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Nanoindentation를 이용한 MEMS 제품의 기계적 특성 측정
한준희,박준협,김광석,이상율 한국세라믹학회 2003 한국세라믹학회지 Vol.40 No.7
The elastic moduli or fracture strengths of multi-layered film (SiO2/poly-Si/SiN/SiO2, 2.77 ㎛ thick), CVD diamond film (1.6 ㎛ thick), SiO2 film (1.0 ㎛ thick) and SiN film (0.43 ㎛ thick) made for the membrane of ink-jet printer head were measured with cantilever beam bending method using nanoindenter after fabricating in the form of micro cantilever beam(μ-CLB). And the elastic moduli of μ-CLB of SiO2 film and SiN film were compared with the value of each film on silicon substrate determined with nanoindentation method. The results showed that the modulus and strength of multi-layered film decrease from 68.08 GPa and 2.495 GPa to 56.53 GPa and 1.834 GPa, respectively as the width of CLB increases from 18.5 ㎛ to 58.5 ㎛. And the elastic moduli of SiO2 and SiN films measured with μ-CLB bending method are 68.16 GPa and 215.45 GPa, respectively and the elastic moduli of these films on silicon substrate measured with nanoindentation method are 98.78 GPa and 219.38 GPa, respectively. These results show that with μ-CLB bending technique, moduli can be measured to within 2%. 잉크젯 프린터 헤드용 기능성 막으로 활용하기 위하여 개발중인 다층박막 (SiO2/poly-Si/SiN/SiO2, 두께, 2.77 μm)과 다이아몬드 박막(두께, 1.6 μm)을 미소 외팔보(μ-CLB) 형태로 가공한 후 nanoindenter를 이용한 굽힘 시험 방법으로 탄성계수와 굽힘강도를 측정하였으며 다층막을 이루는 박막 중 SiO2 박막(두께, 1μm)과 SiN 박막(두께, 0.43μm)의 탄성계수를 미소 외팔보 굽힘 시험 방법과 nanoindentation 방법으로 측정한 후 그 결과를 비교하였다. 미소 외팔보 굽힘 시험방법으로 측정한 다층막의 탄성계수와 파괴강도는 외팔보의 폭이 18.5 ㎛에서 58.5 ㎛로 증가함에 따라 각각 68.08 GPa과 2.495 GPa에서 56.53 GPa과 1.834 GPa로 감소하였다. SiO2 박막의 탄성계수 측정값은 외팔보의 폭이 29.6 ㎛와 59.5 ㎛ 범위에서 변하여도 영향을 받지 않고 68.16 ±0.942 GPa 이었으며, SiN 박막의 탄성계수는 215.45 GPa 이었다. Nanoindentation 방법으로 측정한 SiO2 박막과 SiN 박막의 탄성계수는 각각 98.78 GPa, 219.38 GPa 이었다. 이 결과로부터 미소 외팔보 굽힘 시험방법으로 측정한 박막의 탄성계수가 nanoindentation 방법으로 측정한 탄성계수와 2% 미만의 차이를 보이며 일치함을 알 수 있었다.
Nanoindenter를 이용한 MEMS 제품의 기계적 특성 측정
한준희,박준협,김광석,이상율 한국세라믹학회 2003 한국세라믹학회지 Vol.40 No.7
The elastic moduli or fracture strengths of multi-layered film (SiO$_2$/po1y-Si/SiN/SiO$_2$, 2.77 $\mu\textrm{m}$ thick), CVD diamond film (1.6 $\mu\textrm{m}$ thick), SiO$_2$ film (1.0 $\mu\textrm{m}$ thick) and SiN film (0.43 $\mu\textrm{m}$ thick) made for the membrane of ink-jet printer head were measured with cantilever beam bending method using nanoindenter after fabricating in the form of micro cantilever beam (${\mu}$-CLB). And the elastic moduli of ${\mu}$-CLB of SiO$_2$ film and SiN film were compared with the value of each film on silicon substrate determined with nanoindentation method. The results showed that the modulus and strength of multi-layered film decrease from 68.08 ㎬ and 2.495 ㎬ to 56.53 ㎬ and 1.834 ㎬, respectively as the width of CLB increases from 18.5 $\mu\textrm{m}$ to 58.5 $\mu\textrm{m}$. And the elastic moduli of SiO$_2$ and SiN films measured with ${\mu}$-CLB bending method are 68.16 ㎬ and 215.45 ㎬, respectively and the elastic moduli of these films on silicon substrate measured with nanoindentation method are 98.78 ㎬ and 219.38 ㎬, respectively. These results show that with ${\mu}$-CLB bending technique, moduli can be measured to within 2%. 잉크젯 프린터 헤드용 기능성 막으로 많이 활용하고 있는 다층박막(SiO$_2$/poly-Si/SiN/SiO$_2$, 두께, 2.77 $\mu\textrm{m}$)과 다이아몬드 박막(두께, 1.6 $\mu\textrm{m}$)을 미소 외팔보($\mu$-CLB) 형태로 가공한 후 nanoindenter를 이용한 굽힘 시험 방법으로 탄성계수와 굽힘 강도를 측정하였으며 다층막을 이루는 박막 중 SiO$_2$ 박막(두께, 1 $\mu\textrm{m}$)과 SiN 박막(두께, 0.43 $\mu\textrm{m}$)의 탄성계수를 미소 외 팔보 굽힘 시험 방법과 nanoindentation 방법으로 측정한 후 그 결과를 비교하였다. 미소 외팔보 굽힘 시험방법으로 측정한 다층막의 탄성계수와 파괴강도는 외팔보의 폭이 18.5 $\mu\textrm{m}$에서 58.5 $\mu\textrm{m}$로 증가함에 따라 각각 68.08 ㎬과 2.495 ㎬에서 56.53 ㎬과 1.834 ㎬로 감소하였다. SiO$_2$ 박막의 탄성계수 측정값은 외팔보의 폭이 29.6$\mu\textrm{m}$ 와 59.5 $\mu\textrm{m}$ 범위에서 변하여도 영향을 받지 않고 68.16$\pm$0.942 ㎬이었으며, SiN 박막의 탄성계수는 215.45 ㎬이었다. Nanoindentation 방법으로 측정한 SiO$_2$ 박막과 SiN 박막의 탄성계수는 각각 98.78 ㎬, 219.38 ㎬이었다. 이 결과로부터 미소 외팔보 굽힘 시험방법으로 측정한 박막의 탄성계수가 nanoindentation 방법으로 측정한 탄성계수와 2% 미만의 차이를 보이며 일치함을 알 수 있었다.
한준희,이민정,Han, Junhee,Lee, Minjung 한국데이터정보과학회 2016 한국데이터정보과학회지 Vol.27 No.5
공간 또는 시공간 데이터에서 다른 지역에 비해 유난히 높은 위험률을 보이는 소위 핫 스팟 (hot spot)으로 불리는 클러스터 (cluster)를 찾으려고 하는 경우가 많다. 기존의 많은 방법들은 이러한 클러스터 패턴이 존재하는지에 대한 해답만 주었지만, 최근의 많은 방법들은 클러스터의 위치, 모양, 크기뿐만 아니라 찾아진 클러스터가 통계적으로 유의한지까지 검정해준다. 본 논문에서는 이러한 다양한 방법 중 가장 많이 사용되는 클러스터 탐색 방법 중 하나인 스캔 통계량을 이용한 방법을 소개하고 그 방법이 구현된 무료 소프트웨어 SaTScan을 이용한 결과를 보여주고 장단점을 논하고자 한다. 미국 국립암센터의 SEER 프로그램에서 제공하는 미국의 각 카운티별 암 사망자 자료 중 2006년 여성 폐암 사망자 데이터를 예시 데이터로 사용하여 스캔 통계량을 이용하여 구한 클러스터 탐색 결과를 제시하고 비슷한 연구를 하고자는 연구자에게 도움을 주고자 한다. In epidemiology or etiology, we are often interested in identifying areas of elevated risk, so called, hot spot or cluster. Many existing clustering methods only tend to a result if there exists any clustering pattern in study area. Recently, however, lots of newly introduced clustering methods can identify the location, size, and shape of clusters and test if the clusters are statistically significant as well. In this paper, one of most commonly used clustering methods, scan statistic, and its implementation SaTScan software, which is freely available, will be introduced. To exemplify the usage of SaTScan software, we used cancer data from the SEER program of National Cancer Institute of U.S.A.We aimed to help researchers and practitioners, who are interested in spatial cluster detection, using female lung cancer mortality data of the SEER program.