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      • CdS 미립자 분산 인산염 유리의 제조 및 특성

        류봉기,이승한,차무경 釜山大學校生産技術硏究所 1998 生産技術硏究所論文集 Vol.55 No.-

        용융 및 재석철법을 이용하여 9wt%의 CdS가 분산된 인산염 유리를 제조하고 CdS 미립자의 석출 특성을 검토하였다. 열처리 온도와 시간이 증가함에 따라 유리의 흡수단은 장파장으로 이동하였다. 매질유리내에 석출된 CdS 미립자의 band gap은 2.45∼3.43eV 범위에 있었으며, bulk CdS band gap보다 0.05∼1.01eV 정도 높은 값을 나타내었으며 Brus식으로 근사한 석출된 CdS 미립자의 반경은 10∼90ÅA 범위에 존재하였다. 이는 quantum size effect를 나타낼 수 있는 크기로 사료된다. We prepared the phosphate glass containing 9wt% CdS by melting and precipitation method. The precipitation characteristics of CdS microcystals was investigated. With increasing annealing time and temperature, the absorption edge of glasses shifted to longer wavelength. The potical band gap of CdS microcrystals was 2.45∼3.43eV. It was 0.05∼1.01eV higher than that of bulk CdS crystal. The sizes of CdS microcystals, approximated by Brus equation, were 10∼90Å range. It was assumed that the quantum size effect of CdS microcrystals should be obtained.

      • 마이크로파를 이용한 무기고분자의 열처리에 관한 연구

        신학기,류봉기,박희찬,박성수,차무경 釜山大學校生産技術硏究所 1997 生産技術硏究所論文集 Vol.52 No.-

        재래식 열과 마이크로파 에너지에 의해 열처리된 무기 고분자인 PbO-ZnO- B₂O₃-TiO₂계 봉착용 유리의 결정화 거동을 비교 검토하였다. DTA 분석을 통하여 결정화 열처리를 위한 온도 및 유리의 특성점을 산출하여, 재래식 전기로와 개조된 가정용 전자레인지 (LG Electronic Co., 2.45 ㎓, 700W)로 시편들의 열처리를 행하였다. X-선 회절 분석 결과, 마이크로파에 의해 열처리된 시편은 재래식 열에 의해 열처리된 시편에 비하여 약 20℃ 정도 낮은 450℃에서 PbTiO₃ 결정이 성장함을 알 수 있었다. This study investigated the crystallization behavior in PbO-ZnO-B₂O₃-TiO₂system sealing glass, inorganic polymer, heat-treated by conventional and microwave energy. After selecting heat-treatment temperatures by determining crystallization and characteristic points from DTA analyses, samples were heat-treated at various temperatures in a electric furnace and a home-style microwave oven (LG Electronic Co., 2.45 ㎓, 700W). From XRD analyses, the microwave heat-treated sample had the growth of PbTiO₃crystal at 450℃, which was 20℃ lower than that of the conventionally heat-treated sample.

      • SCOPUSKCI등재

        Microwave Sealing of Alumina Substrate with Sealing Glass

        박성수,차무경,류봉기,신학기,박찬영,민성기,박희찬,Park, Seong-Su,Cha, Mu-Gyeong,Ryu, Bong-Gi,Sin, Hak-Gi,Park, Chan-Yeong,Min, Seong-Gi,Min, Seong-Gi Materials Research Society of Korea 1999 한국재료학회지 Vol.9 No.2

        재래식과 마이크로파 열원으로 알루미나 기판을 PbO-ZnO-$B_2O_3$계 유리로 봉착하였을 때, 봉착용 유리의 결정화 거동 및 알루미나 기판과의 봉착상태를 조사하였다. 재래식 열처리된 시편에 비하여 마이크로파 열처리된 시편은 짧은 시간과 낮은 온도에서 열처리 되었음에도 불구하고 모유리 내에서 $\textrm{PbTiO}_3$ 결정이 잘 성장하였고, 높은 결정화를 보여주었다. 또한, 마이크로파 봉착 시편은 양호한 상태를 보여주었고, 봉착 곡강도는 거의 비슷하였다. Alumina substrate was sealed by PbO-ZnO-$B_2O_3$glass using microwave heating. The crystallization behaviour of sealing glass and the state of sealing joint were investigated and were compared with those of conventionally sealed one. Compared to the conventional one, the microwave heat-treated sample had well-grown $\textrm{PbTiO}_3$ crystals and high degree of crystallinity even though it had shorter heat-treatment time and lower heat-treatment temperature. Also, the microwave sealed sample exhibited relatively a good sealing state and almost same bending strength.

      • SCOPUSKCI등재

        재래식 열과 마이크로파 에너지에 의해 열처리된 무기고분자의 결정화 거동에 관한 연구

        박성수,차무경,류봉기,신학기,박희찬 한국세라믹학회 1997 한국세라믹학회지 Vol.34 No.9

        This study investigated the crystallization behavior in PbO-ZnO-B2O3-TiO2 system sealing glass, inorganic polymer heat-treated by conventional heat and microwave energy. After determining heat-treated temperature for crystallization and characteristic points by DTA analysis, samples were heat-treated in a classical electric furnace and a home-style microwave oven (LG Electronic Co., 2.45 GHz, 700 W). A microwave heat-treated sample had the growth of PbTiO3 crystal at 45$0^{\circ}C$, 2$0^{\circ}C$ lower than that of a conventionally heat-treated sample. Also, it had crystallinity about 20% higher than the conventionally heat-treated sample. At 49$0^{\circ}C$, the size of PbTiO3 crystal in the conventionally heat-treated sample was larger than that in the microwave heat-treated sample due to longer heat-treated time.

      • 다중 산란 효과에 대한 Vitreous Silica의 X-ray 데이타 교정

        박희찬,차무경,류봉기,장윤식,박성수 釜山大學校生産技術硏究所 1996 生産技術硏究所論文集 Vol.51 No.-

        표준 X선 회절 기술을 이용하여 흡수계수가 매우 낮은 비정질 재료의 X선 강도를 측정할 때, 측정된 X선 강도에는 다중 산란에 의해 발생하는 X선 강도가 포함된다. 따라서, 비정질 실리카에서 사용되는 빔의 종류에 따라 발생하는 다중산란빔의 크기를 산출해 주는 컴퓨터 프로그램을 작성하였다. CuKα와 MoKα빔 조건하에서 비정질 실리카의 정합산란 강도를 작성된 컴퓨터 프로그램을 도입하였을 때, CuKα빔에서는 단일산란빔에 대한 다중산란빔의 강도 비는 k(=4πsinθ/λ) = 0∼8.1의 범위에서 0.0016 이하이고, MoKα빔에서는 단일산란빔에 대한 다중산란범의 강도 비는 k = 0.0∼17.7의 범위에서 0.01∼0.059 이었다. 따라서, Xtjs 회절 기술을 이용하여 비정질 실리카를 실험적으로 구조 분석을 하기 이전에, MoKα빔에서 측정된 X선 강도는 반드시 다중 산란 효과에 대해서 교정되어야 한다. When the intensity of x-rays scattered from amorphous materials (very weakly absorbing materials) is measured using standard diffractometric technique, the x-ray intensity caused by multiple scattering is obtained in the measured x-ray intensity. Therefore, computer programs have been developed to estimate the intensity of multiple scattering produced from vitreous silica. Using the above computer program for the unmodified scattering from vitreous SiO₂using Cukα and MoKα radiation, the intensity ratio of multiple scattering beam to single scattering beam in CuKα radiation was computed below 0.0016 in the range of k(= 4πsinθ/λ) = 0.0 to 8.1 and one in MoKα radiation was computed about 0.01 to 0.059 in the range of k = 0.0 to 17.7. Therefore, prior to the experimentally structural analysis of vitreous silica using the diffractormetric technique, the x-ray intensity measured in MoKα radiation must be corrected for multiple scattering effect.

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