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황승노,양재건,정일현 ( Seung No Hwnag,Jae Gun Yang,Il Hyun Jung ) 한국공업화학회 1997 공업화학 Vol.8 No.3
유리를 원료로 주형법에 의해 세라믹막을 제조하고, Sodiumate, S₃-Al, S₃ 등의 실리콘 화합물을 침적시켜 세라믹-실리콘 복합막을 제조하여 이에 따른 기체 투과특성에 대해 연구하였다. 제조된 세라믹막과 세라믹-sodiumate 복합막은 다공성 구조임을 알수 있었고 세라믹-S₃-Al과 세라믹-S₃복합막은 실리콘 화합물의 공극도입에 의한 치밀한 공극구조가 확인되었다. 세라믹막과 세라믹-sodiumate막의 경우 온도가 증가함에 따라 투과속도가 감소하고 압력에 따라 선형적으로 투과속도가 증가하였으며, 세라믹-S₃-Al과 세라믹-S₃ 복합막은 온도가 증가함에 따라 투과속도가 증가하는 경향을 보였으며, 상대적으로 투과속도에 미치는 압력의 영향이 적었다. 투과속도는 세라믹막이 가장 빠르게 나타났고, 세라믹-Sodiumate, 세라믹-S₃-Al, 세라믹-S₃ 복합막 순서였으며, 선택도는 이와 반대 경향을 보였다. 또한 침적을 통한 투과속도를 구하여 실제 복합막의 투과속도와 비교한 결과, S₃가 가장 큰 영향이 있음을 확인하였다. 투과 메카니즘의 변화에서 세라믹막과 세라믹-sodiumate 복합막은 온도에 따라 투과기체의 투과도가 감소하는 Knudsen영역의 투과특성을 보였으나, 세라믹-S₃-Al과 세라믹-S₃ 복합막은 이와 반대로 온도에 따라 투과도가 증가하는 activated 확산 메카니즘을 따르는 특성을 보였다. Ceramic membranes are prepared by using molding method of the glass materials, ceramic-silicone composite membranes are synthesized with immersing silicone compound of sodiumate, S₃-Al, S₃ and we investigated the properties of gas permeation. Ceramic membranes and ceramic-sodiumate membranes that has been prepared were identified as porous structure and ceramic-S₃-Al membranes and ceramic-S₃ membranes were showed with dense structure by immersion of silicone compounds. Gas permeation properties through the ceramic membranes and ceramic-sodiumate membranes decreased with increasing temperature and linearly increased with increasing pressure, ceramic-S₃-Al membranes and ceramic-S₃ membranes increased with increasing temperature and pressure effect was low. Permeation rate was found out high value with ceramic membranes and in order of ceramic-sodiumate membranes, ceramic-S₃-Al membranes and ceramic-S₃ membranes, but selectivity reversed in the order. Gas permeation mechanism through the ceramic membranes and ceramics-sodiumate composite membrane decreased with increasing temperature, suggesting an Knudsen diffusion mechanism, but ceramic-S₃-Al composite membranes and ceramic-S₃ composite membranes showed an activated diffusion by which gas permeation rates through the membranes increased with an increase in temperature.
황승노(Seungro Hwang),류기열(Kiyeol Ryu),예홍진(Hongjin Yeh) 한국정보과학회 2003 한국정보과학회 학술발표논문집 Vol.30 No.1A
인터넷에 노출되어 있는 시스템 혹은 내부 네트워크에 대한 해커들의 공격은 날이 갈수록 심각한 상태에 이르고 있으며 이에 따라 이를 방어하기 위한 기법들에 대한 개발도 활발한 상태이다. 아무리 우수한 보안 시스템이라도 이를 어떻게 관리하고 사용하는가에 따라 그 효과가 크게 변한다. 본 논문은 RBAC 모델을 보안 관리에 적용시켜 보안 개체들 간의 효율적 역할 분담 및 상호 견제를 통해 보안 관리 체계를 개선하는 방안을 제안한다.
플라즈마 중합된 Trifluoromethane 막의 플라즈마 표면개질
정일현,황승노 한국화학공학회 1998 Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHA Vol.36 No.4
Ar, O₂, N₂등의 플라즈마 처리를 이용한 CHF₃(trifluoromethane) 플라즈마 고분자의 표면개질이 생성된 표면 기능성 그룹과 친수성 성향과의 관점에서 조사되었다. 플라즈마 처리된 CHF₃(trifluoromethane) 플라즈마 고분자 표면은 카보닐, 카복실, 알데히드 등의 산소 기능성 그룹들이 생성되었고, 표면 산소 함유량과 O/C비의 증가를 나타내었다. 또한 rf-플라즈마 반응기에서 플라즈마 처리된 CHF₃플라즈마 고분자의 친수성 표면에 미치는 공정변수의 영향을 결정하였다. CHF₃ 플라즈마 고분자의 접촉각은 rf-출력과 처리시간의 증가에 따라 감소하는 경향을 나타내었다. 플라즈마 처리에 의해 CHF₃ 플라즈마 고분자가 친수성으로 개질되었음을 확인하였으며, 친수성 표면개질 반응의 최적조건은 복합 매개변수[(W/FM)t] 300-400(GJs/㎏) 부근임을 알 수 있었다. The surface modification of plasma polymerized CHF₃ by Ar, O₂, and N₂ plasmas treatment was investigated from the point of view of the hydrophilicity and the functionality of the generated surface. The surface treated with plasmas was generated cabonyl, carboxyl, and aldehyde groups and showed the increase in the oxygen content and O/C atomic ratio. Also, the effects of process parameters on the hydrophilic surface of the plasma treated plasma polymerized CHF₃ have been determined in rf-plasma reactor. The contact angle of plasma polymerized CHF₃decreased with increasing rf-power and treatment time. It was found that the; plasma polymerized CHF₃ was hydrophilic surface, and the optimum condition for hydrophilic surface modification was 300-400(GJs/㎏), in the composite parameter((W/FM)t].
정일현,윤용수,전법주,황승노 한국공업화학회 1997 응용화학 Vol.1 No.2
Plasma polymer were deposited on polyethylene substrates using CHF₃(trifluoromethane) and CHF₃ plasma polymer deposited were again treated by plasma such as Ar, O₂, N₂. Characteristics of surface properties of CHF₃ plasma polymer treated were investigated by using static contact angle, AFM(atomic force microscopy), FT-IR, XPS(x-ray photoelectron spectroscopy), TA(thermal analyzer) and surface properties were varied with the different plasma process conditions.