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Cycle-CVD법으로 증착된 TiN 박막의 ALD 증착기구와 특성에 관한 연구
민재식,손영웅,강원구,강상원,Min, Jae-Sik,Son, Young-Woong,Kang, Won-Gu,Kang, Sang-Won 한국재료학회 1998 한국재료학회지 Vol.8 No.5
Ti[N ($C_{2}$$H_{5}$ $CH_{3}$)$_{2}$]$_{4}$ [tetrakis(ethylmethylammino)titanium.TEMAT]와 $NH_{3}$를 반응가스로 하여 각각 펄스(pulse) 형태로 시분할 주입되는 새로운 박막 증착방법(이하 Cycle-CVD라 함)을 이용하여 TiN박막이 $SiO_2$.기판위에 증착되었다.Cycle-CVD에서 반을로 내로 주입되는 반응가스와 Ar가스는 TEAM 펄스, Ar 펄스,$NH_{3}$펄스, Ar 펄스의 순서로 시분할주입되었고, 이렇게 차례대로 주입되는 4개의 펄스를 하나의 cycle로 규정하고, Cycle-CVD는 이러한 cycle이 연속하여 반복적으로 주입되도록 설계되었다. 기판온도가 $170^{\circ}C$-$210^{\circ}C$에서는 atomic layer deposition(ALD)특성을 보였고, $200^{\circ}C$에서 충분한 반응가스의 펄스시간 후에 cycle당 증착된 박막의 두께가 0.6nm/cycle로 포화되는 양상을 보여주었는데, 이는 cycle당 증착된 TiN 박막의 두께가 1.6 monolayer(ML)/cycle에 해당된다. 이와 같이 반등가스의 흡착을 이용ㅇ하여 TiN이 제한된 표면반응만에 의하여 ALD 기구에 의해 증착이 이루어지므로 TiN 박막의 두께는 단지 cycle 횟수만으로 정확하게 제어할 수 있었고, 우수한 step coverage 특성을 얻었다. 또한 반응가스간의 기상반응을 방지함으로써 입자의 발생을 억제할 수 있었고, 상대적으로 낮은 온도임에도 불구하고 4at% 이하의 낮은 탄소함량을 갖는 양호한 특성을 보여주었다. Atomic layer deposition(ALD) of amorphous TiN films on $SiO_2$ between 17$0^{\circ}C$ and 21O$^{\circ}C$ has been investigated by alternate supply of reactant sources, Ti[N($C_2,H_5,CH_3)_2]_4$ [tetrakis(ethylmethylamminoltitanium: TEMAT] and $NH_3$. Reactant sources were injected into the reactor in the order of TEMAT vapor pulse, Ar gas pulse, $NH_3$. gas pulse and Ar gas pulse. Film thickness per cycle was saturated at around 1.6 monolayer(MU per cycle with sufficient pulse times of reactant sources at 20$0^{\circ}C$. The results suggest that film thickness per cycle could be beyond 1 MLicycie in ALD, which were explained by rechemisorption mechanisms of reactant sources. The ideal linear relationship be¬tween number of cycles and film thickness is confirmed. As a results of surface limited reactions of ALD, step cover¬age was excellent. Particles caused by the gas phase reactions between TEMAT and NH3 were almost free because TEMAT was seperated from $NH_3$ by the Ar pulse. In spite of relatively low substrate temperature, carbon impurity was incorporated below 4 at%.
열처리에 따른 CVD Cu 박막의 미세구조 및 전기 비저항의 변화
이원준(Won-Jun Lee),민재식(Jae-Sik Min),라사균(Sa-Kyun Rha),이영종(Young-Jong Lee),김우식(Woo-Sik Kim),김동원(Dong-Won Kim),박종욱(Chong-Ook Park) 한국진공학회(ASCT) 1995 Applied Science and Convergence Technology Vol.4 No.2
열처리에 따른 Cu 박막의 미세구조 및 전기 비저항의 변화를 조사하였다. Cu(hfac)(TMVS)를 원료로 하는 저압화학증착법에 의해 증착온도를 160℃에서 330℃까지 변화시키면서 TiN 기판 위에 Cu 박막을 제조하였고 450℃에서 30분간 열처리하였다. 증착온도에 따라 표면이 평평한 Cu 박막을 형성하는 표면 반응제한지역과 표면이 거친 Cu 박막을 형성하는 물질전달제한지역이 관찰되었다. 열처리 후 Cu 박막은 전체적으로 표면이 평탄해졌고 결정립의 크기는 모든 증착온도에서 증가하였는데 그 편차 역시 증가하여 EM 저항성 측면에서는 큰 효과를 보이지 못할 것으로 판단된다. 비저항은 증착온도 200℃에서 급격히 증가하였고 열처리 후에는 모든 증착온도에서 비저항이 감소하였는데 표면반응제한지역에서는 결정립 성장에 의한 약간의 비저항 감소를 보였으나 물질전달제한지역에서는 응집에 의해 Cu 결정립간의 전기적 연결 상태가 향상되어 급격한 비저항 감소를 보였다. The effects of the thermal annealing on the microstructure and the electrical resistivity of the copper films were studied. Copper film was prepared on TiN substrate by the low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) using Cu(hfac)(TMVS) as the precursor at the deposition temperature between 160 and 330℃, and then annealed at 450℃ for 30 min. There were two distinct temperature regions, one is the surface reaction limited region, producing smooth surfaced copper film, and the other is the mass transport limited region which produces rough surfaced film. After annealing, the surfaces of the copper films had tendency to become smooth, and the grain size enlarged in all deposition temperature regions. However, the deviation of the grain size was increased too much to improve the EM resistance. The electrical resistivity showed a rapid increase at the deposition temperature of 200℃. After annealing, the resistivity of the copper film deposited in the surface reaction limited region decreased slightly by the grain growth, but ones deposited in the mass transport limited region decreased drastically by coalescence of the grains, causing the improvements of the electrical connections among copper grains.
학생 참여형 과학 수업에서 수업 활동 유형에 따른 학생들의 선호도 분석
민재식 ( Jaesik Min ),김용진 ( Yong-jin Kim ) 한국생물교육학회 2021 생물교육 Vol.49 No.4
In this study, the types of student participatory science classes were analyzed and the students’ preference for each type was surveyed. To this end, lesson plans were submitted by science teachers in leading schools for student participatory science classes in 2019 were analyzed according to their types and a survey was conducted on students of leading schools for student participatory science classes. The types of student participatory science classes were divided into experiment·observation,production·expression, inquiry·interpretation, discussion·debate, project, and problem solving. Analysis of lesson plans showed that the experiment·observation type was used the most, accounting for 181(25.6%) and the problem solving type was used the least(9.8%). The result of analyzing the difference in preference according to the type of science class activity showed that there were statistically significant differences in elementary, middle, and high schools. Analysis of the students’ preference for the types of student participatory science classes showed that the preference for the experiment·observation type was statistically significantly higher than that for the teacher centered one(t=-12.17, p=.000). Therefore, in student participatory science classes, it can be seen that the experiment·observation class type is an important type that can increase students’ interest and satisfaction in science classes. Other types except for the experiment·observation type have lower preference than teacher-centered classes, so student participatory classes require efficient operation to improve academic achievement or satisfaction along with interest. The study on the preference for the type of science class activities by gender indicated that male students showed higher preference than female students did in all science class activities. Strategies on selecting and applying the relevant class type is important because preference for the student participatory science classes can be different according to teachers’ instructional design strategies, relevance of class activities, school levels, and gender of the students.
민재식(Jae S Min),한준희(Joon H. Han) 한국정보과학회 1990 한국정보과학회 학술발표논문집 Vol.17 No.2
texture 분류에는 지금까지 여러가지 접근방법이 있어왔는데, 특히 자연적인 texture 분류에 주로 적응되는 접근방법으로는 통계적 접근방법(statistical approach)이 주류를 이루었다. coocurrence 행렬, random field model 등의 이 접근방법의 예들인데, 이들 방법들은 pixel 단위의 정보처리에만 치우친 경향이 있어 상대적으로 굵직한 texture의 처리에는 적당하지 않고 또 반대로 굵직한 texture 처리에 적당하도록 해주기 위해서는 매개변수를 사용, 주어지는 texture에 따라 이 매개변수의 값을 인위적으로 변화시켜 주어야하는 등의 단점들을 안고 있다. 본 논문에서는 texture 분류에서 특별한 매개변수의 사용 없이도 주어지는 texture의 굵기에 상관없이 texture 분류 가능하도록 피라미드 구조를 texture 분류에 사용하였다.