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신 증후군 환아에서 Cyclosporin A 치료 중 발생한 급성 백색질 뇌증 1례
정석원,이경화,권영세,김순기,손병관,이지은,Jung Suk-Won,Rhee Kyung-Hwa,Kwon Young-Se,Kim, Soon-Ki,Son Byong-Kwan,Lee Ji-Eun 대한소아신장학회 2005 Childhood kidney diseases Vol.9 No.1
CsA 유발성 중추 신경독성은 신증후군 환자에서 드물게 보고되고 있다. 저자들은 신 증후군환아에서 CsA 치료 중에 뇌 자기공명 영상으로 확진한 급성 백색질 뇌증 1례를 경험하였기에 보고하는 바이다. Cyclosporin A-induced central neurotoxicity has been rarely reported in patients with nephrotic syndrome. We report a pediatric patient who developed acute leukoencephalopathy diagnosed by MRI during CsA therapy for nephrotic syndrome.
소아의 첫 발열성 요로감염에서 신 반흔에 영향을 미치는 인자
정석원,정경훈,김명현,홍영진,손병관,이지은,Jung Suk-Won,Jung Kyeong-Hun,Kim Myung-Hyun,Hong Young-Jin,Son, Byong-Kwan,Lee Ji-Eun 대한소아신장학회 2005 Childhood kidney diseases Vol.9 No.1
목 적 : 요로 감염은 조기 진단 및 치료를 적절히 하지 않으면 비 가역적인 신 손상을 초래하기 쉽다. 신 반흔을 막기 위한 요로 감염의 적절한 치료 시작 시기와 소아의 첫 발열성 요로 감염에서 신 반흔 발생과 관련한 인자를 알아보았다. 방 법 : 2000년 4월부터 2004년 4월까지 첫번째 발열성 요로 감염으로 진단된 2세이하 환아163명을 대상으로 후향적으로 조사하였다. 요로감염 급성기에는 DMSA 신 스캔, 치료 후 VCUG을 시행하고 치료 6개월 후 추적 DMSA 신 스캔을 시행, 신 반흔 유무를 평가하였다. 치료 전 발열 기간, 치료 후의 발열 기간, 총 발열기간에 따라 각각 두 군으로 분류, 진단시와 6개월 후 추적 DMSA 신 스캔 소견을 비교 분석하였다. 또한 신 반흔 유무에 따라 신 반흔 형성군과 무형성군으로 분류하여 관련된 예측 인자와의 관계를 분석하였다. 결 과 : 치료 전 발열 기간이 24시간 이하 군에서 초기 DMSA 신 스캔의 이상 소견 빈도는 23%였고 이중 33%에서 신 반흔이 발생하였다. 24시간초과 그룹에서는 각각 43%, 38%였으나 군간 유의한 차이는 없었다. 치료시작 후 발열기간이 48시간 이하이며서 초기 DMSA 검사에서 이상을 보인 환아 중 34%에서 신 반흔이 생겼고, 치료 후 열이 48시간 이상 지속된 경우는 50%에서 신 반흔이 형성되어 두 군간 차이는 없었다. 총 발열 기간 72시간 이하인 환아군의 45%에서 신 피질 결손, 19%에서 신 반흔이 나타났고, 72시간 초과인 환아군에서는 각각 31%, 57%로 신 반흔 형성률이 의미있게 높았다. 총 발열기간, 높은 CRP, 방광요관 역류가 신 반흔 형성과 관련 있었으며 이중 방광요관 역류가 가장 높은 연관을 보였다. 결 론 : 소아의 발열성 첫 요로 감염에서 치료 전 발열 기간이 24시간 이내라도 신 반흔을 완전히 예방할 수 없었고 이에 관여하는 주된 인자는 방광요관 역류였다. Purpose : Development of renal scarring is associated with delayed diagnosis and treatment of urinary tract infection(UTI). This study was performed to clarify how soon treatment should be started to Inhibit renal scarring after onset of UTI and the factors associated with renal scarring in children with a first episode of febrile UTI. Methods : We retrospectively reviewed 163 patients with a first episode of febrile UTI under the age of 2 years from April 2000 to Ap,il 2004. All patients had a DMSA renal scan and voiding cystourethrogram done in the diagnostic period, 6 months after which a follow-up renal scan was done. After patients wet-e divided into 2 groups according to the duration of fever prior to start of treatment, the duration of fever after start of treatment, and total duration of fever, initial and follow-up DMSA scan findings were analyzed among the different groups. We compared the factors associated with renal scars between the groups with and without renal scars. Results : The initial DMSA renal scan identified abnormal finding in 23% of the patients who were treated $\leq$24 hr from the onset of disease and in 43% of those with fever more than 24 hr. Renal scars developed in 33% of patients who were treated $\leq$24 hr and 38% of those with fever >24 hr prior to treatment. Renal scars developed in 34% of patients with remission of fever $\leq$48 hr after treatment and ill 50% of those with fever >48 hr after treatment. The risk for renal scars was significantly higher in children who had total duration of feyer >72 hr(67%) than in those with shorter duration(19%). In children with renal scars, VUR was most highly associated with an increased risk of renal scar formation. Conclusion : Although children with a first episode of febrile UTI are treated within 24 hr after onset of the fever, renal damage cannot be prevented completely and it is mainly associated with VUR. (J Korean Soc Pediatr Nephrol 2005;9:56-63)
정석원(Suk-Won Jung),박빛나(Bit-Na Park),이국녕(Kook-Nyung Lee),이민호(Min-Ho Lee),성우경(Woo-Kyeong Seong) 대한전기학회 2009 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2009 No.11
The Si nanowire's piezoresistive effect can be extremely large due to its tiny cross-sectional area. In this research, Si a nanowire piezoresistor is fabricated on an accelerometer structure by all top-down MEMS based process and its piezoresistive effects were investigated.
실리콘 나노와이어의 압저항 효과를 이용한 마이크로폰 제작에 관한 연구
정석원(Suk-Won Jung),이경일(Kyung-Il Lee),유민상(Min-Sang You),손재기(Jae-Ki Son),이석필(Suk-Pil Lee),성우경(Woo-Kyung Seong) 대한전기학회 2010 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2010 No.7
본 연구에서는 MEMS 공정에 기반을 둔 실리콘 나노와이어 제조공정을 바탕으로 실리콘 나노와이어의 압저항 효과를 이용한 압저항형 마이크로폰 구조를 제안, 소자를 제작하여 그 특성을 평가하였다. 본 마이크로폰은 음압에 따른 diaphragm의 진동에 의한 기계적인 스트레스에 기인한 실리콘 나노와이어의 압저항 효과에 따른 저항 변화가 유도되도록 구조를 설계하였으며, 실리콘 나노와이어 제조공정, 전극형성 공정, Bisbenzocyclobutene(BCB) polymer를 이용한 membrane 형성공정, 기판 본딩 공정, 실리콘 deep RIE(Reactive Ion Etching) 공정을 이용한 diaphragm 형성 공정으로 마이크로폰을 제작하였다. 제작된 마이크로폰은 나노와이어의 굵기, 길이, 위치, 그리고 diaphragm의 크기, BCB membrane의 두께 등 다양한 설계 파라미터를 토대로 각 특성을 평가하였다.
Pt-Black 전극을 이용한 플라즈마 발생기 제작 및 이를 이용한 미세먼지 제거 특성 조사
정석원(Suk Won Jung),김성은(Seong Eun Kim) 대한전기학회 2021 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2021 No.10
플라즈마를 방식의 미세먼지 제거를 위해 전극의 표면에 Pt-black이 적용된 플라즈마 발생기를 설계, 제작하였다. 전기도금 공정을 이용하여 전극의 표면에 Pt-black을 형성하였으며, Pt-black의 nano-porous 한 구조가 플라즈마 개시 전압을 효과적으로 낮추고 넓은 면적의 균일한 플라즈마 형성에 도움이 됨을 확인하였다. 제작된 플라즈마 발생기를 이용하여 미세먼지 제거 실험을 실시하였으며, 소형 아크릴 챔버 내에 인위적으로 분진을 발생시킨 후 플라즈마 발생기 구동과 함께 실시간으로 미세먼지 농도를 측정한 결과 832㎍/m³ 농도의 PM10, PM2.5의 미세먼지가 약 6.5분 경과 후 99%까지 제거됨을 확인하였다.
λ=1.3, 1.55 ㎛에서 저분산을 갖는 이중 - 클래드 광섬유의 설계
정석원(Suk-Won Jung),김창민(Chang-Min Kim) 한국광학회 1995 한국광학회지 Vol.6 No.2
광섬유의 스칼라 파동방정식을 토대로 임의의 굴절율 분포를 갖는 광섬유의 분산특성을 해석하였다. 스칼라 파동방정식을 해석하기 위행서 2차 보간함수를 사용한 1차원 유한요소법(FEM)을 적용하였다. DC(Doubly-Clad)형 광섬유를 대상으로 하였으며, 총분산을 최소화할 수 있는 굴절율분포를 조사하였다. λ=1.3 ㎛, 1.55 ㎛ 두 파장에서 동시에 분산이 거의 0이 되는 설계치를 찾을 수 있었다. 그리고 λ=1.4~1.7 ㎛에 걸쳐서 1.0 ㎰/㎞.㎚ 이하의 평탄분산특성을 갖고 λ=1.55 ㎛에서 0.65 ㎰/㎞.㎚의 분산을 갖는 설계치도 찾을 수 있었다. Based on the scalar wave equation of optical fibers, the dispersion characteristics of arbitrarily profiled fibers were analyzed. We used the 1-D FEM employing quadratic interpolation fucntions to solve the scalar wave equation. We simulated the DC optical fibers as objects, and searched for the refractive index distribution to minimize the total dispersion. In DC fibers, we found the design parameters for which the total dispersion was almost zero at λ=1.3 ㎛ and 1.55 ㎛ simultaneously. We also found the design parameters where the dispersion was flattened, less than 1.0 ㎰/㎞.㎚ for λ=1.4~1.7 ㎛, and the dispersion was as low as 0.65 ㎰/㎞.㎚ at λ=1.55 ㎛.