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Equations of Relativistic Radiation Hydrodynamics in Spherical Coordinates
박명구 한국물리학회 2004 THE JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY Vol.45 No.3
The interaction between matter and radiation is one of the most important astrophysical processes, yet the proper treatment can be exceedingly dicult, especially when the ow is moving with relativistic velocity. Here, we derive relativistic radiation hydrodynamic equations from a covariant tensor formalism. The equations are applicable to a ow with an arbitrary geometry. Derivatives are expressed in the xed frame while the interaction between the matter and the radiation is described by comoving quantities. This mixed-frame approach is easier to understand and apply to astrophysical problems than the previous comoving formalism. The hydrodynamic equations and the radiation moment equations are explicitly written down in spherical coordinates. A suitable form of the Eddington factor that closes the radiation moment equations is also discussed.
RELATIVISTIC RADIATION HYDRODYNAMICS: MIXED-FRAME TENSOR APPROACH
박명구 한국물리학회 2004 THE JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY Vol.45 No.3
Relativistic radiation hydrodynamics is needed to properly treat accretion ow with relativistic motion, with a strong radiation eld, or under strong gravity, as well as other relativistic astrophysical phenomena. Simple and convenient relativistic radiation moment equations are derived from the tensor equations. Tensors and the interaction terms between radiation and matter are dened or evaluated either in a xed frame or in a comoving frame. This mixed-frame tensor approach is easier to understand and apply to astrophysical problems. Detailed derivation of the equations is shown for a spherically symmetric case. Some interesting aspects of relativistic radiation hydrodynamics are also discussed.
리모트 수소 플라즈마를 이용한 Si 표면의 금속오명 제거
박명구,안태항,이종무,전형탁,류근걸,Park, Myeong-Gu,An, Tae-Hang,Lee, Jong-Mu,Jeon, Hyeong-Tak,Ryu, Geun-Geol 한국재료학회 1996 한국재료학회지 Vol.6 No.7
리모트 수소 플라즈마를 이용하여 실리콘 웨이퍼 표면 위에 있는 금속불순물의 제거 및 제거기구에 관하여 조사하였다. 실리콘의 표면과 내부분석을 위하여 TXRF(total reflection x-ray fluorescence)와 SPV(surface photovoltage), AFM(atomic force microscope)을 사용하였다. TXRF 분석결과 리모트 수소 플라즈마가 금속오염물질 제거에 상당한 효과가 있는 것으로 나타났다. TXRF분석결과 리모트 수소 플라즈마가 금속오염물질 제거에 상당한 효과가 있는 것으로 나타났다. 리모트 수소플라트마 처리 후 금속오염은 금속원소의 종류에 따라 1010atoms/$\textrm{cm}^2$-1011atoms/$\textrm{cm}^2$수준이었다. SPV분석결과를 보면 수소 플라즈마 처리에 의해 minority carrier 수명이 전반적으로 증가하였다. AFM 분석을 통하여 수소 플라즈마 처리가 표면 손상을 일으키지 않으며 표면의 거칠기에 나쁜 영향을 미치지 않음을 알 수 있었다. 또한 본 실험에서 나타난 결과들을 종합해 볼 때 금속오염물의 제거기구는 자연산화막 혹은 수소로 passivate된 실리콘 웨이퍼 표면을 수소 플라즈마에서 발생된 수소원자가 실리콘표면을 약하게 에칭할 때 떨어져 나가는 'lift-off'가 유력한 것으로 판단된다.