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- 저자 : 김응호 ( Young Hwan Kim (검색결과 6 건)
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김응호,김영환,정동용,신영준,유재형,최청송 ( Eung Ho Kim,Young Hwan Kim,Dong Yong Chung,Young Joon Shin,Jae Hyung Yoo,Cheong Song Choi ) 한국화학공학회 1996 Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHA Vol.34 No.2
The Kinetics of the decomposition of H₂O₂ in the acidic solution was investigated. The investigation was conducted within the range of HNO₃ concentration of 0-4 M at temperature of 70, 80 and 90℃, respectively. The decomposition reaction is first order with respect to [H₂O₂] and is enhanced by acid-catalytic effect above HNO₃ of 2 M. The rates are as follows; In[H₂O₂]/[H₂O₂]_0= -2.23×10^(10) exp(-18200/RT) ·t ([H^+]<2M) In[H₂O₂]/[H₂O₂]_0=-[2.23×10^(10) exp(-18200/RT)+2.1×10^(12) exp(-21200/RT) ([H^+] -2)] ·t ([H^+]>2M) The effect of UO₂^(+2), Nd^(+3), Pd^(+2), F^(+3), MoO₂^(+2), Sr^(+2), and Cs^+ on the decomposition of H₂O₂ in the solution were examined too, and the rate was compared with that obtained from metal ion-free solution.
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김응호,김영환,정동용,유재형 ( Eung Ho Kim,Young Hwan Kim,Dong Yong Chung,Jae Hyung Yoo ) 한국공업화학회 1997 공업화학 Vol.8 No.1
본 연구에서는 질산매질에서 UV 광조사에 의한 옥살산 분해연구가 수행되었다. UV 광원은 2537 의 파장을 방출하는 수은램프가 사용되었다. UV 광조사에도 불구하고 옥살산 자체는 분해되지 않았다. 그러나 질산매질하에서 UV 광조사에 의해 옥살산은 쉽게 분해되었다. UV 광조사에 의해 NO₃-으로부터 발생되는 산소라디칼이 옥살산을 분해시키는 것으로 조사되었다. 옥살산 분해율은 질산 0.5M 부근에서 최대를 이루다가 질산농도 증가에 따라 점차 감소하였다. 이것 역시 산소라디칼과 NO₃- 사이에서 반응으로 쉽게 설명될 수 있다. Decomposition of oxalic acid was studied in nitric acid media by using UV radiations. The UV source is Hg-lamp, emitting 2537 , wavelength. Oxalic acid was not decomposed by itself in spite of UV radiation, but in the presence of nitric acid decomposed easily under UV radiation. It is believed that oxygen radical generated from nitrate ion by UV radiation results in the decomposition of oxalic acid. Decomposition rate of oxalic acid reached a maximum in around 0.5M HNO₃ and then gradually decreased with nitric acid concentration. Thd decrease can be also explained to be due to the reaction between oxygen radical and NO₃-.
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김응호,김영환,유재형,정동용,이일희 한국화학공학회 1997 Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHA Vol.35 No.2
고준위 방서성 액체폐기물을 옥살산침전으로 처리할시 폐기물로 침전여액이 발생된다. 침전여액에는 옥살산과 아스코빅산과 같은 유기물질들이 함유되고 있고, 이들의 제거는 방사성 폐기물으 긍극적 처리처분에 대단히 중요하다. 본 연구에서는 모의 침전여액을 제조하고 모의 침전여액으로부터 유기물질(옥살산과 아스코빅산) 제거 연구가 수행되었다. 2가지 제거방법이 본 연구에 적용되었다. 하나는 과산화수소를 이용한 유기물제거로서, 모의 침전여액에 존재하는 Ru^(+4)과 Fe^(+3)은 과산화수고를 자체분해시키는 역할을 하기 때문에 유기물질 분해를 방해하는 것으로 밝혀졌다. 그리고 반응물의 C.O.D를 낮추는데 있어서 회분식보다 반회분식이 보다 더 효율적이었다. 또 다른 방법으로는 NaOH를 첨가하는 방법으로서 용액내 pH가 증가됨에 따라 침전이 발생하면서 C.O.D는 현격히 감소하는 경향을 보여주었다. 침전물 Na₂C₂O₄로 확인되었고, pH9인 용액을 90℃에서 3시간 이상 유지시킨 후 과산화수소를 첨가하면 용액내 C.O.D는 98%이상 감소된다. At a treatment of high level liquid radioactive waste by oxalate precipitation, a filtrate is occured as waste. Organic substances such as oxalic acid and ascorbic acid are included in the filtrate and removal of those is very important in viewpoint of ultimate treatment and disposal of waste. The purpose of the present studies is to find means for removing organic substances in the filtrate. To achieve this, thu simulated filtrate was prepared and two methods for removing organic substances in the simulated filtrate have been employed in this study. One is decomposition method of organic substances by using hydrogen peroxide. As a result of this method, it was found that both Ru^(+4)과 Fe^(+3) prevented organic substances from decomposition in the simulated filtrate due to self-decomposition of hydrogen peroxide by those ions and semibateh operation was preferred to batchwise one at lowering C.O.D in the simulated filtrate. The other method is increasing pH of the simulated filtrate by adding NaOH. C.O.D decreased due to precipitation of oxalate ion as Na₂C₂O₄ form with pH of the simulated filtrate. Finally, C.O.D could be decreased to over 98 % by addition of H₂O₂ after the simulated filtrate kept at 90℃ for 3 hours.
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김응호,김영환,유재형,최청송,정동용 한국화학공학회 1997 Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHA Vol.35 No.3
질산이 첨가되었을 경우와 첨가되지 않았을 때의 과산화수소와 옥살산 혼합물의 광분해 연구와 아울러 과산화수소 단독의 광분해 연구가 수행되었다. UV 조사시 과산화수소 분해반응은 과산화수소가 고농도일 경우에는 1차 반응, 저농도에서는 0차 반응으로 나타났다. 옥살산 자체는 UV조사에 의해서 분해되지 않지만, 과산화수소가 존재할 때 UV 조사에 의해 급격히 분해되었다. 그러나 질산 매질에서 과산화수소는 더 이상 옥살산 분해에 영향을 미치지 않았다. 이것은 과산화수소의 광분해에 의해 발생되는 수산화 라디칼이 옥살산과의 반응으로는 소모되지 못하고, NO₃ 의 광분해 생성물인 NO₂과의 반응으로 소모됨을 알 수 있었다. Photodestruction of hydrogen peroxide alone as well as mixture of hydrogen peroxid e and oxalic acid with and without nitric acid were carried out in this study. Decomposition reaction of H₂O₂ under UV radiation showed that rate equation was first order with respect to [H₂O₂] for high concentration of H₂O₂ and zero order for low concentration of H₂O₂. Oxalic acid itself was not decomposed by UV radiation, whereas in the presence of H₂O₂ decomposed rapidly under UV radiation. But, the presence of H₂O₂ in the nitric acid media affected no longer on decomposition of oxalic acid. This was attributed that OH radical generated by photolysis of H₂O₂ was not consumed by reaction with oxalic acid, but by reaction with NO₂ion to be photolysis product of NO₃.
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