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        Analysis of silicon terahertz diffractive optics

        E. D. Walsby,S. M. Durbin,D. R. S. Cumming,R. J. Blaikie 한국물리학회 2004 Current Applied Physics Vol.4 No.2-4

        Simulations of silicon diractive lenses for terahertz frequencies have been performed using a Fraunhofer wave propagationmodel to show how the lens eciency can be aected by dierent fabrication defects. A general model is presented to illustrate theoperating bounds which must be adhered to when fabricating a lens using a multiple level process. From these simulations it ispossible to ascertain for a specic lens design with known processing inaccuracies what level of design complexity will gain the mostbenet. It is shown that for a 1 THz lens fabricated using an eight level process the lens eciency is reduced by less than 20% forrealistic values of etch non-uniformity, inter-level misalignment and surface roughness.

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