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Glass / p μc-Si:H 특성에 따른 i μc-Si:H 층 및 태양전지 특성변화 분석
장지훈(Jang, J.H.),이지은(Lee, J.E.),김영진(Kim, Y.J.),정진원(Jung, J.W.),박상현(Park, S.H,),조준식(Cho, J.S.),윤경훈(Yoon, K.H.),송진수(Song, J.),박해웅(Park, H.W.),이정철(Lee, J.C.) 한국신재생에너지학회 2009 한국신재생에너지학회 학술대회논문집 Vol.2009 No.06
PECVD를 이용하여 제조된 미세결정질 p-i-n 실리콘 박막 태양전지에서, p 층은 태양전지의 윈도우 역할 및 그 위에 증착될 i {mu}c-Si:H 층의 'seed'층 역할을 수행하기 때문에, p층의 구조적 및 전기적, 광학적 특성은 태양전지의 전체 성능에 큰 영향을 미칠 수 있다. 본 연구에서는 SiH₄ 농도를 변화시켜 각기 다른 결정 특성을 갖는 p {mu}c-Si:H층을 제조하고 그 위에 i {mu}c-Si:H 층을 증착하여 p층의 결정 특성변화와 그에 따른 i {mu}c-Si:H 층 및 'superstrate' p-i-n 미세결정질 실리콘 박막 태양전지의 특성 변화를 조사하였다. P층의 경우, SiH₄ 농도가 증가함에 따라 결정분율 (Xc)이 감소하여 비정질화되었으며 그에 따라 dark conductivity가 감소하는 경향을 나타내었다. 각기 다른 결정분율을 가지는 p 'seed' 층 위에 증착된 태양전지는, p 'seed' 층의 결정분율이 증가함에 따라 개방전압, 곡선인자, 변환효율이 경향적으로 감소하였다. 이는 p 층 결정분율 변화에 따른 p/i 계면특성 저하 및 그 위에 증착되는 i {mu}c-Si:H 층의 결함밀도 증가 등에 따른 태양전지 특성 감소 때문인 것으로 판단되며, 이를 분석하기 위하여 i {mu}c-Si:H 층의 전기적, 구조적 특성 분석 및 태양전지의 dark I-V 특성 등을 분석하고자 한다.
Kim, Y.I.,Park, S.J.,Kwon, H.I.,Kim, E.H.,Si, Y.J.,Jeong, J.H.,Lee, I.W.,Nguyen, H.D.,Kwon, J.J.,Choi, W.S.,Song, M.S.,Kim, C.J.,Choi, Y.K. Elsevier Science 2017 INFECTION GENETICS AND EVOLUTION Vol.53 No.-
<P>During the outbreaks of highly pathogenic avian influenza (HPAI) H5N6 viruses in 2016 in South Korea, novel H5N8 viruses were also isolated from migratory birds. Phylogenetic analysis revealed that the HA gene of these H5N8 viruses belonged to clade 2.3.4.4, similarly to recent H5Nx viruses, and originated from A/Brk/Korea/Gochang1/14(H5N8), a minor lineage of H5N8 that appeared in 2014 and then disappeared. At least four reassortment events occurred with different subtypes (H5N8, H7N7, H3N8 and H10N7) and a chicken challenge study revealed that they were classified as HPAI viruses according to OIE criteria. (C) 2017 Elsevier B.V. All rights reserved.</P>
O₂/SF₆, O₂/N₂와 O₂/CH₄ 플라즈마를 이용한 폴리카보네이트 건식 식각
주영우(Y.W. Joo),박연현(Y. H. Park),노호섭(H.S. Noh),김재권(J. K. Kim),이성현(S.H. Lee),조관식(G. S. Cho),송한정(H. J. Song),전민현(M. H. Jeon),이제원(J. W. Lee) 한국진공학회(ASCT) 2008 Applied Science and Convergence Technology Vol.17 No.1
O₂/SF?, O₂/N₂ 그리고 O₂/CH₄의 혼합 가스를 이용하여 폴리카보네이트의 플라즈마 식각을 연구하였다. 플라즈마 식각 장비는 축전 결합형 플라즈마 시스템을 사용하였다. 폴리카보네이트 식각은 감광제 도포 후에 UV 조사의 포토리소그래피 방법으로 마스크를 제작하여 실험하였다. 본 식각 실험에서는 O₂와 다른 기체와의 혼합비와 RIE 척 파워 증가에 따른 폴리카보네이트의 식각 특성 연구를 중심으로 하였다. 특히 건식 식각 시에 사용한 공정 압력은 100 mTorr로 유지하였으며 공정 압력은 기계적 펌프만을 사용하여 유지하였다. 식각 실험 후에 표면 단차 측정기, 원자력간 현미경 그리고 전자 현미경 등을 이용하여 식각한 샘플을 분석하였다. 실험 결과에 의하면 폴리카보네이트 식각에서 O₂/SF?의 혼합 가스를 사용하면 순수한 O₂나 SF?를 사용한 것보다 각각 약 140 % 와 280 % 정도의 높은 식각 속도를 얻을 수 있었다. 즉, 100 W RIE 척 파워와 100 mTorr 공정 압력을 유지하면서 20 sccm O₂의 플라즈마 식각에서는 약 0.4 ㎛/min, 20 sccm의 SF?를 사용하였을 때에는 약 0.2 ㎛/min의 식각 속도를 얻었다. 그러나 60 %의 O₂와 40 %의 SF?로 혼합된 플라즈마 분위기에서는 20 sccm의 순수한 O₂에 비해 상대적으로 낮은 -DC 바이어스가 인가되었음에도 식각 속도가 약 0.56 ㎛/min으로 증가하였다. 그러나 SF? 양의 추가적인 증가는 폴리카보네이트의 식각 속도를 감소시켰다. O₂/N₂와 O₂/CH₄의 플라즈마 식각에서는 N₂와 CH₄의 양이 각각 증가함에 따라 식각 속도가 감소하였다. 즉, O₂에 N₂와 CH₄의 혼합은 폴리카보네이트의 식각 속도를 저하시켰다. 식각된 폴리카보네이트의 표면 거칠기 절대값은 식각 전에 비해 2 ~ 3 배정도 증가하였지만 전자현미경으로 표면을 관찰 하였을 때에는 식각 실험 후의 폴리카보네이트의 표면이 깨끗한 것을 확인할 수 있었다. RIE 척 파워의 증가는 -DC 바이어스와 폴리카보네이트의 식각 속도를 거의 선형적으로 증가시켰으며 이 때 폴리카보네이트의 감광제에 대한 식각 선택비는 약 1:1 정도였다. 본 연구의 의미는 기계적 펌핑 시스템만을 사용한 간단한 플라즈마 식각 시스템으로도 O₂/SF?의 혼합 가스를 사용하면 폴리카보네이트의 미세 구조를 만드는데 사용이 가능하며 O₂/N₂ 와 O₂/CH₄의 결과에 비해 상대적으로 우수한 식각 조건을 얻을 수 있었다는 것이다. 이 결과는 다른 폴리머 소재 미세 가공에도 응용이 가능하여 앞으로 많이 사용될 수 있을 것으로 예상한다. We studied plasma etching of polycarbonate in O₂/SF?, O₂/N₂ and O₂/CH₄. A capacitively coupled plasma system was employed for the research. For patterning, we used a photolithography method with UV exposure after coating a photoresist on the polycarbonate. Main variables in the experiment were the mixing ratio of O₂ and other gases, and RF chuck power. Especially, we used only a mechanical pump for in order to operate the system. The chamber pressure was fixed at 100 mTorr. All of surface profilometry, atomic force microscopy and scanning electron microscopy were used for characterization of the etched polycarbonate samples. According to the results, O₂/SF? plasmas gave the higher etch rate of the polycarbonate than pure O₂ and SF? plasmas. For example, with maintaining 100W RF chuck power and 100 mTorr chamber pressure, 20 sccm O₂ plasma provided about 0.4 ㎛/min of polycarbonate etch rate and 20 sccm SF? produced only 0.2 ㎛/min. However, the mixed plasma of 60 % O₂ and 40 % SF? gas flow rate generated about 0.56 ㎛ with even low -DC bias induced compared to that of O₂. More addition of SF? to the mixture reduced etch of polycarbonate. The surface roughness of etched polycarbonate was roughed about 3 times worse measured by atomic force microscopy. However examination with scanning electron microscopy indicated that the surface was comparable to that of photoresist. Increase of RF chuck power raised -DC bias on the chuck and etch rate of polycarbonate almost linearly. The etch selectivity of polycarbonate to photoresist was about 1:1. The meaning of these results was that the simple capacitively coupled plasma system can be used to make a microstructure on polymer with O₂/SF? plasmas. This result can be applied to plasma processing of other polymers.
유착에 의한 AGS 및 Hep-G2 세포 표면 구조의 변화
박동규 ( D. K. Park ),전훈재 ( H. J. Chun ),박재홍 ( J. H. Park ),박철희 ( C. H. Park ),진윤태 ( Y. T. Jeen ),이홍식 ( H. S. Lee ),이상우 ( S. W. Lee ),엄순호 ( S. H. Um ),최재현 ( J. H. Choi ),김창덕 ( C. D. Kim ),류호상 ( H. S. Ryu 대한소화기학회 2002 대한소화기학회 춘계학술대회 Vol.2002 No.-
<목적> 최근 H. pylori 유착에 의한 세포 표면 구조의 변화에 관한 연구가 시도되어지고 있으나 actin 의 변화여부 및 그 특성에 관해서는 아직 명확히 정립되지 못한 실정이다. Rho GTPase는 세포 표면의 미세돌기인 microvilli, filopodia 및 membrane ruffle의 형성과 관련이 있으며, 최근 AGS 세포에서 H. pylori가 Rac activation에 의하여 membrane ruffle을 형성한다는 것과 Rac