론적으로 분석하였으며, 감광제 박막에 임의의 곡면을 갖는 굴절렌즈 형상을 형성할 수 있음을 실험적으로 확인하였다. $100 {\mu}m$ 이상의 후막 감광제를 이용하거나, 혹은 곡면 형상을 갖는 얇은 감광제 형상을 마스크로 하여 이온식각을 수행하여 수백 ${\mu}m$ 정도의 최대높이를 갖는 렌즈 곡면형상을 제작 할 수 있었다. We propose a fabrication method for refractive lens by variable velocity moving mask lithography and slit pattern. Distribution of exposure dose should be controlled for the curved photoresist surface that works as a refractive surface. We analyze theoretically the distribution of exposure dose by change of moving velocity, moving direction of mask and the shape of mask pattern, and confirm for the curved surface experimentally. The lens could have sag height of a few of hundreds ${\mu}m$, by using thick photoresist or Deep RIE process.