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      • SCOPUSKCI등재

        반응표면모델에 의한 철도 차량 대차의 탄성조인트 최적설계

        박찬경,이광기,Park, Chan-Gyeong,Lee, Gwang-Gi 대한기계학회 2000 大韓機械學會論文集A Vol.24 No.3

        Optimization of the elastic joint of train is performed according to the minimization of ten responses which represent driving safety and ride comfort of train and analyzed by using the each response se surface model from stochastic design of experiments. After the each response surface model is constructed, the main effect and sensitivity analyses are successfully performed by 2nd order approximated regression model as described in this paper. We can get the optimal solutions using by nonlinear programming method such as simplex or interval optimization algorithms. The response surface models and the optimization algorithms are used together to obtain the optimal design of the elastic joint of train. the ten 2nd order polynomial response surface models of the three translational stiffness of the elastic joint (design factors) are constructed by using CCD(Central Composite Design) and the multi-objective optimization is also performed by applying min-max and distance minimization techniques of relative target deviation.

      • KCI등재후보

        방문건강관리 간호사의 직무스트레스, 직무만족도와 조직애착도

        박찬경(Chan Gyeong Park),박기수(Ki Soo Park),강영실(Young Sil Kang) 한국농촌의학 지역보건학회 2013 농촌의학·지역보건 Vol.38 No.1

        Objectives: This research was done to identify relationships among job stress, fatigue, job satisfaction, and commitment to organization in customized home health care nurses. Methods: Research participants were 130 nurses who worked in the customized home health care of 20 county in Gyeongnam province. Data collection for this descriptive correlational study was done at August 2010 using self report questionnaires, and analyzed using descriptive statistics, t-test, ANOVA, and we analyzed a four step approach in which several regression analyses were conducted and significance of the coefficients is examined at each step. Results: The results from step 1 showed that, the effect of each job stress was significantly related to job satisfaction. In step 2, the direct effect of commitment to organization on job satisfactions were all significant too. Step 3 analysis showed that the total effect of each job stress on commitment to organization symptoms was significant. Step 4 showed the results of controlling for mediating factor (job satisfaction): job demand and insecurity were significantly associated with commitment to organization(p<0.001), the finding supports that others were fully mediated by each job satisfaction, and, the job demand and insecurity were partially mediated by job satisfaction. Conclusion: Results of this research indicated that job stress in customized home health care nurses was the principal variable affecting job satisfaction and commitment to organization. Appropriate stress management strategies based on assessment of job demand and job security for these nurses lead to development of improved commitment to organization.

      • SCOPUSKCI등재

        $\textrm{RuO}_2$ 박막의 산소 분위기 열처리시 열적 안정성에 관한 연구

        오상호,박찬경,백홍구,O, Sang-Ho,Park, Chan-Gyeong,Baek, Hong-Gu 한국재료학회 1998 한국재료학회지 Vol.8 No.12

        Rf 마그네트론 반응성 스퍼터링법으로 $RuO_2$박막을 Si 및 Ru/Si 기판 위에 증착한 뒤 산소 분위기 (1atm)에서 열처리를 하여 RuO$_2$박막의 열적 안정성 및 확산방지 특성을 연구하였다.$ RuO_2$박막은 산소 분위기 $700^{\circ}C$에서 10분까지 안정하여, 산소와 실리콘에 대한 우수한 확산방지 특성을 나타내었다 $750^{\circ}C$ 열처리시, 우선 성장 방위에 관계없이 RuO$_2$박막 표면 및 내부에서 휘발 반응이 일어남과 동시에 확산방지 특성은 저하되었다. 그러나 80$0^{\circ}C$ 열처리 시에는 $750^{\circ}C$ 열처리와는 다른 미세구조를 나타내었다. 이러한 열처리 온도에 따른 휘발반응에는 RuO$_2$의 표면 결함구조인 $RuO_3$와 증착시 박막내 함유된 과잉산소에 의한 결함 구조가 영향을 주는 것으로 판단된다. $RuO_2$ thin films were deposited on Si and Ru/Si substrates by rf magnetron reactive sputtering and annealed in oxygen atmosphere(1atm) to investigate their thermal stability and diffusion barrier property. $RuO_2$ thin films were thermally stable up to 700\ulcorner for 10min. in oxygen atmosphere and showed excellent barrier property against the interdiffusion of silicon and oxygen. After annealing at $750^{\circ}C$ , however, volatilization to higher oxide occurred at the surface and inside of $RuO_2$ thin film and diffusion barrier property was also deteriorated. When annealed at $800^{\circ}C$, $RuO_2$thin film showed a different microstructure from that of $RuO_2$ thin film annealed at 75$0^{\circ}C$. It is likely that surface defect structure of $RuO_2$, $RuO_3$, and excess oxygen had an influence on the mode of volatilization with increasing annealing temperature.

      • SCOPUSKCI등재

        반구형 다결정 실리콘 박막의 결정학적 성장방위

        신동원,박찬로,박찬경,김종철,Sin, Dong-Won,Park, Chan-Ro,Park, Chan-Gyeong,Kim, Jong-Cheol 한국재료학회 1994 한국재료학회지 Vol.4 No.7

        본 연구에서는 반구형(HSG) 다결성 실리콘 박막을 제조하여 박막에 존재하는 결정립들의 특성과 각 결정립들의 형성기구를 예측하고자 하였다. LPCVD법으로 실리콘 박막을 증착하여 미세구조를 관찰, 분석한 결과 $575^{\circ}C$ 증착온도에서 HSG 다결정 실리콘 박막이 형성되었음을 관찰하였다. 이 HSG 박막은 비정질 및 결정질 상으로 구성되어 있었으며 결정립은 박막의 표면에 존재하는 upper grain들과 $SiO_{2}$와의계면에 존재하는 lower grain들로 구분되었다. Upper grain은 실리콘 원자의 표면확산에 의하여 형성되었으며, lower grain은 고상성장에 의하여 형성되었다. 성장한 결정립들의 성장방위를 분석한 결과 주로 upper grain은 <110>, lower grain은 <311>과 <111>방위를 나타내었다. 이러한 방위관계는 각 결정립들의 형성기구(formation mechanism)의 차이에 기인한다고 사료된다. 또한 HSG박막의 미세구조와 진공열처리한 시편을 관찰한 결과 HSG 박막의 형성은 실리콘 원자의 표면확산에 의해 지배됨을 알았다. The purpose of present study is to find out the formation mechanism of hemi-spherical grained(HSG) polysilicon film. Silicon film was deposited using LPCVD. Polycrystalline silicon film was deposited at $575^{\circ}C$ contained crystalline HSG in the amorphous matrix phase. The crystalline HSG can be categorized into two grains : lower grains and upper grains. Lower grains are located at interface between silicon dioxide and silicon film, and upper grains are located at surface. The growth orientations of HSG were identified as (311) or (111) directions for lower grains and perferentially (110) direction for upper grains. This difference of growth orientations seems to be caused by the difference of formation mechanisms. That is, lower grain is formed by soild phase crystallization, on the other hand, upper grain is formed by surface diffusion of silicon atoms. It was thus, proposed that the formation of practical HSG polysilicon film is mainly controlled by surface diffusion of silicon atoms.

      • SCOPUSKCI등재

        Co/GaAs계의 계면반응, 상평형 밑 전기적 특성에 관한 연구

        곽준섭,백홍구,신동원,박찬경,김창수,노삼규,Gwak, Jun-Seop,Baek, Hong-Gu,Sin, Dong-Won,Park, Chan-Gyeong,Kim, Chang-Su,No, Sam-Gyu 한국재료학회 1995 한국재료학회지 Vol.5 No.5

        Interfacial reactions, phase equilibria and elecrrical properties of Co films on (001) oreinted GaAs substrate, in the temperature range 300-$700^{\circ}C$ for 30min. have been investigated using x-ray diffraction and Augger electron spectropcopy. Cobalt started to react with GaAs at 38$0^{\circ}C$ by formation of Co$_{2}$GaAs phase. At 42$0^{\circ}C$, CoGa and CpAs nucleated at the Co and Co$_{2}$GaAs interface and grew with Co$_{2}$GaAs upto 46$0^{\circ}C$. contacts produced in this annealing regime were rectifying and Schottky varrier heights increased from 0.688eV(as-deposite state) up to 0.72eV(42$0^{\circ}C$). In the subsequent reation, the ternary phase started to decompose and lost stoichiometry at 50$0^{\circ}C$. At higher temperature, Co$_{2}$GaAs disappered and CoGa/CoAs/GaAs layer structures were formed. Contacts produced at higher temperature regime(>50$0^{\circ}C$) showed very low effective barriers. The results of interfacial reactions can be understood from the Co-Ga-As ternary phase diagram.

      • KCI등재
      • SCOPUSKCI등재

        Co/Ti/Si 계에서 고상반응에 의한 Cobalt Silicide 형성기구 고찰

        이승헌,배준철,신동원,박찬경,Lee, Seung-Heon,Bae, Jun-Cheol,Sin, Dong-Won,Park, Chan-Gyeong 한국재료학회 1996 한국재료학회지 Vol.6 No.8

        (100) Si 기판위에 전자 빔 증착법을 이용하여$ 90\AA$두께의 Ti과 $120\AA$두께의 Co를 순차적으로 증착시켰다. 그 후 질소분위기하의 $350-900^{\circ}C$온도구간에서 급속열처리함으로써 (100) Si 기판위의 Co/Ti 이중 박막의 실리사이드화 반응이 일어나게 했으며 이를 XRD, AES, TEM을 이용하여 분석하였다. $500^{\circ}C$이하의 온도에서는 Co원자들이 Ti층쪽으로 빠르게 확산하여 Si와 반응하기 이전에 Ti원자들과 상호 혼합되어 어떠한 실리사이드도 형성되지 않았다. $500^{\circ}C$에서 열처리된 시편의 고분해능전자현미경 영상을 통해 Co-Ti 혼합층과 실리콘 기판과의 계면에서 (100)Si 기판과 정합관계를 가지는 CoSi2가 형성되었음을 확인했다. $600^{\circ}C$열처리에 의해 Co-Ti-Sitka성분 실리사이드가 형성되기 시작하였으며, 형성된 삼성분 실리사이드는 Ti의 out-diffusion에 의해 $900^{\circ}C$ 이상의 온도에서는 불안정하였다. Co/Ti이중 박막에 의해 형성된 CoSi2는 실리콘 기판과 평탄한 계면을 가지며 실리콘 기판에 대해 (100)우선성장방위를 가졌다.

      • KCI등재후보

        추진장치 성능측정 시스템에 관한 연구

        한영재 ( Han Yeong Jae ),김석원 ( Kim Seog Won ),김영국 ( Kim Yeong Gug ),박찬경 ( Park Chan Gyeong ),최종선 ( Choe Jong Seon ),김정수 ( Kim Jeong Su ) 한국센서학회 2003 센서학회지 Vol.12 No.4

        한국형 고속철도차량(350Km/h)은 7량 1편성으로 구성되어 있으며, 현재 오송기지에서 본선시운전 시험운행중에 있다. 이 차량에 취부된 여러 장치들의 성능을 확인하기 위해서 다양한 신호를 측정하기 위한 측정시스템이 구축되었다. 이 논문에서는 한국형 고속철도차량의 추진장치 성능측정 시스템에 대하여 서술하였다. 추진장치의 성능측정은 Motor Block의 성능확인에 초점을 맞추고 측정할 위치를 정하였다. 본선시운전 시험을 위해, 철도연에서 자체적으로 상시계측시스템을 개발하였으며, 이 이스템을 통해 추진시스템의 각종 전기신호를 입력받아 분석을 실시하였다. 이를 통해서 개발된 추진시스템의 성능을 확인할 수 있었다. The korean high speed train(350㎞/h), composed of 7cars that are 2 power cars, 2 motorized car and 3 trailer cars, has been developed and is under on-line test. To verify the design requirements about the functions and traction performances of this train, KRRI(Korea Railroad Research Institute) decided to evaluate traction performances of this during on-line test. For this purpose, such as torque, velocity, voltage and current, must be measured. KRRI has developed the measurement system that can be measured vast and various signals effectively. In this paper, we introduces traction performances of korean high speed train. The traction measurement items are focused on the verification of motor block performances. Motor block are consist of 2 motor. For this test, we verified traction performances of korean high speed train.

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