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소재현,문영준 한국통신학회 2018 정보와 통신 Vol.35 No.5
최근 자율주행자동차의 확대 보급과 함께 자율주행자동차에 의한 교통사고가 증가하면서 자율주행자동차가 안전한 것인가에 대한 의구심이 증가하고 있다. 최근 발생한 테슬라, 구글, 우버의 자율주행자동차 사고는 비록 사고원인이 명확하게 밝혀지지 않은 부분이 있음에도 대부분 센서가 전방 상황을 제대로 인지하지 못해 발생했다는 추측이 설득력을 얻고 있다. 이는 자율주행자동차의 센서만으로는 인지능력에 한계가 있을 수 있다는 사실을 방증하고, V2X 무선통신과 정밀도로지도 등 디지털 인프라의 도움을 통해 주변 인지능력을 강화할 수 있는 자율협력 주행의 필요성이 대두되고 있다. 이에 본고에서는 최근 자율주행자동차 사고를 분석하고, V2X 무선통신이 포함된 디지털 인프라 시스템의 개발 및 표준 동향에 대해 알아본다.
구두발표 B발표장 : 유무기 하이브리드 정밀화학소재 심포지엄2 ; B23 : STI CMP용 Ceria Slurry에 관한 연구 무기 연마 입자와 유기 첨가제
소재현,김사라,김남수,이동준,양승만 한국화학공학회 2007 화학공학의이론과응용 Vol.10 No.1
CMP process is one of important steps in semiconductor fabrication. Particularly, CMP slurry is the most important consumable, which is composed of colloidal abrasives and various chemical additives. As the design rule of semiconductor device decreases, ceria slurries are strongly recommended in shallow trench isolation (STI) CMP technologies. In this study, we investigated highly selective ceria slurry on shallow trench isolation (STI) CMP process with the points of inorganic ceria abrasives and organic high selective additives. First, cerium oxide particles were prepared, which could be used as polishing abrasives in STI CMP with organic additives. According to the calcination temperature, abrasive size (both primary and secondary size and material removal rate) were changed drastically. Secondly, adsorption characteristics and chain conformation of polymer additives at ceria-water interface were studied to correlate colloidal behavior of CMP slurry with polishing pro! perties. Interactions of polymer additives and ceria abrasives were examined in terms of pH, salt concentration, and types of salts to interpret the performance of STI CMP process. The effects of chain conformation of polyelectrolytes adsorbed onto the ceria slurry were investigated.