http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
He/Ar 혼합 가스 플라즈마의 제어 변수에 따른 이온에너지분포 조사
성인호,이장재,김시준,이영석,조철희,이상호,정원녕,유신재 한국진공학회 2021 한국진공학회 학술발표회초록집 Vol.2021 No.2
혼합가스 플라즈마에서는 플라즈마의 복잡성에 인해 전극에 도달하는 이온종에 따른 이온에너지분포의 확인이 어렵다. 따라서 수치해석 전산모사를 통해 아르곤 및 헬륨 플라즈마에 대한 압력 및 주파수에 따른 이온에너지 분포를 조사하였다. 모든 주파수에서 압력이 증가할수록 전극에 도달하는 헬륨 이온의 양이 줄어드는 것을 확인하였다. 즉, 전극에서의 총 이온에너지분포는 아르곤 이온이 지배적이다. 물리적인 이유의 확인을 위해 쉬스에서의 이온 특성을 확인한 결과, 각 반응에 대한 충돌 단면적에 의해 결정된다는 것을 알 수 있었다. 이는 높은 압력에서의 이온에너지분포 변화에 대한 이해 향상에 큰 도움이 될 것이라고 기대된다.
메탄의 수증기 개질 반응에서 Ni/CeO<sub>2</sub>-ZrO<sub>2</sub> 촉매의 수소 생산에 대한 Ru 및 Pd의 조촉매 효과
성인호 ( In Ho Seong ),조경태 ( Kyung Tae Cho ),이종대 ( Jong Dae Lee ) 한국공업화학회 2024 공업화학 Vol.35 No.2
메탄의 수증기 개질 반응에서 Ni 기반 촉매에 귀금속 Ru 및 Pd을 조촉매로 첨가하여 촉매의 활성 및 수소 생산에 미치는 영향을 분석하였다. 합성된 촉매는 허니컴 구조의 금속 모노리스 구조체 표면에 코팅하여 수증기 메탄 개질 반응을 수행하였다. 촉매의 특성은 XRD, TPR 및 SEM으로 분석하였으며 개질 반응 후 가스를 포집하여 GC로 조성을 분석한 후 메탄의 전환율, 수소 수율 및 CO 선택도를 측정하였다. 0.5 wt%의 Ru 첨가는 Ni의 환원 특성을 개선하였고, 99.91%의 메탄 전환율로 향상된 촉매 활성을 나타내었다. 또한, 다양한 공정 조건에 따른 반응 특성을 분석하였으며, 800 ℃의 반응 온도, 10000 h<sup>-1</sup> 이하의 공간속도(GHSV), 3 이상의 H<sub>2</sub>O와 CH<sub>4</sub>의 비(S/C)에서 90% 이상의 메탄 전환율과 3.3 이상의 수소 수율을 얻을 수 있었다. In the steam reforming of methane reactions, the effect of adding noble metals Ru and Pd to a Ni-based catalyst as promoters was analyzed in terms of catalytic activity and hydrogen production. The synthesized catalysts were coated on the surface of a honeycomb-structured metal monolith to perform steam methane reforming reactions. The catalysts were characterized by XRD, TPR, and SEM, and after the reforming reaction, the gas composition was analyzed by GC to measure methane conversion, hydrogen yield, and CO selectivity. The addition of 0.5 wt% Ru improved the reduction properties of the Ni catalyst and exhibited enhanced catalytic activity with a methane conversion of 99.91%. In addition, reaction characteristics were analyzed according to various process conditions. Methane conversion of over 90% and hydrogen yield of more than 3.3 were achieved at a reaction temperature of 800 ℃, a gas hourly space velocity (GHSV) of less than 10000 h<sup>-1</sup>, and a ratio of H<sub>2</sub>O to CH<sub>4</sub> (S/C) higher than 3.
축전 결합형 C₄F₈/Ar 플라즈마 내에서 웨이퍼 두께에 따른 쉬스 렌즈 효과 분석
이진호,성인호,김시준,이장재,이영석,조철희,이상호,정원녕,유신재 한국진공학회 2021 한국진공학회 학술발표회초록집 Vol.2021 No.2
반도체 식각 공정에서, 웨이퍼 존재에 따라 쉬스 형상에 굴곡이 생기게 되는데, 이로 인한 식각 프로파일에 각도 변화를 쉬스 렌즈 효과라고 한다. 본 연구에서는 축전 결합형 C<sub>4</sub>F<sub>8</sub>/Ar 플라즈마 내에서 웨이퍼 두께 변화에 따라 식각 공정을 진행하였고, 식각 프로파일의 각도 변화를 측정하여 다양한 식각 프로파일 데이터를 확보하였다. 추후 본 연구결과를 바탕으로, 다양한 조건에서의 쉬스 곡률 해석에 도움이 될 것이다.