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반도체 웨이퍼 가공(FAD) 공정에서의 교육용 컴퓨터 모델 구축
전동훈(Donghoon Jeon),이칠기(Chilgee Lee) 한국정보과학회 2000 정보과학회 컴퓨팅의 실제 논문지 Vol.6 No.3
본 연구는 복잡하고 다양한 반도체 웨이퍼 가공 (FAB) 공정의 전체적인 흐름을 컴퓨터 모델로 구축하고 이를 Device 단면도를 나타내는 프리젠테이션 툴과 연동시키는 교육 모델의 개발을 목적으로 하였다. 급변하는 세계 반도체 시장에서 국내 반도체 업체는 지속적인 기술 개발과 더불어 효율적인 생산관리에 대응할 수 있도록 하여 국제 경쟁력을 키워야 할 것이다. 따라서 본 연구에서 다루어진 공정의 흐름과 각 단위공정의 특성을 바탕으로 설립된 모델은 서울대학교 반도체 공동 연구소를 대상으로 구현되었으나 앞으로 생산 관리를 담당할 국내 반도체 업체들의 신입사원과 현장기술자의 질적 향상을 위한 시청각 교육용 자료로의 활용 시 상당한 효과를 거둘 것이라 예상된다. 이는 생산업체에 국한되어지는 것만은 아니며 반도체 공정에 관련된 대학 학과목에서도 활용되어지리라 생각된다. 또한 확장성과 변화에 유연한 모델을 개발함으로써 반도체 생산 업체들은 구성된 표준 모델을 이용하여 각 회사의 실정에 맞추어 자사에 대한 시뮬레이션을 손쉽게 수행함으로써 많은 교육 효과와 이에 따른 원가 절감의 효과까지 거둘 수 있을 것이다. The importance of the semiconductor industry in Korea has been growing, but the manufacturers are experiencing two major problems: poor optimization of production and low localization ratio of production equipments. Due to the complex manufacturing processes and special features such as OTD (On Time Delivery) and LIPAS (Line Item Performance Against Schedule) possibilities, several attempts to apply MRP or spreadsheet have been failed to meet the expectations. This paper describes the computer modeling technique as the solutions to analyze the problem, to formalize the semiconductor manufacturing process, and to build an advanced manufacturing environments. The computer simulation models are built referring the FAB facilities of the National Inter - University Semiconductor Research Center to show the FAB processes and the functions of each process.
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노수성 ( Su Sung Roh ),이칠기 ( Chilgee Lee ) 한국정보처리학회 2005 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.12 No.1
계측기기의 사용업체들은 기기 관리부분 및 교정검사 주기가 상이한 계측기기 교정검사 관리부분의 어려움으로 인하여 교정검사 유효기간을 지나치는 경우가 많았으며, 국가교정검사 기관은 각 계측기기의 측정 데이터 결과 형식이 달라 교정검사 후 발행하는 성적서의 작성 및 발행 하는데 어려움이 많았다. 또한 계측기기 사용업체와 교정검사기관 모두 관리 프로그램과 교정검사 성적서 관리 프로그램을 별도로 사용하였다. 이러한 계측기기 및 성적서 관리를 하나의 시스템으로 쉽게 통합관리 할 수 있도록 구성 하였으며, 각각의 상이한 계측기기 주기 정보를 데이터베이스화 하여 주기별, 측정기기별, 업체별 검색 및 자동 팝업창으로 상태를 알려주게 하였고, 계측기기별 상이한 형식의 측정 데이터는 부서별, 유형별로 데이터베이스화 하여 응용프로그램과 연동될 수 있도록 구현 하였다. 계측기기 관리 및 교정검사 관리 부문에 있어서 사용 대상에 따라 GUI 환경으로 구현된 프로그램으로서 기본설정을 통하여 교정대상업체 및 교정검사기관 모두 하나의 통합된 프로그램으로 사용 및 관리를 할 수 있다.
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전파 예측 모델에 의한 와이브로 무선망 위치 선정의 최적화 시뮬레이션
노수성(Su-Sung Roh),이칠기(Chilgee Lee) 한국전자파학회 2008 한국전자파학회논문지 Vol.19 No.5
도심지 무선 인터넷 서비스에서 전파 특성(wave propagation characteristics)을 정확하게 예측하여 서비스 영역을 결정하는데 있어서 최적의 기지국 선정, 셀 설계 등은 매우 중요한 과정이다. 서비스 지역의 지형 지물 및 인위적 구조물의 건물 재질 및 높이와 폭 등 각기 다른 특징으로 인하여 무선망 서비스의 송수신 거리에 큰 영향을 미치고 있으며, 이는 기본적으로 요구되어지는 무선 인터넷 품질을 정확하게 예측 및 분석하여 이용자에게 서비스를 제공하는데 큰 어려움을 갖게 한다. 본 논문에서는 이러한 문제점을 개선하기 위한 전파 예측모델에 의한 기본 기지국 위치 선정 후 가장 서비스 영향을 미치는 기지국 위치 이동 및 안테나의 각도 등 무선망 최적화를 결정짓는 파라미터 값의 변화에 따라 서비스 영역이 최적화 되어 서비스 지역 및 품질이 개선되는 과정을 시뮬레이션 함으로써 무선망 기지국 최적화 과정을 통하여 동일 지역 내 서비스 커버리지가 넓어지고 개선된 품질로서 이용자들이 질 높은 무선 인터넷 서비스를 제공받을 수 있게 된다는 것을 보여 주었다. For Wireless internet service in Metropolitan area, optimum location selection for base station and cell planning are critical process in determining service coverage by accurate prediction of Wave Propagation Characteristics. Due to different kinds of characteristics in service area such as lay of land, natural feature and material, height and width of artificially made building, it has a great impact on the transmission and distance recovery of wireless network service. Therefore, these facts may cause substantial barriers in predicting & analyzing the expected level of service quality and providing it to subscribers. In this thesis, we have simulated the process to improve quality and coverage of the service by adjusting the location of Base station and the antenna angle that influence the service after the basic location of base station is selected according to the wave prediction model. Based on this simulations test, we have demonstrated the results in which subscribers would get higher quality of wireless internet service along with bigger coverage and the improved quality in the same service coverage area through optimization process of base station.
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이칠기,조대호 成均館大學校 科學技術硏究所 1997 論文集 Vol.48 No.1
The importance of the semiconductor industry in Korea has been growing, but the manufacturers are experiencing two major problems: poor optimization of production and low localization ratio of production equipment. Due to the complex manufacturing processes and special features such as product binning and substitution possibilities, several attempt to apply MRP or spreadsheet have been failed to meet the expectations. This paper suggests the computer modeling technique as the solutions to analyze the problem, to formalize the semiconductor manufacturing process, and to build an advanced manufacturing environments. The preconditions of winning in the competitive race such as data consistency and the education of core technologies are also described.
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이칠기 成均館大學校 科學技術硏究所 1997 論文集 Vol.48 No.1
A unique power utility company in Korea, Korean Electric Power Corporation(KEPCO) which has been operating four full scope simulators since 1979, has been experienced several major difficulties such as late and/or poor response from the simulator manufacturers. Not only to overcome those kind of exposed difficulties but also to level up the technologies related to real-time simulators, a ambitious project was launched to localize all necessary technologies and equipments in 1994. Since then KEPCO teamed with a domestic company as a prime contractor and a foreign company has a technology donor has been done important tasks such as plant analysis and simulator design. However in the process of implementation, the real-time I/O controllers were key barriers for full localization of simulators. Based on the requirements of real-time I/O controllers and analysis of the local technologies and off-the-self products, this paper checks the feasibility of full localization and suggests the adequate approach to full localization.
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반도체 수율 향상을 위한 통계적 공정 제어에 전문가 시스템의 적용에 관한 연구
윤건상,최문규,김훈모,조대호,이칠기 성균관대학교 1998 학술회의지원논문목록집 Vol.1998 No.-
The evolution of semiconductor manufacturing technology has accelerated the reduction of device dimensions and the increase of integrated circuit density. In order to improve yield within a short turn around time and maintain it at high level. a system that can rapidly determine problematic processing steps is needed. The statistical process control detects abnormal process variation of key parameters. Expert systems in SPC can serve as a valuable tool to automate the analysis and interpretation of control charts. A set of IF-THEN rules was used to formalize knowledge base of special causes. This research proposes a strategy to apply expert system to SPC in semiconductor manufacturing. In analysis, the expert system accomplishes the instability detection of process parameter. In diagnosis. an engineer is supported by process analyzer program. An example has been used to demonstrate the expert system and the process analyzer.
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