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        식민권력의 식민지 재현전략

        조형근 ( Hyung Keun Cho ),박명규 ( Myoungkyu Park ) 한국사회사학회 2011 사회와 역사 Vol.0 No.90

        이 논문은 조선총독부가 발행한 기관지 『조선』에 나타난 사진이미지 중 1920년 7월부터 1936년까지에 대해 재현의 대상, 비중, 배치상의 특징 등을 식민권력의 식민지 재현전략이라는 관점에서 분석한다. 잡지 『조선』은 『조선총독부월보』, 『조선휘보』에 이어서 1920년 7월부터 1944년 11월까지 발행되었으며, 조선총독부가 직접 발행한 유일한 기관지로서 특별한 위상을 점하고 있었다. 『월보』 및 『휘보』와는 달리 잡지 『조선』은 표지사진과 권두 사진화보를 통해 식민지 조선에 대한 숱한 이미지들을 생산하였으며, 사진의 선택과 배치. 배제에서는 일정한 규칙이 발견된다. 이 규칙들은 식민권력이 자신이 지배하는 식민지를 특정한 의도에 따라 표상하는 재현전략이라는 관점에서 파악되며, 여기서는 이미지들의 계열화, 충돌, 포함이라는 세 가지 재현전략이 주목된다. 계열화의 전략은 과거의 조선에 대해서는 역사와 문화, 활기를 부여하면서도 현재의 조선에 대해서는 낙후성과 수동성을 부여하였다. 반면 이미지 충돌의 전략은 원시적이고 낭만적인 조선의 이미지와 일본에 의해 개발된 조선의 이미지를 대비함으로써 일본의 식민지배를 정당화하였다. 한편 포함 전략은 조선을 일본제국의 일보로 재현하였다. 이러한 세 가지 제현전략은 조선의 고유성을 인정하면서도 제국의 일부로 통합을 시도한다는 점에서 논리적으로 완결적이었지만, 실제로는 군사훈련과 같은 군사적 점령의 이미지들에 의해 그 완결성이 훼손되었다. 이는 텍스트에 나타나는 조화로운 재현의 논리와 식민지적 현실 사이의 괴리에 맞서는 힘의 과시였다고 할 수 있다. 결과적으로 자기완결성을 추구하던 식민권력의 식민지 재현의 전략은 스스로를 부정하는 자기모순에 처하고 있다. This paper aims to analyse the photo-images on The Chosen, the official monthly magazine of the Japanese colonial government in Korea. The Chosen had a privilege as a sole official periodical which was owned and managed by the colonial government itself. Since 1920, right after the fierce independent movement in 1919, the colonial government allowed some newspapers and magazines which were issued by Korean nationalist elites. At the same time, The Chosen replaced its predecessor and changed into seemingly nearly mass magazine. It carried various articles and essays dealing with landscape, history and culture of Korea as well as propaganda for colonial rule. In addition, its cover pictures and pictorials in openning pages represented various images on Korea. Among so many aspects of Korea, certain types of images were selected cover pictures and pictorials and represented as essence of Korea. The editorial board of The Chosen adopted three representational strategy in choosing cover pictures and pictorials. The three strategies were serialization, collision and inclusion of images. By the strategy of serialization, colonial Korea was represented as a society which had a glorious past but lacked a contemporary vitality. As for strategy of collision, The Chosen dramatically contrasted primitive images of Korea and developed and modernized images of Korea which was promoted by the colonial power. Through the strategy of inclusion, Korea was represented as an integrated normal region of Japanese Empire. These three strategies were logically self-contained because it remained both differences and integratedness between colony and Empire. However, The Chosen also included a distinct type of pictures on Korea which represented military exercises and Japanese military commanders. It exposed that Korea was not a normal region of Japanese Empire but a occupied colony by military force. This discordance shows contradiction of colonial power in representing colony as a different and organic part of Empire.

      • 20W Ultra wide-band Power Amplifier design Using Gallium Nitride High Electron Mobility Transistor

        Jaewoo Sim(심재우),Jaeyeon Lim(임재연),Myoungkyu Park(박명규),Wenwoo Kang(강원우) 한국통신학회 2009 한국통신학회 학술대회논문집 Vol.2009 No.6

        We report the design and performance of an ultra-broadband power amplifier. A 20Watt wideband power amplifier using GaN has been designed. It achieves 20 Watts output power with 12dB ± 1.0dB gain from 500 MHz to 2500 MHz at V<sub>DS</sub>=28V. At lower frequencies from 500 to 700 MHz the output power is 20 Watts with 40% efficiency. To achieve this performance, a broadband choke structure with a new technique was developed to obtain good isolation and low loss over the desired bandwidth. Input and output matching networks with shunt feedback topology were introduced. In order to improved efficiency of power amplifier, we employ a brief design concept to match impedance between Load impedance and 50 ohms. The new design concept has been also compared with Shunt feedback technique at an output power of 20W. The non-feedback amplifier shows a significantly improved return loss and size. The non-feedback amplifier also has an efficiency improved by 6 percent with gain increased by 2.3dB from 500MHz to 2.5GHz.

      • 통일논의와 통일연구의 현주소 : 담론의 산출과 학계의 역할

        박명규 동아대학교 동아시아연구원 2008 동아시아 : 비교와 전망 Vol.6 No.3

        본 논문은 쟁점(issue)에 대한 담론의 세 가지 유형, 즉 정부, 시민사회, 학계에서 나온 논리와 주장을 검토함으로써 통일연구에 있어서 연구소의 역할을 논의하고자하는 것이 그 목적이다. 세 가지가 논의된다. 첫째, 지난 십년간의 남북한 관계 변화를 위한 정부의 노력은 통일관련 담론을 양산하는 매우 중요한 추동력이었다. 정부와 정부관련 연구소들은 햇볕정책을 지지하는 담론을 생산하는데 중요한 역할을 하였지만, 대부분 지나치게 정책지향적이었다. 둘째, 미디어와 비정부기구들 또한 정부정책의 효과에 대한 자신들의 담론을 발전시켜왔다. 북한문제는 미디어와 비정부기구가 좌우의 이데올로기적 스펙트럼 위에서 자신들의 정치적 입장을 정의하는 ‘리트머스’로 간주될 정로로 시민사회내에서의 난제(hot potato)가 되었다. 셋째, 학계에서는 ‘북한연구’, ‘통일연구’의 이름하에 연구지향적 논의들이 전개되어왔다. 그러나, 정치적 이해관계, 실제적 관심으로부터 독립된 연구가 부족하게 때문에 학계의 담론생산 능력은 매우 제한적이다. 학계내의 명망 있는 학자들조차 통일관련 연구를 비중 있게 다루지 않는다. 본 논문의 핵심 논지는 연구소, 특히 대학부설 연구소는 분석적이고, 가치중립적인 접근법을 통해 북한 관련 이슈에 대해 보다 균형적이고 객관적인 담론을 생산하는데 중요한 역할을 하여야 한다.

      • Post-CMOS MEMS 공정을 위한 다결정 실리콘 미세 구조물의 저온 도핑 및 열처리 공정 개발

        박명규,이영주,전국진 경북대학교 센서기술연구소 1997 센서技術學術大會論文集 Vol.8 No.1

        Polysilicon doping and annealing process at 850℃, which is compatible to CMOS fabrication, is developed. In case of monolithic integration of the surface micromachined polysilicon structures with on-chip circuitry, especially CMOS-first approach, high temperature process must be avoided to minimize the effect on circuits. In this study, we developed the doping process with POCl_(3) liquid source at low temperature for 2μm thick polysilicon. We also studied the effect on mechanical and electrical properties of polysilicon for doping temperatures(850℃~1000℃), temperatures of polysilicon deposition(585℃, 625℃), and the type of sacrificial layers(undoped TEOS oxide, TEOS oxide doped with POCl_(3), PSG). Low tensile stress(53με) and low stress gradient(+1.28MPa/μm) are obtained by varying doping time at 850℃. Low resistivity(<1mΩ-cm) and uniform doping profile of polysilicon are also obtained in this work. We also studied the effect of doping temperature on characteristics of CMOS with 1.5 μm design rule.

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