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Introduction of virtual open chamber for testing a weather modification technique in Korea
J-W Cha,K-H Chang,M-J Lee,J-Y Jeong,J-W Jung,H-Y Yang,K-L Kim,Y-C Kim,C-H Kim,K-H Nam,M-K Suk,C-K Jung,H-Y Go,J-H Chae,G-W Lee,Y-H Cho,S-H Jung,H-M Park,Y-A Oh,J-Y Jung,B-G Kim,Y-J Kim,M-H Choi,S-D Ki 한국기상학회 2009 한국기상학회 학술대회 논문집 Vol.2009 No.4
AlAs 습식산화와 열처리로 인한 InGaAs 양자점 레이저 구조의 Intermixing효과에 관한 공간 분해 광학적 특성
황준석,권봉준,곽호상,최재원,조용훈,조남기,전헌수,조운조,송진동,최원준,이정일,Hwang J.S.,Kwon B.J.,Kwack H.S.,Choi J.W.,Choi Y.H.,Cho N.K.,Cheon H.S.,Cho W.C.,Song J.D.,Choi W.J.,Lee J.I. 한국진공학회 2006 Applied Science and Convergence Technology Vol.15 No.2
전류 차단층으로서 AlAs 자연산화층 ($AlO_x$) 을 갖는 InGaAs 양자점 (quantum dot) 구조를 분자선 박막 성장법 (molecular-beam epitaxy)과 습식 산화법 (wet oxidation)을 이용하여 제작하였고, 이들 구조의 열처리에 따른 광학적인 특성 변화를 photoluminescence (PL), PL excitation, 그리고 공간 분해능을 갖는 micro-PL을 이용하여 분석하였다. 습식 산화와 열처리 과정을 통해 intermixing된 InGaAs 양자점 영역에서 PL 특성을 조사한 결과, intermixing 되지 않은 영역보다 높은 에너지에서 완만한 PL peak이 추가적으로 관측되었다. 산화되지 않은 (non-oxided) AlAs 아래에 있는 InGaAs 양자점 영역에서는 약 1.1 eV에서 PL emission이 주로 관측되었으나, $AlO_x$와 $SiN_x$에 의해 intermixing 된 InGaAs 양자점 영역에서는 각각 약 1.16 eV와 $1.18{\sim}1.20$ eV 에서의 PL emission도 함께 관측되었다. 실험 결과, $AlO_x$층이 있는 InGaAs 양자점 영역이 산화 되지 않은 AlAs층이 있는 영역에 비해서 intermixing 효과가 크게 작용함을 알 수 있었다. Optical characteristics of InGaAs quantum dot (QD) laser structures with an Al native oxide (AlOx) layer as a current-blocking layer were studied by means of photoluminescence (PL), PL excitation, and spatially-resolved micro-PL techniques. The InGaAs QD samples were first grown by molecular-beam epitaxy (MBE), and then prepared by wet oxidation and thermal annealing techniques. For the InGaAs QD structures treated by the wet oxidation and thermal annealing processes, a broad PL emission due to the intermixing effect of the AlOx layer was observed at PL emission energy higher than that of the non-intermixed region. We observed a dominant InGaAs QD emission at about 1.1 eV in the non-oxide AlAs region, while InGaAs QD-related emissions at about 1.16 eV and $1.18{\sim}1.20eV$ were observed for the AlOx and the SiNx regions, respectively. We conclude that the intermixing effect of the InGaAs QD region under an AlOx layer is stronger than that of the InGaAs QD region under a non-oxided AlAs layer.
공작기계용 개방형 HMI Platform 기반 사용자 라이브러리 운용, 관리 모듈 설계
손진호(J. Sohn),조정훈(J. H. Cho),이학철(H. C. Lee),정태근(T. K. Jung),이경태(K. T. Lee),박진욱(J. W. Park),나수인(S. I. Na) Korean Society for Precision Engineering 2021 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 Vol.2021 No.11월
공작기계용 개방형 HMI Platform 은 하나의 단일 S/W Application 으로 구성되는 기존의 일반적인 HMI 시스템과 달리, 새로운 S/W Application 을 설치하거나, 기존 Application 이나 기능 혹은 모듈을 삭제할 수 있어 개별 생산 제조 현장에 최적화된 공작기계 사용 환경을 구성할 수 있다. 또한, 단위 기능이나 모듈을 라이브러리 형태로 만들고 이를 설치하여 다른 App 들이 공용으로 사용할 수 있는 기능을 제공할 수 있도록 지원한다. 이를 위해 공작기계용 개방형 HMI Platform 은 사용자 라이브러리를 설치 및 삭제할 수 있는 기능을 제공하며, 일관된 인터페이스와 데이터 교환 모델을 통해 손쉽게 주요 정보를 교환하고 이를 처리한 결과를 수용할 수 있도록 지원한다. 이 뿐만 아니라, 라이선스 관리 기능을 함께 제공하여 라이브러리에 대한 접근 권한 관리 기능도 지원한다. S/W Application 을 자유롭게 설치. 삭제할 수 있도록 함으로써 HMI 사용환경을 최적화할 수 있는 것과 마찬가지로 라이브러리를 설치 삭제함으로써 단위 App 의 기능을 확장하거나 최적화할 수 있게 지원하여 공작기계 HMI 환경을 좀 더 세밀하게 최적화 할 수 있는 수단을 제공한다 또한 각종 App 들이 공통으로 사용할 수 있는 필수 기능들을 라이브러리 형태로 제공함에 따라 공작기계용 S/W Application 개발을 활성화할 수 있으며, 라이선스 관리 기능 지원을 통해 라이브러리를 통한 과금 정책 운영의 수단을 제공함으로써 개방형 HMI 플랫폼 기반 소프트웨어 생태계 조성의 기반을 갖추게 된다.
Glass / p μc-Si:H 특성에 따른 i μc-Si:H 층 및 태양전지 특성변화 분석
장지훈(Jang, J.H.),이지은(Lee, J.E.),김영진(Kim, Y.J.),정진원(Jung, J.W.),박상현(Park, S.H,),조준식(Cho, J.S.),윤경훈(Yoon, K.H.),송진수(Song, J.),박해웅(Park, H.W.),이정철(Lee, J.C.) 한국신재생에너지학회 2009 한국신재생에너지학회 학술대회논문집 Vol.2009 No.06
PECVD를 이용하여 제조된 미세결정질 p-i-n 실리콘 박막 태양전지에서, p 층은 태양전지의 윈도우 역할 및 그 위에 증착될 i {mu}c-Si:H 층의 'seed'층 역할을 수행하기 때문에, p층의 구조적 및 전기적, 광학적 특성은 태양전지의 전체 성능에 큰 영향을 미칠 수 있다. 본 연구에서는 SiH₄ 농도를 변화시켜 각기 다른 결정 특성을 갖는 p {mu}c-Si:H층을 제조하고 그 위에 i {mu}c-Si:H 층을 증착하여 p층의 결정 특성변화와 그에 따른 i {mu}c-Si:H 층 및 'superstrate' p-i-n 미세결정질 실리콘 박막 태양전지의 특성 변화를 조사하였다. P층의 경우, SiH₄ 농도가 증가함에 따라 결정분율 (Xc)이 감소하여 비정질화되었으며 그에 따라 dark conductivity가 감소하는 경향을 나타내었다. 각기 다른 결정분율을 가지는 p 'seed' 층 위에 증착된 태양전지는, p 'seed' 층의 결정분율이 증가함에 따라 개방전압, 곡선인자, 변환효율이 경향적으로 감소하였다. 이는 p 층 결정분율 변화에 따른 p/i 계면특성 저하 및 그 위에 증착되는 i {mu}c-Si:H 층의 결함밀도 증가 등에 따른 태양전지 특성 감소 때문인 것으로 판단되며, 이를 분석하기 위하여 i {mu}c-Si:H 층의 전기적, 구조적 특성 분석 및 태양전지의 dark I-V 특성 등을 분석하고자 한다.
수소화 처리된 InAs/GaAs 양자점 적외선 수광소자의 전기적 특성
남형도,송진동,최원준,조운조,이정일,최정우,양해석,Nam H.D.,Song J.D.,Choi W.J.,Cho W.J.,Lee J.I.,Choe J.W.,Yang H.S. 한국진공학회 2006 Applied Science and Convergence Technology Vol.15 No.2
InGaAs/GaAs 양자 우물 내에 삽입된 InAs 양자점으로 구성된 5층의 흡수층과 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As/GaAs$ SL (superlattice) 암전류 장벽층을 갖는 QDIP (quantum dot infrared photodetector) 구조에 대한 수소 RF 플라즈마에 의한 수소화 처리가 QDIP의 전기적. 광학적 특성에 미치는 영향에 대해 연구하였다. RF 플라즈마 수소화 처리는 양자점의 밴드구조에 영향을 미치지 않았으며 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As/GaAs$ SL 암전류 장벽층 내의 결함 제거 및 QDIP 구조 내 결함 생성을 동시에 유도함으로써 QDIP의 전기적 특성 향상은 수소 플라즈마 처리시간의 함수임을 알았다. 20 W의 수소 RF 플라즈마를 사용했을 때, 10분간의 플라즈마 조사가 가장 좋은 전기적 특성을 제공하여 높은 암전류 때문에 원시료에서는 측정 할 수 없었던 광전류 신호를 측정 할 수 있었다. In this paper, we investigated the effect of hydrogen-plasma (H-plasma) treatment on the electrical and optical properties of a quantum dot infrared photodetector (QDIP) with a 5-stacked InAs dots in an InGaAs/GaAs well structure and $Al_{0.3}Ga_{0.7}As/GaAs$ SL (superlattice) current blocking layer. It has been observed that H-plasma treatment didn't affect the band structure of QDIP. It has been also observed that the H-plasma treatment on the QDIP not only enhance the electrical property of QDIP by curing the defect channels in $Al_{0.3}Ga_{0.7}As/GaAs$ SL but also introduce defects in QDIP structure. The H-plasma treatment for 10 min with 20 W of RF power provided the lowest dark current, which made it possible to measure the photo-current (PC) of QDIP whose PC was not detectable without the H-plasma treatment due to the high dark current.