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이창희,전기문,신재수,윤주영,조승현,강상우,Lee, ChangHee,Jeon, KiMun,Shin, JaeSoo,Yun, JuYoung,Cho, Seonghyun,Kang, Sang-Woo 한국진공학회 2013 Applied Science and Convergence Technology Vol.22 No.4
본 연구에서는 반도체 소자 생산 공정 중 발생하는 오염입자에 의해 실시간 오염입자 측정장치인 In-Situ Particle Monitor(ISPM)의 광학창의 오염을 방지하기 위한 모듈 개발에 관한 연구이다. 개발한 광학창 오염방지 모듈은 실시간으로 측정하는 ISPM 내 광학창 표면에 오염입자가 흡착되는 것을 방지하기 위한 장치로 적합한 초음파 모듈 개발이 성공적 연구의 핵심내용이다. 또한 그 효과를 극대화하기 위한 구조적인 최적화도 필요하지만 초음파 힘의 표면 전달효율 향상 기술도 개발이 필요한 핵심 기술이다. 개발된 광학창 오염방지 모듈이 장착된 ISPM은 양산용 증착공정 장비(BPSG 증착장비) 배기구에 설치되었으며, 공정조건 별 오염방지 모듈의 성능과 더불어 ISPM 측정 효율도 함께 검증하였다. We developed the contamination prevention module of an optical window for an In-Situ Particle Monitor (ISPM) system. the core part of the module is the generator of an ultrasonic wave and the module is to remove particles stuck to the window by the transfer of the wave force to the window surface. In order to enhance transfer efficiency of the waves the frequency of the ultrasonic wave was optimized and a low impedance material (plexiglass) and a soft sealing material (Si rubber) were used. The ISPM with the developed module was installed at the exhaust line of a BPSG CVD equipment and the effect of the module was verified.
ISPM을 이용한 PECVD 공정 내 발생입자 측정 연구
김동빈,문지훈,김형우,강병수,윤주영,강상우,김태성,Kim, Dongbin,Mun, Jihun,Kim, HyeongU,Kang, Byung Soo,Yun, JuYoung,Kang, SangWoo,Kim, Taesung 한국입자에어로졸학회 2015 Particle and Aerosol Research Vol.11 No.4
Particles which generated from plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) during thin film deposition process can affect to the process yield. By using light extinction method, ISPM can measure particles in the large-diameter pipe (${\leq}300mm$). In our research, in-situ particle monitor (ISPM) sensor was installed at the 300 mm diameter exhaust-line to count the particles in each size. In-house flange for mounting the transmitting and receiving parts of ISPM was carefully designed and installed at a certain point of exhaust line where no plasma light affect to the light extinction measurement. Measurement results of trend changes on particle count in each size can confirm that ISPM is suitable for real-time monitoring of vacuum process.