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- 저자 : 이흥주(Hoong Joo Lee) (검색결과 38 건)
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이흥주,이준하,Lee, Hoong-Joo,Lee, Jun-Ha 한국반도체디스플레이기술학회 2005 반도체디스플레이기술학회지 Vol.4 No.1
This paper presents a simulation methodology for the poly-silicon oriented TCAD(technology-CAD) system. A computer simulation environment for the poly-silicon processing has been set up with the proper adoption of the two-stream model for ion-doping, diffusion, and defects inside of grain and on the grain boundary. After the simulator calibration, simulation results for the poly-silicon diffusion hat shown a good agreement with the SIMS data.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2004 공학기술연구 Vol.2004 No.1
A practical PPC(process proximity correction) method has been devised and implemented on the DRAM process in order to reduce the full chip level gate CD variation. The process effects of etch loading and resist diffusion were included on the OPC model generation. The correction time was dramatically reduced under the new correction scheme using the correction segment of patterns optimized in consideration of mask manufacturability. This new OPC approach exhibited 60% reduction of CD variation, and significant improvement on circuit performance and leakage current characteristics.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2004 공학기술연구 Vol.2004 No.1
본 논문에서는 태양전지의 변환 효율이 15∼18%안 밖의 매우 낮고 고가인 현실에서 저전력을 소비하는 부하인 발광다이오드(Light Emitting Diode: LED)에 대한 특성을 평가하고, 태양광 발전시스템의 부하로 실용화 되기에 필요한 현실적인 조건에 대해 분석한다. 또한 태양광 발전으로 LED 표식장치를 제어함에 있어 LED제어회로의 출력안정화와 저전력화에 필요한 기술들에 대해 조사해 보며, 차세대 발전 및 조명원으로 활용시 예상되는 기대 효과에 대해 알아본다.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2004 공학기술연구 Vol.2004 No.1
3D Electron Beam Lithography Simulator Version 2.0(3D-EBLS V2.0) has been newly enhanced for the multiple exposure of the Gaussian round beam. Model parameters of the PBS resist development in the spin-spray type are calibrated from the measured data. The good agreement between experiment and simulation has been achieved with respect to the DC linearity of L/S, an isolated Line and Space pattern. The 3D simulation for a contact hole mask pattern of 1G DRAM is demonstrated and compared with the SEM micrograph for the experimental profile.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2004 공학기술연구 Vol.2004 No.1
Recently, simulatiion of Chemical Mechanical Polishing(CMP) is becoming more important because planarity and uniformity which are dependent on many dynamic factors are difficult to control. In this paper, a profile simulation environment based on the linear elastic material and nonlinear contact analysis that considers equipment parameters, such as pas hardness, thickness and down pressure is presented. In transient CMP simulation using the elastic model, the contact stress on the wager surface is the dominant factor in polishing rate during the CMP process. The profiles of CMP simulation agree well with the measured data. This simulation can be used to optimize the CMP process and to generate design rules for filling dummy patterns which are used to improve planarity.
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이흥주(Lee Hoong-Joo) 한국산학기술학회 2011 한국산학기술학회논문지 Vol.12 No.1
본 논문에서는 LED를 조명의 전원으로 사용하는 소규모 태양광 발전시스템의 설계용 소프트웨어 개발에 대 해 제안한다. 태양광 발전시스템의 최적 설계를 위해서, 태양광 모듈과 배터리 용량 산정시, LED 부하의 운전 전력소 비량이 고려될 수 있게 하였다. 태양광 발전시스템을 설계하는 엔지니어의 사용 편의성을 높이기 위해, 소프트웨어는 그래픽 사용자 인터페이스와 모니터링 기능을 제공하여, 시스템 설계 후 설치 단계에서 전체 시스템의 운전 상태를 쉽게 파악할 수 있도록 하였다. In this paper, a software development for design of the small photovoltaic system which is used to LED lighting is presented. For optimal design of photovoltaic systems, the operating power consumption of the LED load is considered to estimate the capacity of the solar module and battery. In order to give system design engineers a high ease of use, the software tool provides a graphical user interface and monitoring function to check operation of the system prior to installation.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2003 공학기술연구 Vol.2003 No.2
0.28um 최소 설계규칙을 기반으로 하여 로직 소자의 칩레벨 게이트 CD를 제어하기 위한 실질적 방법이 실험모델을 사용한 광학근접 보상 소프트웨어 툴을 사용하여 평가된다. 칩상에서의 CD 변화는 근접 효과와 불균일한 CD 오차로부터 기인한다. CD 변화의 40%이상을 차지하고 있는 근접오차는 주로 패턴의 기하학적 구조 및 레지스트 공정 그리고 마스크상의 CD오차로부터 발생한다. 이 논문에서는 광학근접보상기법이 선폭 및 선길이의 감소현상에 적용되며, 특히 선길이 감소현상은 여러 가지 결함을 유발시킬수 있는 세리프 추가기법을 사용하지 않고, 단지 선단의 확장기법을 사용하였다. 이로부터, 3-시그마 표준편차로 CD 변화의 43%를 감소시켰으며, OPC후 1.2um의 포커스마진을 확보하였다.
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이흥주(Hoong Joo Lee) 상명대학교 공학기술연구소 2010 공학기술연구 Vol.2010 No.0
본 논문에서는 조명용으로 사용되는 LED 모듈의 동적 부하에 적합한 소형 태양광 발전 시스템의 설계 방식에 대해 제안한다. 태양광 시스템의 최적화를 위하여 2가지 방법을 제안한다. 첫째 소형태양광 발전 설계에 사용되는 각종 파라미터를 기본적으로 적용하여 축전지, 모듈 용량 및 운전시간을 계산 한다. 다음으로 LED 모듈의 가변부하에 따른 전력 소모량을 측정하여 최적의 축전지, 모듈크기를 얻는다. 제안된 방법을 30W급 LED 모듈을 통하여 검증 하였다.
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Defect-Limited Yield Difference Model
이흥주(Lee Hoong-Joo) 한국산학기술학회 2008 한국산학기술학회논문지 Vol.9 No.6
본 논문은 레이아웃 수정에 따른 수율차 계산을 위한 새로운 모텔을 제안한다. 패턴 사이의 빈 공간의 크기를 늘리거나 줄이는 레이아웃 변경으로 인한 결함 평균치의 차를 구하기 위한 식이 단락 결함과 개방 결함에 대해 제시 되었다. 미세 패턴인 조그를 포함한 구부러진 연결선등을 기지는 복잡한 레이아웃 변경은 패턴을 작은 조각으로 쪼개고 패턴 사이의 공간과 패턴의 폭을 재정의 함으로써 새롭게 모델링 하였다. 이 모델은 레이아웃 변경에 의한 수율 변화와 결함 제한적 수율에 대한 비용함수 모니터링을 쉽게 할 수 있다는 장점을 갖는다. This paper propose a novel yield difference model according to layout modification. The difference of average number of faults by layout modification to increase or decrease spaces between geometries is formulated for short faults and open faults. Complex modification including wire bending with jogs is also modeled by dividing patterns into segments and redefining spaces and widths. This model can help to monitor the yield change and to generate a cost function of defect-limited yield quickly.
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