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윤종호,Yun, Jong-Ho 한국정보통신집흥협회 1997 정보화사회 Vol.119 No.-
개발기술을 확보하기가 용이하지 않은 이유는 LAN장비 개발에 필요한 기술이 결코 국지적이 아닌 다양한 하드웨어 및 소프트웨어의 종합기술이 요구되는 첨단분야이기 때문이다. 따라서 정보 및 관련 연구소의 개발의지 및 기초기술 확보가 절실히 요구된다.
휘도와 수직 위치 정보를 이용한 입체 변환 알고리즘 구현
윤종호(Yun, Jong-Ho),최명렬(Choi, Myung-Ryul) 한국산학기술학회 2008 한국산학기술학회논문지 Vol.9 No.5
본 논문은 2D/3D 변환 알고리즘을 제안하였다. 제안된 알고리즘은 2차원 영상의 단일 프레임을 이용한 것으로 실시간 처리가 가능한 알고리즘이다. 제안된 얄고리즘은 하나의 프레임에서 객체의 수직 위치 정보를 이용하여 깊이 지도를 생성한다. 실시간 저리와 하드웨어 복잡도를 개선하기 위해 영상 샘플링, 표준 휘도화를 이용한 객체 분할, 그리고 경계 스캔을 이용한 깊이지도 생성 등을 수행하였다. 동영상, 정지영상 모두 적용이 가능하며, 수직 위치 정보를 이용하므로 원거라 영상 혹은 풍경, 파노라마 사진과 같은 영상도 효과적인 입체 효과를 보여줄 수 있다. 제안된 알고리즘은 객체의 움직임 방향 혹은 속도 또는 장면 전환 등에 제약 없이 입체 효과가 가능하다. 제안 알고리즘 검증은 시각적인 방법과 APD(Absolute Parallax Difference)를 이용하여 MTD (Modified Time Difference)방식과의 비교를 수행하였다. In this paper, the 2D/3D converting algorithm is proposed. The single frame of 2D image is used for the real-time processing of the proposed algorithm. The proposed algorithm creates a 3D image with the depth map by using the vertical position information of a object in a single frame. In order to real-time processing and improve the hardware complexity, it performs the generation of a depth map using the image sampling, the object segmentation with the luminance standardization and the boundary scan. It might be suitable to a still image and a moving image, and it can provide a good 3D effect on a image such as a long distance image, a landscape, or a panorama photo because it uses a vertical position information. The proposed algorithm can adapt a 3D effect to a image without the restrictions of the direction, velocity or scene change of an object. It has been evaluated with the visual test and the comparing to the MTD(Modified Time Difference) method using the APD(Absolute Parallax Difference).
이동현상, 열역학, 미시적 이론연구를 통한 선택적 단결정 실리콘 성장공정의 전산모사
윤종호(Jong-Ho Yun),박상규(Sang-Kyu Park) 한국진공학회(ASCT) 1994 Applied Science and Convergence Technology Vol.3 No.4
차세대 집적회로 제조공정에 있어 핵심기술인 선택적 단결정 실리콘 성장공정에 대한 이동현상, 열역학, 미시적 전산모사를 수행하여 다각적인 분석과 이해를 시도하였다. 첫째, 실리콘 단결정 성장 공정에 가장 많이 사용되는 배렬 반응기(barrel reactor)를 대상으로 유한요소법을 이용하여 이동현상적 이론연구를 수행하였다. 반응기내의 기체속도 분포, 온도분포, SiH₂Cl₂ 농도분포를 각각 구하였으며 압력, 기판온도, 총유량, HCI 유량변화 등의 주요공정변수가 증착율과 균일도 지수에 미치는 영향을 고찰하였다. 이러한 연구를 통하여 저온, 저압, 총유량이 많고 첨가되는 HCl 유량이 작은 경우가 균일도 확보를 위하여 적합한 조업조건임을 알 수 있었다. 둘째, Si-H-Cl계에 대한 열역학적 평형계산을 수행하여 온도, 압력, 유입기체 조성의 효과를 살펴보았으며 저온, 저압, 그리고 유입되는 기체의 Cl/H비가 낮은 경우가 선택적 실리콘 증착에 적합함을 알 수 있었다. 세째, Monte Carlo법을 이용한 선택적 실리콘 미세박막 성장패턴에 관한 이론연구를 수행하여 종횡비, 재방출, 표면확산에 따른 박막증착 패턴의 변화를 고찰하였으며 표면확산이 선택도 상실 현상의 중요한 원인이 될 수 있음을 발견하였다. 또한 최상의 선택도 확보를 위해서는 낮은 부착계수와 낮은 표면확산계수를 유지해야 됨을 알 수 있었다. Selective epitaxial growth process is very important to meet the demanding needs of next-generation ULSIC, especially, for the advanced dielectric isolation. Therefore, in this study, the systematic approach for selective epitaxial growth process was performed using transport phenomena, thermodynamics, and microscopic simulation. First, simulation of reactive fluid dynamics was done to examine transport phenomena in AMT 7700 barrel epitaxial reactor widely used in the semiconductor industry. Gas velocity, temperature, and concentration distributions were obtained by finite element method. And the effect of operating conditions including pressure, substrate temperature, total flow rate, and composition of gas species on the deposition rate and uniformity was studied and discussed in detail. Second, thermodynamic equilibrium study for Si-H-Cl system was conducted and the system behavior depending on pressure, temperature, and Cl/H inlet composition ration was investigated. Third, Monte Carlo simulation was carried out to study the selective deposition pattern profile in the microscopic trench structure. The effect of aspect ratio. re-emission, and surface diffusion on deposited film profile was investigated. It was found out that the low sticking coefficient and low surface diffusion coefficient are required to obtain high selectivity.
윤종호(Jong-Ho Yun),이재종(Jea-Jong Lee),이응숙(Eung-Sug Lee),이동주(Dong-Ju Lee),김영호(Young-Ho Kim) 한국생산제조학회 2004 한국생산제조시스템학회 학술발표대회 논문집 Vol.2004 No.4
Electro-rheological fluid is recently used for the micro polishing of 3-dimensional micro-aspherical lens. It's also used for polishing small area defects on the wide flat wafer. Since ER fluid shows a behavior of viscosity changing under certain electric fields, micro polishing efficiency may be enhanced for certain cases. In this paper, a perfluorinated carbonyl fluoride oil based ER fluids was used to improve surface polishing rate and submicron-scale accuracy. As the polishing electrodes, micro size cylindrical tools had been used for maximizing the electric field. An experimental device, which was applied for micro polishing a number of wafers of 4 inches in size and other workpieces , was made on a precision polishing system. It consisted of a steel electrode, a wafer fixture, 10㎃ current and DC 5㎸ power supply unit, and a controller unit. From the Experiments, the ER fluid is applicable for micro polishing of small parts.