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ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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      저자 : Chao-Sung Lai (검색결과 1 건)
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        Low-damage NH3 plasma treatment on SiO2 tunneling oxide of chemically-synthesized gold nanoparticle nonvolatile memory

        Jer-Chyi Wang,Kai-Ping Chang,Chin-Hsiang Liao,Ruey-Dar Chang,Chao-Sung Lai,Li-Chun Chang 한국물리학회 2016 Current Applied Physics Vol.16 No.5

        Characteristics of chemically-synthesized (CS) gold nanoparticle (Au-NP) nonvolatile memories (NVMs) with low-damage NH3 plasma treatment on a tunneling oxide (TO) layer have been investigated. Although the dot density of CS Au-NPs is decreased, the programming efficiency of memories with optimized NH3 plasma treatment condition is enhanced due to the formation of a trapezoid-like energy band diagram of the TO layer by nitrogen incorporation. With the extraction of relative permittivity and electron affinity of the TO layer, the capacitance-voltage (C-V) and programming behaviors of CS Au-NP memories with low-damage NH3 plasma treatment on the TO layer are well-fitted by the TCAD (Technology Computer-Aided-Design) simulation. Further, the built-in electric field induced by the trapezoidlike energy band diagram of the TO layer can suppress the leakage current of the TO layer, thereby improving the data retention properties. The low-damage NH3 plasma treatment that results in no plasma damage to the TO layer has been proposed to be the probable candidate for future NVM applications.

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