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- 저자 : 손재현(Jae-Hyeon Son) (검색결과 5 건)
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지능로봇 시뮬레이션 맵 자동생성을 위한 제어 동기화 설계 연구
손재현 ( Jae-hyeon Son ),김영수 ( Young-soo Kim ),홍성용 ( Seong-yong Hong ) 한국정보처리학회 2010 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.17 No.2
IT융합의 중요성이 강조되고 있는 IT 지식정보화 사회에 지능형 로봇의 발전은 끝없이 연구되고 있다. 미래 인간사회에 로봇이 미치는 영향은 아주 클 것으로 예상하고 있으며, 인간의 실생활과 로봇의 가상공간 세계는 점점 일체화 되어 갈 것으로 예측된다. 따라서 인간은 로봇의 활동과 행동을 좀 더 구체적이고 자세하게 제어할 필요가 있다. 최근 현실세계를 가상공간의 세계로 표현하고자 하는 연구가 활발히 진행되고 있으며, 가상공간을 활용한 미래의 세상 환경은 점점 많아 질 것으로 예상한다. 따라서 본 논문에서는 지능로봇 시뮬레이션 맵 자동생성을 위한 제어 동기화 설계를 연구하였다. 현실세계의 실제 로봇과 가상공간의 시뮬레이션 로봇을 동기화하여 하드웨어 로봇의 움직임에 따라 가상공간의 로봇이 맵을 자동으로 생성시킬 수 있는 방법을 연구하고 설계하여 실험하였다. 실제 로봇의 움직임을 3차원 가상공간으로 자동 생성하게 함으로서, 로봇의 제어를 좀 더 지능화 시킬 수 있을 뿐 아니라, 여러 다양한 시뮬레이션 테스트 환경으로 응용할 수 있는 큰 장점이 있다. 또한 로봇을 활용한 가상공간 세계의 시뮬레이션은 미래 인간과 로봇이 함께하는 공존세계에 큰 역할을 할 수 있을 것으로 기대한다.
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이종무,권난영,손재현,김형준,Lee, Jong-Mu,Gwon, Nan-Yeong,Son, Jae-Hyeon,Kim, Hyeong-Jun 한국재료학회 1993 한국재료학회지 Vol.3 No.5
전면증착법에 의한 W공정에서 부착특성고양층으로 사용되는 TiN막에 대한 CVD W막의 부착특성을 인장법(pulling method)과 스크래치법(scratch method)을 사용하여 조사하고, 주사전자현미경과 반사도측정에 의한 표면거칠기측정, 응력측정 및 SIMS depth profiling 등에 의하여 그 원인을 분석하였다. 스퍼터링법으로 형성한 TiN막상에 바로 W막을 증착한 경우와 TiN막을 열처리한 후에 W막을 증착한 경우 간에 두 막간의 부착특성은 큰 차이를 보였다. 전자의 경우가 후자의 경우보다 부착특성이 더 우수한 것으로 나타났는데, 이것은 열처리하지 않은 TiN막이 열처리한 TiN막에 비해 표면이 더 거칠고, 응력수준이 더 낮으며, 열처리한 TiN막내에는 산소성분이 존재하는 반면, 열처리 하지 않은 TiN막내에는 산소성분이 거의 들어있지 않기 때문이다. 또한 TiN막 두께가 증가함에 따라 응력의 증가로 인하여 TiN막에 대한 W막의 부착강도가 저하되었다. Adhesion of W to TiN which is used as a glue layer in the blanket tungsten process has been investigated using the pulling and scratch methods and analysed using surface roughness measurements by SEM and the reflectivity measurement, the stress measurement and the SIMS depth profiling Significant differences between the adhesion of the CVD tungsten film to the s-TiN and that to the a-TiN were found. It appeared that the fomer were better than the latter, which is due to the facts that the s-TiN film has a rougher surface and a lower stress level and a higher oxygen content than the a-TiN film. Also the ashesion strength was degreaded with increasing the TIN film thickness because of the increase of the TiN film stress.
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답지저앙(踏地抵昻) 수족상응(手足相應)으로 표현되는 택견 동작의 형태 연구
안재식(An, Jae-Sik),손재현(Son, Jae-Hyeon),이성노(Lee, Seong-No) 한국체육과학회 2015 한국체육과학회지 Vol.24 No.1
This study set out to apply the forms of Dapjijeoang and Sujoksangeung recorded in the Mahanjo of The History of Three Kingdoms, which offers explanations about the archetypal dance of Korean people, to the traditional Korean martial art Taekkyon, analyze the forms of Pumbalgi, Hwalgaejit, and Sonjil, some of Taekkyon steps, and examine the causes of their formation. Based on the concrete content related to them, the study reached the following conclusions: first, the Pumbalgi of Taekkyon had the form of Dapjijeoang, an archetype of Korean dance, and showed fluid, rational, and soft movements. The exercise principles implicated in its up-and-down motions were interpreted as follows: ① they put Gumshil in the popliteus when taking a Pum step to increase power and elasticity through bending and stretching exercise in die knee;② the movement of Gamsliil in Pumbalgi enables the maintenance of a stable posture;and ③ the consecutive up-and-down motions in the Pumbalgi of Taekkyon creates a soft quality. Secondly, there is the form of Sujoksangeung, another archetype of Korean dance, in the basic Sonjil of Taekkyon. It creates natural harmony in consecutive motions with Pumbalgi. The exercise principle implicated in the hands and feet coordination was interpreted as follows: ① the form of Sujoksangeung in the shaking of Taekkyon creates a curve, which is manifested in soft motions; ② the form of the hands and feet striking harmony between them and coordinating each other creates harmonious movements and thus dynamic balance ; and ③ the hands and feet coordination of Taekkyon creates the optimum gesture for battle and gives Taekkyon the optimal value as martial arts. It is thus found that the gestures of a traditional Korean martial art Taekkyon and their expressions represent the Korean people’s intense determination based on historicity and autonomy and express their traditional body expressions containing their pride, spirit, and disposition.
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Contact Barrier metal용 LPCVD W막의 전기적 특성에 대한 $SiH_4/WF_6$비의 효과
이종무,박원구,임영진,손재현,김형준,Lee, Jong-Mu,Park, Won-Gu,Im, Yeong-Jin,Son, Jae-Hyeon,Kim, Hyeong-Jun 한국재료학회 1993 한국재료학회지 Vol.3 No.6
Conatact barrier metal용 selective W CVD 기술에서 $SiH_4//WF_6$(=R)유량비가 W막의 비저항, contact resistance, 접합주설전류 등의 전기적 특성에 미치는 영향을 $\beta$-W 의 생성에 촛점을 맞추어 조사하였다. R의 증가에 따라 W의 비저항이 증가하는데, 그 주원인은 $\alpha$-W로 부터 $\beta$-W 로의 상변태에 있다. $SiH_{4}$환원에 의한 CVD W에서 생성되는 $\beta$-W 는 산소에 의해서가 아니라 막내에 유입된 Si에 의하여 안정화된다. Si기탄상에 W를 증착할 때에는 R값이 클 경우에 $\beta$-W 가 생성되지만, TiN 기판상에 W를 증착할 때에는 R값이 큰 경우에도 $\beta$-W 가 생성되지 않는 것으로 나타났다. 또한 R이 증가함에 따라 접합누설전류가 증가하는데, 이것은 W-Si계면에 대한 수직방향으로의 Si의 소모뿐만 아니라 수평방향으로의 Si의 소모에도 그 원인이 있는 것으로 보인다. Effects of $SiH_4//WF_6$(=R) ratio on the electrical properties of W films such as resistvity, contact resistance, junction leakage current in the selective W CVD technology for contact barrier metal were investigated with the emphasis on the role of $\alpha$-W Resistivity of W increases with increasing R, which is primarily due to the phase transformation from $\alpha$-W to , $\alpha$-W. $\alpha$-W found in the SiH4 reduced CVD W film is stabilized by Si incorporated into the W film rather than by oxygen. $\alpha$-W is found in the W film deposited on the Si substrate for high R, while $\alpha$-W is not found in the W film deposited on the TiN substrate even for high R. Also junction leakages increase with increasing R, which is caused not only by the vertical Si consumption but also the lateral Si consumption.
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25.8kV 개폐장치 내아크 압력측정 및 방압변 설계검증
권동욱(Dong-Wook Kwon),이영진(Yeong-Jin Lee),유영상(Yeong-Sang Yoo),강태운(Tae-Woon Kang),손재현(Jae-Hyeon Son),여창호(Chang-Ho Yeo),박근호(Keun-Ho Park) 대한전기학회 2021 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2021 No.7
본 논문에서는 방압변의 설계방법을 검증하기 위해 방압변의 개발사양을 분석/검토하였으며, 내부압력상승 해석을 통해 표준모델을 선정하였다. 선정된 모델을 기반으로 시제품 설계 및 제작을 하였으며, 내아크 시험을 통한 방압변의 성능평가를 실시하였다. 향후 25.8kV GIS 제작에 있어서 안전하고 동작 신뢰성 높은 방압변 연구개발을 통해 신뢰성을 향상시키고자 한다.
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