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700MHz 대역의 공익적 활용방향 : 차세대방송 서비스를 중심으로
박상호,Park, Sang-Ho 한국방송∙미디어공학회 2012 방송과 미디어 Vol.17 No.2
지상파방송사들의 ASO(Analog Switch-Off, 아날로그 방송 종료) 이후에 유휴대역으로 남게 되는 700MHz 대역(채널당 6MHz, 698MHz~806MHz 총 108MHz)은 4세대(4G : 4Generation) 방송과 이동통신 분야, 공공서비스 등에 활용될 수 있다. 700MHz 주파수 대역에 대해서 방송업계에서는 3D UHD방송 등 4G방송(3D UHD방송)을 위해서 주파수가 필요하다고 주장하고 있으며, 통신업계에서는 늘어나는 데이터 트래픽의 해소 및 4G 이동통신을 위해 통신분야에 배정해야 한다는 주장을 펴고 있다. 이러한 상황에서 지금까지 700MHz 대역의 활용에 관한 대부분의 연구는 이동통신 중심이었다. 그래서 700MHz 대역의 공익적 활용에 관한 본고는 주파수의 주인인 시청자의 시청권 보호 및 차세대방송 서비스의 활성화를 위해서 지상파방송의 차세대서비스(4G방송)를 위한 방송용주파수 정책마련의 필요성을 제시하였다.
Inductively Coupled Plasma에 의한 fluorocarbon 가스 플라즈마의 실리카 표면 반응 연구
박상호,신장욱,정명영,최태구,권광호,Park, Sang-Ho,Shin, Jang-Uk,Jung, Myung-Young,Choy, Tae-Goo,Kwon, Kwang-Ho 한국전기전자재료학회 1998 전기전자재료학회논문지 Vol.11 No.6
The surface reactions of silica film($SiO_2-P_2O_5-B_2O_3-GeO_2$) with fluorocarbon plasma has been studied by using angle -resolved x-ray photoelectron spectroscopy(XPS). It has been confirmed that residual carbon consists of C-C and C-CFx bonds and fluorine mainly binds silicon in the case of etched silica by using $CF_4$ gas plasma. The surface reaction of silica with various fluorocarbon gases, such as $CF_4,C_2F_6 and CHF_3$ were investigated. XPS results showed that though the etching gases were changed, the elements and binding states of the residual layers on the etched silica by using various fluorocarbon gas plasma were nearly the same . This seems to be due to the high volatility of byproducts, that is, $SiF_4 and CO_2$ etc..