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Folded Reflectarray를 이용한 고이득 94 GHz 모노펄스 안테나
이한승,채희덕,전종훈,남상욱,Lee, Han-Seung,Chae, Hee-Duck,Chun, Jong-Hoon,Nam, Sang-Wook 한국전자파학회 2008 한국전자파학회논문지 Vol.19 No.1
본 논문은 94GHz를 중심 주파수로 하며, 모노펄스 형식의 추적 레이다 시스템에 사용되는 folded reflectarray 안테나를 제안한다. 추적 레이다는 대부분 목표물로부터 반사되어 돌아온 반사 신호들을 비교하여 목표물을 찾으며, 모노펄스 형식에서는 이러한 신호들의 비교를 동시에 수행한다. 본 논문에서 제안한 모노펄스 형식의 folded reflectarray 안테나는 polarizing grid, reflectarray, 다중 모드 feed horn, 그리고 도파관으로 제작된 comparator로 이루어져 있다. 제작된 안테나는 다중 모드 feed horn과 comparator의 모노펄스 급전부에 의해 sum 모드, azimuth 모드, 그리고 elevation모드, 이렇게 세 개의 방사 패턴 형식을 나타낼 수 있다. 측정 결과, sum 패턴에서는 36dB, azimuth 패턴에서는 33.5dB, 그리고 elevation 패턴에서는 27.2 dB의 이득을 확인할 수 있었다 This paper proposes a high-gain monopulse antenna using the folded reflectarray for a monopulse target-tracking radar systems designed at the center frequency of 94 GHz. In target-tracking radar systems, the angle of arrival of the incoming wave Is determined by comparing the signal received on two or more non-coincident antenna patterns. This is the physical basis of most target-tracking techniques and the comparison is made simultaneously in a monopulse radar systems. In this paper, the antenna consists of polarizing grid, reflectarray, multimode feed horn, and comparator implemented by wavguide. The antenna is able to have three radiation patterns by using the monopulse feed systems assembled by multimode feed horn and comparator. The antenna demonstrates maximum gains 36dB, 33.5dB and 27.2dB at sum mode, azimuth mode, and evevation mode respectively.
ECR plasma로 전처리된 Cu seed층 위에 전해도금 된 Cu 막에 대한 Annealing의 효과
이한승,권덕렬,박현아,이종무,Lee, Han-seung,Kwon, Duk-ryel,Park, Hyun-ah,Lee, Chong-mu 한국재료학회 2003 한국재료학회지 Vol.13 No.3
Thin copper films were grown by electrodeposition on copper seed layers which were grown by sputtering of an ultra-pure copper target on tantalum nitride-coated silicon wafers and subsequently, cleaned in ECR plasma. The copper films were then subjected to ⅰ) vacuum annealing, ⅱ) rapid thermal annealing (RTA) and ⅲ) rapid thermal nitriding (RTN) at various temperatures over different periods of time. XRD, SEM, AFM and resistivity measurements were done to ascertain the optimum heat treatment condition for obtaining film with minimum resistivity, predominantly (111)-oriented and smoother surface morphology. The as-deposited film has a resistivity of ∼6.3 $\mu$$\Omega$-cm and a relatively small intensity ratio of (111) and (200) peaks. With heat treatment, the resistivity decreases and the (111) peak becomes dominant, along with improved smoothness of the copper film. The optimum condition (with a resistivity of 1.98 $\mu$$\Omega$-cm) is suggested as the rapid thermal nitriding at 400oC for 120 sec.