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백문철,차주연,조경익,권오준,Baek, Mun-Cheol,Cha, Joo-Yeon,Cho, Kyung-Ik,Kwon, Oh-Joon 한국전자통신연구원 1988 전자통신 Vol.10 No.3
투과전자현미경(TEM)의 관찰을 위한 반도체 시료의 박편제작기술에 대하여 언급하였다. 전자선을 투과할 수 있는 얇은 두께의 시편을 제작하는 일은 금속이나 생물학적인 재료에 비하여 반도체의 경우 많은 어려움이 따르며 특히 잘 부서지기 쉬운 특성 때문에 취급에 많은 주의를 요한다. 반도체를 대상으로 하여 일반적으로 사용되는 박편 제작기술에 대해 그 특성과 장단점 등을 조사하였다.
백문철,강광용,Paek, M.C.,Kang, K.Y. 한국전자통신연구원 2006 전자통신동향분석 Vol.21 No.6
정보화사회의 발전에 따라서 정보를 담는 저장장치의 크기는 일정하거나 점차 작아지는데, 저장 및 활용가능한 정보의 양은 기하급수적으로 증가하고 있다. 따라서 동일한 면적에 저장하기 위한 정보량으로서 저장 밀도 또한 급격히 증가하여 1평방 인치에 수테라비트(Tbit/$in^2$) 이상의 정보를 저장할 수 있는, 이른바 테라스토리지 기술이 곧 등장할 것으로 전망된다. 본 고에서는 테라스토리지 관련 최신 기술들을 소개하고 그 발전방향에 대하여 논하였다. 물리적인 한계를 넘기 위한 노력의 결과로 일부 기술들은 상용화가 가능한 단계에 와 있고, 일부는 좀더 먼 미래에 상용화하기 위하여 기초연구에 투자하고 있기도 하다. 2010년경에 테라스토리지 기술의 상용화가 가능할 것으로 전망되므로, 이에 대한 기술 및 산업 동향을 파악하기로 한다.
표면 분석기술의 반도체 응용 (II)-SEM 을 이용한 분석기술
백문철,Baek, Mun-Cheol 한국전자통신연구원 1988 전자통신 Vol.10 No.1
SEM은 전자현미경의 고배율 관찰 기능으로부터 여러가지 분석기능을 부착한 분석장비로서 그 영역을 확장하고 있다. 전자선과 시료의 반응으로부터 발생하는 각종 신호, 즉 X- 선이나 2차 전자 및 반사전자 등을 검출하여 확대상의 형성 이외에 성분분석을 행할 수 있다. 여기에서는 이러한 기능을 나타내기 위한 SEM의 구조와 기본 원리에 대해 조사하였고 검출된 신호를 처리하는 여러 기술을 언급하였다. 그리고 반도체 재료의 분석을 위하여 SEM 및 관련된 분석기술의 중요성과 방향 등을 언급하였다.
(lll) 기판의 실리콘 단결정층 성장시 발생하는 패턴 이동 현상의 분석
백문철,조경익,송성해,Baek, Mun-Cheol,Jo, Gyeong-Ik,Song, Seong-Hae 대한전자공학회 1984 전자공학회지 Vol.21 No.4
A model analysis of pattern shift in the epitaxial growth of silicon on (111) substrates was performed. The growth rate anisotropy was considered as the most important affecting factor of pattern shift, and for the model establishment the off angle of the substrate and the process temperature were taken as the variables. We derived a theoretical equation of pattern shift by assuming the growth rate anisotropy as the trigonometric sine function of the off angle of the substrate and defining the growth rate anisotropy factor related to the process temperature. The pattern shift ratio calculated by this model had the same tendency with the experimental ones, which, however, were about twice greater than those. It was supposed that this discrepailcy was due to the second order affecting factor such as facetting and step broadening which had been exluded in model establishment.
반도체 재료의 구조분석을 위한 전자선 회절패턴 형성의 연구
백문철,Baek, Mun-Cheol 한국전자통신연구원 1989 전자통신 Vol.11 No.1
반도체 재료의 결정구조를 분석하기 위하여 사용되는 전자현미경의 전자선 회절패턴 형성에 대하여 연구하였다. 결정질 재료의 회절현상을 논의하기 위해 역격자이론에 대하여 간단히 살펴보고 X선과 전자선 회절패턴의 차이점 등을 고찰하였다. 파동역학에 기초한 회절물리학의 운동학 이론(kinematic theory)을 기본으로 하여 실리콘 결정에 대한 구조인자(structure factor) 및 형태인자(shape factor)를 계산하고 회절패턴으로부터 면지수를 결정하는 과정을 논의하였다. Basic program을 구성하여 전자현미경의 입력 data로부터 해당 회절패턴을 형성하도록 하였으며 이 결과는 실제의 패턴과 일치하였다. 이 program은 추후 전자현미경의 컴퓨터 시뮬레이션을 위하여 중요하게 이용될 수 있을 것으로 판단되었다.
백문철,강광용,Baek, Mun-Cheol,Gang, Gwang-Yong 한국전자통신연구원 2005 전자통신동향분석 Vol.20 No.6
정보서비스의 발전에 따라 개인이 휴대하는 단말기 및 개인가전 제품에 장착되는 포터블 저장장치의 수요가 급증하고 있다. 정보의 저장기술의 진화에 따른 디지털 정보저장 기술의 현재를 살펴보고, 광디스크 저장기술을 중심으로 한 포터블 저장기술의 특성을 분석하였다. 현재에는 포터블 저장장치로서 플래시메모리를 기반으로 하는 메모리 카드를 비롯하여 초소형 HDD가 주류를 이루고 있는데, 미래형 포터블 광디스크 및 네트워크 저장장치에 대한 현재와 미래를 살펴 보았으며 각각의 장단점을 검토하였다. 각각의 정보저장 기술은 기술적 특성과 수요의 형태에 따라 서로 경쟁적인 관계에서 정해진 시장을 잠식하는 구조가 아니라, 상호 보완관계를 유지하면서 고유의 특성을 지닌 채 동반 발전할 것으로 분석되었다.
백문철,한기평,김약연,손영준,김태엽,조경익,Pack, M.C.,Han, G.P.,Kim, Y.Y.,Sohn, Y.J.,Kim, T.Y.,Cho, K.I. 한국전자통신연구원 2001 전자통신동향분석 Vol.16 No.4
광 MEMS(Optical MEMS)는 미세 기계, 전자 및 광학기술이 조합하여 이루어지는 종합적인 기술분야로서 정보통신 핵심부품의 정밀화, 고성능화, 경량화 추세에 의해 그 중요성을 더해가고 있다. 본 논문은 정보통신 기술분야에 적용되고 있는 광 MEMS 기술에 대하여 살펴본 것으로, MEMS 시스템을 구성하고 있는 광학적 구성요소의 기술개발 현황, 신소재 및 새롭게 도출된 아이디어 등에 대하여 최신 연구동향을 중심으로 조사.분석하였다. 정보통신 기술의 발전에 따라 응용분야도 다양해지며 신소재의 출현에 따른 새로운 연구분야가 확대되는 등 광 MEMS 기술의 전반적인 기술추세에 대해 전망하였다.
$BF_2^+$이온주입된 (100) 실리콘의 격자손상이 불순물 농도분포에 미치는 영향
백문철,이상환,곽병화,권오준,이진효,Baek, Mun-Cheol,Lee, Sang-Hwan,Gwak, Byeong-Hwa,Gwon, O-Jun,Lee, Jin-Hyo 한국전자통신연구원 1989 전자통신 Vol.11 No.3
VLSI소자의 얕은 접합을 형성하기 위한 $BF_2^+$이온주입 공정시에 발생하는 결정격자의 손상및 결함의 발생과 열적 거동, 그리고 블순물의재분포 등에 미치는 영향에 대하여 연구하였다. BF2' 이은주입에 의해서 형성된 실리큰 기판의비정질층 및 열처리 후에 발생한 전위환 등의결정결함을 TEM과 RBS로서 분석하였으며, 이들이 불순물의 재분포에 미치는 영향을 SIMS로서 분석, 화인하였다. RTA 열처리시, 온도변화에 따라서 boron 및 fluorine의 농도분포는비정상적민 형태를 나타내었으며 그 이유는 결정결함의 형성 및 열적거동에 의한 것으로 설명되 었다.