http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
ZnO 박막의 fluorine-계 유도결합 플라즈마 식각
박종천,이병우,김병익,조현,Park, Jong-Cheon,Lee, Byeong-Woo,Kim, Byeong-Ik,Cho, Hyun 한국결정성장학회 2011 韓國結晶成長學會誌 Vol.21 No.6
$CF_4$ Ar 및 $SF_6$/Ar 유도결합 플라즈마을 이용하여 ZnO 박막의 고이온밀도 플라즈마 식각을 수행하였다. $10CF_4$/5Ar, $10SF_6$/5Ar 유도결합 플라즈마에서 최고 ~1950 ${\AA}$/min과 ~1400 ${\AA}$/min의 식각 속도를 확보하였다. 대부분의 조건 하에서 식각된 ZnO 표면은 식각 전보다 더 낮은 표면조도 값들을 나타내었다. $10CF_4$/5Ar 유도결합 플라즈마에서 Ni mask는 ZnO에 대해 최고 11의 높은 식각 선택도를 나타낸 반면에 Al은 이보다 낮은 1.6~4.7 범위의 식각선택도를 나타내었다. High density plasma etching of ZnO film was performed in $CF_4$/Ar and $SF_6$/Ar inductively coupled plasmas. Maximum etch rates of ~1950 ${\AA}$/min and ~1400 ${\AA}$/min were obtained for $10CF_4$/5Ar and $10SF_6$/5Ar ICP discharges, respectively. The etched ZnO surfaces showed better RMS roughness values than the unetched control sample under most of the conditions examined. In the $10CF_4$/5Ar ICP discharges, very high etch selectivities were obtained for ZnO over Ni (max. 11) while Al showed etch selectivities in the range of 1.6~4.7 to ZnO.
가스 센서용 ZnO, SnO<sub>2</sub> 박막의 이방성 식각을 위한 mask 재료의 식각 선택도 조사
박종천,조현,Park, Jong-Cheon,Cho, Hyun 한국결정성장학회 2011 韓國結晶成長學會誌 Vol.21 No.4
고이온밀도 플라즈마 식각에 의한 고종횡비, 고이방성을 갖는 ZnO, $SnO_2$ 나노 구조 가스 감응층 형성을 위하여 mask 재료들과의 식각 선택도를 조사하였다. $25BCl_3$/10Ar ICP 플라즈마에서는 ZnO와 Ni 간 5.1~6.1 범위의 식각 선택도가 확보된 반면에 Al의 경우 효율적인 식각 선택도를 확보할 수 없었다. $25CF_4$/10Ar ICP 플라즈마에서는 ZnO와 Ni 간에 7~17 범위의 높은 식각 선택도를 얻을 수 있었다. $SnO_2$는 $SnF_x$ 식각 생성물의 높은 휘발성에 기인하여 Ni에 비해 매우 높은 식각 속도를 나타내었고, 최고치 약 67의 매우 높은 식각 선택도를 확보하였다. Etch selectivities of mask materials to ZnO and $SnO_2$ films were studied in $BCl_3$/Ar and $CF_4$/Ar inductively coupled plasmas for fabrication of nanostructure-based gas sensing layer with high aspect ratios. In $25BCl_3$/10Ar ICP discharges, selectivities of 5.1~6.1 were obtained for ZnO over Ni while no practical selectivity was obtained for ZnO over Al. High selectivities of 7 ~ 17 for ZnO over Ni were produced in $25CF_4$/10Ar mixtures. $SnO_2$ showed much higher etch rates than Ni and a maximum selectivity of 67 was observed for $SnO_2$ over Ni.
나노결정질 다이아몬드 seeding 효율 향상을 위한 silicon 표면 texturing
박종천,정옥근,김상윤,박세진,윤영훈,조현,Park, Jong Cheon,Jeong, Ok Geun,Kim, Sang Youn,Park, Se Jin,Yun, Young-Hoon,Cho, Hyun 한국결정성장학회 2013 한국결정성장학회지 Vol.23 No.2
나노결정질 다이아몬드 박막 증착을 위한 전처리 공정으로 $SF_6/O_2$ 유도결합 플라즈마를 이용하여 Si 기판 표면을 texturing하였다. $SF_6/O_2$ 플라즈마 texturing은 2~16 범위의 매우 넓은 정규화된 표면 조도 선택성을 제공할 수 있음을 확인하였다. Texturing된 Si 기판 표면의 나노 다이아몬드 입자 seeding 이후 기존 기계적 연마 전처리에 비해 현저히 향상된 ${\sim}6.5{\times}10^{10}cm^{-2}$의 높은 핵형성 밀도를 확보하였다. $SF_6/O_2$ inductively coupled plasmas were employed to texture Si surface as a pretreatment for nanocrystalline diamond film growth. It was found that the $SF_6/O_2$ plasma texturing provided a very wide process window where normalized roughness values in the range of 2~16 could be obtained. Significantly improved nucleation densities of ${\sim}6.5{\times}10^{10}cm^{-2}$ compared to conventional mechanical abrasion were achieved after seeding for the textured Si substrate.
나노다이아몬드 seed 입자의 열처리에 의한 핵형성 밀도 향상
박종천,정옥근,손빛나,조현,Park, Jong Cheon,Jeong, Ok Geun,Son, Bit Na,Cho, Hyun 한국결정성장학회 2013 韓國結晶成長學會誌 Vol.23 No.6
산화 및 수소 분위기 열처리를 통한 화학적 표면 개질로 나노다이아몬드 seed 입자의 응집성 완화 및 초미세나노결정질 다이아몬드 (UNCD) 박막 증착을 위한 핵형성 밀도 향상을 확보하였다. 열처리에 의해 나노다이아몬드 seed 입자표면 작용기가 개질되었고, 제타 전위도 증가하였다. 또한, 응집체 평균 크기가 약 $2{\mu}m$에서 ~55 nm로 크게 감소하였다. $600^{\circ}C$, 수소 열처리된 seed 입자로 seeding 한 Si 기판으로부터 열처리하지 않은 seed 입자에 비해 현저하게 향상된 ${\sim}2.7{\times}10^{11}cm^{-2}$의 매우 높은 핵형성 밀도를 확보하였다. Surface chemical modification via air and hydrogen heat treatment was found to relieve the aggregation of nanodiamond (ND) seed particles and lead to a significantly enhanced nucleation density for ultrananocrystalline diamond (UNCD) film growth. After heat treatment in air and hydrogen, modification of surface functionalities and increase in the zeta potential were observed. Mean size of the ND aggregates was also dramatically reduced from ${\sim}2{\mu}m$ to ~55 nm. Si surface seeded with ND particles heat-treated at $600^{\circ}C$ in hydrogen produced a much higher nucleation density of ${\sim}2.7{\times}10^{11}cm^{-2}$ compared to untreated ND seeds.
PC-기반 폐활량기를 이용한 천식 관리 시스템 설계 및 구현
박종천(Park, Jong-Cheon),황동국(Hwang, Dong-Guk),이우람(Lee, Woo-Ram),전병민(Jun, Byoung-Min) 한국산학기술학회 2009 한국산학기술학회 학술대회 Vol.- No.-
천식환자의 폐활량 측정 및 관리는 정기적으로 검사되어 관리될 필요가 있는 매우 중요한 관리 항목이다. 본 연구는 천식환자의 폐활량을 정기적으로 관리할 수 있도록 PC-기반 폐활량기를 이용한 천식환자의 폐활량 측정 및 관리 시스템의 설계 및 구현에 관한 연구이다. 폐활량 검사는 크게 3종류 구성되며, 본 연구는 노력성 폐활량 검사(Forced Vital Capacity Test)를 1차적으로 설계 및 구현 방법을제안하였다. FVC 검사의 목적은 폐질환의 진단, 중증도 그리고 치료효과 판정, 기관지 천식의 진단 및관리, 수술시 마취방식의 결정 등으로 무엇보다 정확한 검사와 정기적인 검사를 필요로 하는 중요한검사이다. FVC 검사는 검사과정에서 천식환자에게 많은 노력을 필요로 하는 힘든 검사로서 검사자의도움이 필수적이므로 폐활량 검사 프로그램 개발에 있어 고려되어 알고리즘이 효율적으로 개발되어야한다. 본 시스템은 휴대형 폐활량기(Spirometer)를 PC에 연결하고, 폐활량을 측정할 수 있도록 구성되었고, 검사 내용은 PC의 DB에 저장하고, 추후에 정기적으로 서버의 DB로 전송함으로서 보다 더 폭넓은 관리를 가능하도록 하며 천식환자는 서버가 제공하는 웹 사이트를 이용함으로서 자신의 건강관리를 가능하도록 구성된다. FVC 검사 프로그램은 정확한 검사와 편리한 사용자 인터페이스를 제공하도록 설계 및 구현하였고 따라서 자체 개발된 폐활량기를 PC-기반 프로그램으로 제어 가능함으로서추후 다양한 임상실험의 데이터 확보, 기능의 확장과 성능의 개선을 할 수 있고, 좀 더 편리하고, 정확한 폐활량측정이 가능 할 것이다.
무선 인터넷 환경에서 PDA 기반 당뇨관리 시스템 설계 및 구현
박종천(Park, Jong-Cheon),황동국(Hwang, Dong-Guk),박경순(Park, Kyung-Soon),김경아(Kim, Kyung-Ah),차은종(Cha, Eun-Jong),전병민(Jun, Byoung-Min) 한국산학기술학회 2007 한국산학기술학회논문지 Vol.8 No.6
본 논문은 무선 인터넷 환경에서 PDA 기반 당뇨관리 시스템의 설계 및 구현을 기술한다. 시스템은 3-계층 클라이언트/서버 구조로 클라이언트, 서버, 미들웨어, 그리고 데이터베이스를 포함한다. 클라이언트는 당뇨관리를 위한 환자와 의사용 PDA를 갖는다. 환자용 PDA는 당뇨 자가관리 기능을 위해 사용되고, 의사용 PDA는 환자의 데이터를 모니터하기 위해 사용된다. 서버는 무선 통신으로 환자로부터 매일 측정되는 데이터를 받고, 미들웨어는 클라이언트와 서버의 중계역할을 수행한다. 시스템의 구현 결과, 당뇨환자의 지속적이고 체계적인 관리가 기대된다. This paper describes a design and implementation of diabetes management system based on PDA in the wireless Internet. Our system is a 3-Tier Client/Server model with client, server, middleware, and DB. The client has each PDA for patients and for doctors related to diabetics. The one is used for patients to manage this disease by themselves with, and the other is used for the doctors to monitoring the patients'data with. The server receive the daily data measured by the patients through wireless network, middleware mediate between an client(PDA) and server. As the result of implementation of the system, we expected that it manages to diabetic patients continually and systematically.
Pick-the-Winner법과 공간축소법에 기반한 플라스틱 사출성형품의 휨 최소화
박종천(Park, Jong-Cheon),김경모(Kim, Kyung-Mo),김광호(Kim, Kwang-Ho) 한국산학기술학회 2010 한국산학기술학회논문지 Vol.11 No.4
본 논문은 직교배열실험에 기반한 ‘Pick-the-Winner’법과 설계공간축소법에 기초하여 사출성형 제품의 휨을 잡음(noise)의 존재 하에서도 최소화할 수 있는 강건설계 절차를 제시한다. 강건설계는 현실적 요구를 반영하여 두 단계의 이원적 최적화 과정, 즉 제품 형상에 대한 강건설계와 공정조건에 대한 강건설계로 이루어진다. 제안한 강건 설계 절차를 사각형 박막 제품의 설계에 적용한 결과, 본 강건설계법이 현실적 효용성이 있음을 확인하였다. This paper presents a robust design procedure for minimizing warpage in plastic injection-molded products, where the Pick-the-Winner rule based on Taguchi's Orthogonal Array experiments and the Design Space Reduction Method are integrated for optimization. Two-step optimization approach is applied to reduce warpage in the part design stage and additionally to minimize the warpage in the process conditions design stage. Taguchi's S/N ratio is introduced as a design metric to evaluate robustness against process variations. The effectiveness of proposed optimization process is shown with an example of warpage minimization problem.
리브 형상과 공정조건의 최적설계에 의한 사출제품 휨의 안정적 최소화에 관한 연구
박종천(Jong-Cheon Park),김경모(Kyung-Mo Kim),이종찬(Jong-Chan Lee),구본홍(Bon-Heung Koo) 한국기계가공학회 2009 한국기계가공학회지 Vol.8 No.3
In the study, a design methodology for robust minimization of a warpage in injection-molded part is presented. Taguchi's parameter design method is integrated with a computer simulation tool for injection molding to search for best design with robustness against the process variability by noises. The proposed methodology is based on a two-stage process: (1) reducing a warpage in the part by optimizing the part geometry including the layout and size of ribs, and (2) additionally minimizing the warpage by optimizing process conditions. An example is used to illustrate the usefulness of the design methodology.