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      • KCI등재

        양산용 80 kW급 RF Plasma Torch System 개발 및 Si 나노분말 제조 공정 연구

        송석균,손병구,김병훈,이문원,신명선,최선용,이규항,김성인,Song, Seok-Kyun,Son, Byungkoo,Kim, Byunghoon,Lee, Moonwon,Sin, Myungsun,Choi, Sunyong,Lee, Kyu-Hang,Kim, Seong-In 한국진공학회 2013 Applied Science and Convergence Technology Vol.22 No.2

        80 kW RF 플라즈마 토치 시스템을 개발하기 위하여, 토치 시스템에 대한 온도, 유체 거동 분석 등의 보다 많은 정보의 추출을 위하여 3차원 시뮬레이션을 진행했다. 파우더 주입관 위치, 입력 전류 변화에 따른 플라즈마 생성 특성, 세라믹 원통관 길이에 따른 플라즈마 방전 특성, 및 공정가스 유량에 따른 플라즈마 온도특성 등을 시뮬레이션 했다. 시뮬레이션을 통해 설계 제작된 RF 열 플라즈마 토치의 경우, 최대 89.3 kW까지 파워 인가가 측정되었다. 개발된 80 kW급 RF 열 플라즈마 토치 시스템의 양산성 평가로 Si 나노분말을 제조하고 특성을 고찰하였다. Si 나노분말의 생산량이 평균 539 g/hr의 양산 수준과 71.6%의 높은 수율을 달성했으며, 제조된 나노 분말은 $D_{99}/D_{50}$가 1.98의 좋은 입경 균일 분포도를 나타내었다. In order to develop of 80 kW RF plasma torch system, we achieved three-dimensional simulations for the extraction of more information as temperature in torch and fluid behavior analysis, etc. The position of powder injection tube, the plasma discharge characteristics with various input current and various length of ceramic tube, and the plasma temperature characteristics with process gas flow rate such those was simulated. RF thermal plasma torch designed by simulation was manufactured that was measured to the maximum of 89.3 kW power. The mass production using developed 80 kW RF thermal plasma torch system were investigated by characteristics manufactured of Si nano powder. The mass-production level of Si nano-powder was average of 539 g/hr and high yield rate of 71.6%, respectively. The particle size distribution $D_{99}/D_{50}$ of manufacturing nano-powder was investigated to 1.98 as a good uniform.

      • KCI우수등재

        Thermally - Induced Atomic Mixing at the Interface of Cu and Polyimide

        고석근(Seok-Keun Koh),최원국(Won-Kook Cboi),송석균(Seok-Kyun Song),배국동(Kook D. Pae),정형진(Hyung-Jin Jung) 한국진공학회(ASCT) 1994 Applied Science and Convergence Technology Vol.3 No.3

        Rate of mixing of Cu particles to polyimide substrate at interfaces under different thermal treatments was analyzed by Rutherford Backscattering Spectroscopy using 2.0 MeV He+ ions. The mixing rate was a function of annealing temperature and time, and was constant at a fixed temperature. The amount of mixing increased linearly with time and the mixing rate increased with temperature. The activation energy for interface mixing between Cu and polyimide was 2.6 kcal/mol. The X-ray studies showed the Cu(111) plane peak changed with annealing time at fixed temperature. The mixing of Cu to polyimide was explained with segmental motion of PI chain and with interaction between functional group of the chain and metal electron donor. The comparisons were made between the mixing induced by ion irradiation and by thermal treatment. The various factors affecting the interface mixing are discussed.

      • 수박종자 살균을 위한 마이크로웨이브 플라즈마 시스템

        주상연 ( Sang-yeon Joo ),김현승 ( Hyun-seung Kim ),정만기 ( Man-ki Jung ),송석균 ( Seok-kyun Song ),박미리 ( Mi-ri Park ) 한국농업기계학회 2019 한국농업기계학회 학술발표논문집 Vol.24 No.1

        최근 이상고온, 친환경재배 면적 확대 등으로 종자전염성 식물 병 발생이 증가하고 있는 추세이다. 그 중에서도 수박, 오이 등과 같은 박과 작물에 과실 썩음병(Bacterial Fruit Blotch, BFB)을 일으키는 병원성 세균 (Acidovorax citrulli)은 주로 수박에서 세계적으로 경제적 손실을 주고 있는 심각한 병이다. 이를 해결하기 위해 기존방법으로는 건열처리를 하여 종자를 소독하고 있으나, 많은 시간과 비용이 소요되고 있다. 최근 플라즈마 기술이 농업 등 다양한 분야에서 활용되고 있는데, 플라즈마는 제4의 물질상태로 이온, 전자, 라디칼 및 에너지를 가지는 가스입자의 물리적 충돌 및 강력한 활성에 의한 화학 반응이며 세균의 세포벽을 파괴하는 메커니즘으로 살균효과에 효과적인 물질로 나타났다. 본 연구에서는 마이크로 웨이브 플라즈마 기술을 적용하여 수박종자 소독용 플라즈마 시스템을 제작하였다. 플라즈마 발생기는 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치로서 최대 200W까지 출력할 수 있고, 처리 용량은 챔버당 약 1 liter 수준의 종자 살균이 가능하며, 공정가스로는 Ar과 02를 주입하고 플라즈마가 처리되는 석영관 내부에 종자를 넣어 일정이상 진공상태가 되면 회전모터를 작동시켜 종자가 골고루 처리될 수 있도록 설계를 하였다. 플라즈마 종자소독 시스템의 성능평가를 위해 A. citrulli를 인공적으로 감염시킨 감염수 박종자를 준비하여 종자 200개를 기준으로 조건별(30W 10, 15분; 60W 5, 10, 15분; 90W 5, 10, 15분; 120W 5분) 플라즈마를 처리하여 종자의 살균 여부를 PCR기법으로 확인한 결과, 모든 처리구에서 세균이 사멸됨을 확인하였다. 향후 대량으로 살균처리가 가능한 최적 공정을 구축할 계획이다.

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