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김현곤 ( Kim Hyeongon ),이명신 ( Lee Myungsin ),전은광 ( Jeon Eunkwang ),이화민 ( Lee Hwamin ) 한국정보처리학회 2016 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.23 No.2
2007년 애플의 아이폰을 필두로 스마트 폰이라는 새로운 시장을 창조해 내었고 휴대 기기의 급격한 발전은 IOT, SNS와 같은 다양한 응용분야의 연구 및 개발을 촉진 시켰고 이는 스마트라는 단어로 시대를 축약 할 수 있다. 본 논문에서는 사용자들의 행동 근간이 되는 일정(Schedule) 관리에 패턴 분석 방식을 응용하여 발전된 일정 관리 프로그램을 구현하였다.
Gate-All-Around FET Inner Spacer 두께에 따른 Parasitic Capacitance 모델링
강지훈(Jihun Kang),김현곤(Hyeongon Kim),박하민(Hamin Park) 대한전자공학회 2023 대한전자공학회 학술대회 Vol.2023 No.11
According to the scaling of transistors, the impact of parasitic capacitance is continuously increasing. In the case of gate-all-around FET (GAAFET), various parasitic capacitance elements exist due to its complex three-dimensional structure. In this paper, we conducted modeling of extension capacitance (Cext) in GAAFET based on different inner spacer thickness (TIS). We extracted Cext of GAAFET using TCAD simulation and carried out Cext modeling using elliptical coordinates to the Cartesian system. To establish the model, we divided the distribution of electric fields composing Cext into three regions and ensured consistency between the models of changes in these three regions with TIS and TCAD simulation results. Finally, we analyzed the trend of C<SUB>ext</SUB> changes based on the TIS using the model.