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- 저자 : 이재희(J. Lee) (검색결과 15 건)
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고균일 Al 박막 증착을 위한 magnetron sputtering system 개발
이재희,황도원,Lee, J.H.,Hwang, D.W. 한국진공학회 2008 Applied Science and Convergence Technology Vol.17 No.2
반도체 소자공정에서 균일한 두께의 금속박막을 증착하는 것은 매우 중요하다. 기존의 기판고정식 sputtering 장비로 증착한 indium tin oxide(ITO)박막의 두께 균일도가 $\pm4%\sim\pm5%$ 정도로 중앙부분이 더 두껍다. 방전전극 구조물을 설계하고 제작하여 sputtering되는 물질의 방향을 조절하였다. 개량된 sputtering gun을 사용하여 기판고정식 sputtering 장비에서 4" wafer 내에서 $\pm0.8\sim1.3%$ 정도로 두께 균일도를 증가시켰다. wafer to wafer에서는 $\pm$5.3%에서 $\pm$1.5%로 두께 균일도가 향상되었다. Al박막의 경우 $\pm$1.0% 이내의 두께 균일도를 얻을 수 있었다. It is very important to decompose uniformly the metal film in semiconductor devices process. The thickness uniformity of the ITO film by standard magnetron sputtering system are about $\pm4%\sim\pm5%$ and the center of the wafer is more thick than the edge of the wafer. We designed and made the discharge electrode structure and controlled the direction of sputtering materials in magnetron sputtering system. The thickness uniformity are increased to $\pm0.8\sim1.3%$ in 4" wafer using the new sputtering gun in magnetron sputtering system. In wafer to wafer thickness uniformity, $\pm$5.3% are increased to $\pm$1.5% using the new sputtering gun. The thickness uniformity of the Al film are about $\pm$1.0% using the new sputtering gun in magnetron sputtering system.
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Manufacturing a Non-invasive 3D-printed Biosensor for Measuring Blood Sugar in Sweat
J. Lee(이재희),H. Lee(이형석) Korean Society for Precision Engineering 2021 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 Vol.2021 No.11월
The number of patients with diabetes is steadily increasing every year which causes multiple complications. Therefore, interest in blood sugar measurement has been increased recently. Currently, invasive blood glucose measurement is the most commercialized blood glucose measurement method, but it has disadvantages such as patient"s pain during blood collection, inconvenience, and risk of infection. Therefore, we have developed non-invasive blood glucose measurement methods which are capable of continuous monitoring to overcome the aforementioned shortcomings. Unlike conventional electrodes such as Ag/AgCl, which have a long preparation time and high price to make electrodes, all electrodes were printed with Conductive PLA (CP) to facilitate production and modification at low prices. The working electrode was coated with Nafion with Glucose oxidase (GOx) to improve the selectivity and sensitivity of the electrode. Since the glucose concentration of sweat is very low compared to blood sugar, a microfluidic channel was designed to collect sweat effectively. Consequently, our 3D-printed biosensor has advantages of cost, electrode structure modification, and production speed over other glucose monitoring sensors.
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이재희(J. H. Lee) 한국진공학회(ASCT) 2000 Applied Science and Convergence Technology Vol.9 No.3
실리콘이온 주입후 1100℃에서 열처리된 실리콘 산화막에서 Si^+ dose 량의 변화에 대한 광루미니센스의 변화를 관찰하였다. 모든 시료에서 가시광과 적외선영역의 광루미니센스를 관찰할 수 있었다. 광루미니센스의 peak는 7000 Å, 7400 Å, 그리고 8400 Å 근처에 있었으며, Si^+ dose량이 변함에 따라 peak의 위치와 강도가 변하였다. 이온 주입되는 Si^+ dose량이 1×10^(17)/㎠일 때 광루미니센스에서 특이하게 3개의 peak를 가지고 있었으며 다른 Si^+ dose량의 시료에 비하여 큰 강도를 보여준다. 주업된 Si^+ 이온들이 실리콘 산화막내에서 결함을 생성하여서 광루미니센스에 기여를 한다. Si^+ dose량과 열처리 시간등을 변화시키면 높은 에너지의 O위주 radiative defect, 낮은 에너지의 Si위주 radiative defect, 그리고 nonradiative defect들이 관계하는 것으로 생각되어져 왔으나 적절한 Si^+ dose량으로 더 많은 radiative defect를 생성시킬 수 있음을 확언하였다. Si^+ dose량을 조절함으로서 광루미니센스의 peak의 위치와 강도를 제어할 수 있을 것이다. Photoluminescence (PL) results of Si^+-implanted SiO₂ films on crystalline silicon are reported. Visible and infrared PL are observed for all the samples. The PL spectrums have about 7000 Å, 7400 Å and 8400 Å peak positions. As amount of Si^+ ion dose changed, the PL peak positions and intensity are changed. In particular, the PL spectrum has three peaks and more intensity than the other Si^+ ion implantation samples for 1×10^(17)/㎠ Si^+ ion implantation. Not nanocrystal but defects that st ions created are contributed to the PL spectrum. For the changes of Si^+ ion dose and annealing time, O rich radiative defects, Si rich radiative defects, and nonradiative defects control the PL spectrum. We confirmed that more radiative defects can be created by control of Si^+ ion dose.
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실리콘이온주입된 실리콘산화막의 광루미니센스에 관한 연구
김광희(K. H. Kim),이재희(J. H. Lee),김광일(K. I. Kim),고재석(J. S. Koh),최석호(S. H. Choi),권영규(Y. K. Kwon),이원식(W. S. Lee),이용현(Y. H. Lee) 한국진공학회(ASCT) 1998 Applied Science and Convergence Technology Vol.7 No.2
실리콘산화막에 실리콘이온주입을 5×10^(16)/㎠, 1×10^(17)/㎠, 3×10^(17)/㎠ 으로 하여 열처리온도와 열처리시간을 변화시키면서 광루미니센스, XRD, TEM을 관찰하였다. 이온주입량이 적고 열처리온도가 낮을경우에 가시광 광루미니센스를 관찰할 수 있었다. 광루미니센스의 peak는 7420Å과 8360Å 위치에 있었으며, 열처리시간이 길어짐에 따라 intensity는 각각 증가하였다. 이온주입량이 많고 열처리온도가 높을경우에는 광루미니센스가 관찰되지 않았다. 이온주입량이 적고 열처리온도가 높을경우에는 열처리시간이 짧으면 가시광 광루미니센스가 있으나 열처리시간이 1시간 이상으로 길어지면 광루미니센스가 사라졌다. XRD와 TEM 결과로부터 실리콘 cluster는 nonradiative defect와 관련있으며, 실리콘이온주입된 실리콘산화막에서 관찰되는 광루미니센스의 origin은 nanocrystal 이 아니라 defect임을 알 수 있었다. 이온주입되는 실리콘이온의 량, 열처리온도와 시간의 변화는 광루미니센스를 변화시키는데 이 현상들을 Si-O-O 결합인 O위주의 결함과 Si-Si-O 결합인 Si 위주의 결함과 연관지어 설명할 수 있었다. Photoluminescence(PL), XRD, TEM results of 5×10^(16)/㎠, 1×10^(17)/㎠, 3×10^(17)/㎠ Si^+-implanted SiO₂ films on crystalline silicon are reported. At low dose implantation and low annealing temperature, visible PL are observed. The PL spectrum has 7400Å and 8360Å peaks. As annealing time increased, the PL intensity are increased and peak positions are changed. The PL spectrum are not observed at high dose implantation and high annealing temperature. For the samples of low dose and high annealing temperature, visible PL are observed at short annealing time (30 minutes) and disappear for more than 1 hour annealing. From XRD and TEM results, silicon cluster are related to nonradiative defects. It is concluded that the origin of visible PL in Si^+-implanted SiO₂ films are not nanocrystal but two kinds of radiative defects. The Si-O-O bonding related defects (O rich defects) and Si-Si-O bonding related defects (Si rich defects) are related to the PL spectrum and depend on concentration of Si^+ implantation, annealing temperature and time.
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World - Wide Web 을 이용한 도서관 정보 시스템의 구현
김선희(S. H. Kim),김수진(S. J. Kim),김재학(J. H. Kim),윤종필(J. P. Youn),이재희(J. H. Lee),양희재(H. J. Yang) 한국정보과학회 1995 한국정보과학회 학술발표논문집 Vol.22 No.2B
인터넷의 급속한 보급과 더불어 자관의 목록 정보를 인터넷 사용자들에게 제공하는 도서관들이 계속적으로 생겨나고 있다. 그러나 이들 대부분은 Telnet 등의 원격접속 방법을 통해 자관 컴퓨터에 접속되도록 하고 있으므로 사용자 숫자의 증가에 따른 응답시간의 급격한 지연이 문제가 되고 있으며, 더우기 문자 위주의 사용자 접속 환경은 최근 각광을 받고 있는 멀티미디어 정보 환경을 전혀 지원해 주지 못한다는 단점이 있다. 본 논문에서는 인터넷 정보도구의 표준이 되고 있는 World-Wide Web (WWW) 을 이용하여 Client/Server 전산 환경에 의한 부하분산이 이루어지게 하며 동시에 멀티미디어 정보 환경 제공도 가능하게 하는 새로운 도서관 정보 시스템의 구현에 대해 고찰해 본다.
DBpia
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