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우원균 대한기계학회 1992 大韓機械學會誌 Vol.32 No.10
고령화 혹은 국제화와 같은 변화 양상은 다가오는 21세기의 새 시대를 가치기준에서 뿐만 아니라 사회환경까지도 새로운 것을 추구하도록 요구해 가고 있다. 이것은 도로교통에 있어서도 마찬 가지로 지금까지 양적인 팽창 위주로 전개되던 것이 효율을 중시하지 않으면 안 되게 되었으며 특히 20세기 후반들어 반도체 기술과 함께 급격한 발전을 거듭하고 있는 컴퓨터 기술은 정보 통신 기술과 함께 도로교통의 새로운 장을 열어 갈 것으로 예측된다. 21세기의 도로 교통을 생 각할 때, 차량 보급 대수의 증가와 함께 지금도 교통사고가 커다란 사회 문제로 대두되고 있는 추세로 볼 때, 중심이 되는 단어는 역시 '안전'과 '환경'이겠지만 그 가운데에도 교통 사고의 저 감은 무엇보다 시급한 과제라 할 수 있으며 대기 오염을 비롯한 물리적 환경의 개선과 보다 원 활하고 쾌적하게 달릴 수 있는 교통 환경의 실현도 중요한 과제가 될 것이다. 이 글에서는 이 러한 관점에서 21세기의 도로교통과 이를 이루어가기 위한 기술적 과제들을 살펴보고자 한다.
IGZO 박막 증착 공정에서 플라즈마 방출광 모니터링 및 플라즈마 균일도 제어
최진우,황상혁,김우재,신기원,권희태,조태훈,우원균,차성덕,안병철,박완우,도재철,권기청 한국반도체디스플레이기술학회 2016 반도체디스플레이기술학회지 Vol.15 No.4
In recent years, various researches have been conducted to improve process yields in accordance with miniaturization of semiconductor. APC(Advanced Process Control) is considered one of the methods to increase in process yields. APC is a process control technology that maintains optimal process conditions and improves the reliability of results by controlling and formulating the relationship among the various process parameters and results. We built up an optical diagnostic system with a three-channel spectrometer. The system detects signals those represent the changes of specific emission peaks intensity versus each reference and converts it into MFC control signals to get back the changes to the reference state. Controlling the MFC continues until the specific peak intensity changes into the normal state. Through this device, we tested a APC automatically responding to process changes during the plasma process. We could control gas flow while sputtering process on going and improve uniformity of plasma intensity with this system. Finally, we have got results those enhance the plasma intensity non-uniformity to 7.7% from 15.5%. Also, found unexpected oxygen flow what is estimated to be come out from IGZO target.