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홍경일 ( Hong Gyeong Il ),정용석 ( Jeong Yong Seog ),임권택 ( Im Gwon Taeg ),정연태 ( Jeong Yeon Tae ) 한국공업화학회 2003 공업화학 Vol.14 No.8
산에 민감한 작용기를 갖는 tert-butyl methacrylate (tBMA)와 산 증식 기능을 갖는 1-hydroxy-4-p-styrenesulfonyloxy cyclohexane (HSC) 또는 1-p-styrenesulfonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane (STC)의 공중합체를 새로운 고분자 산 증식형 포토레지스트로 합성하였다. Poly(HSC-co-tBMA) film과 poly(STC-co-tBMA) film의 열적 안정성은 레지스트 공정 온도에 충분히 안정한 열적 안정성을 나타내었다. 광감도 특성은 poly(HSC-co-tBMA) film은 ptBMA homopolymer에 비교하여 약 4배 정도 떨어지고, poly(STC-co-tBMA) film homopolymer에 비해 약 1.3배 정도 우수함을 확인하였다. 고분자에 도입한 산 증식 기능을 갖는 그룹의 구조에 따라 광감도 증진 효과가 다르게 나타남을 확인하였다. Acid-amplifying copolymers are synthesized by the copolymerization of tert-butyl methacrylate(tBNA) with acid sensitive functional group and 1-hydroxy-4-p-styrene-sulfonyloxy cyclobexane(HSC) or 1 p-styrene-sulfonylosy-4-tosyloxy cyclohezane(STC) with acid amplifying group as novel polymeric acid-amplifying photoresists. Poly(HSC co-rBNA ; film and poly(STC-co-tBNA) film showed reasonable thermal stability for resist processing temperature. Poly(HSC-co-tBNA) film shows 4 times lower photosensitivity and poly(STC-co-tBNA) film exhibits 1,3 times higher photosensitivity compared with ptBMA homopolymer. The attachment of acid-amplifying units to polymer backbones could provide a novel way to enhance the photosensivity of acid-sensitive polymers depending on the structure of acid-amplifying units
화학 증폭형 포토레지스트의 감도 증진을 위한 산 중식제로 시클로헥산디올의 p-스티렌술폰산 에스테르 유도체에 관한 연구
홍경일 ( Hong Gyeong Il ),이은주 ( Lee Eun Ju ),임권택 ( Im Gwon Taeg ),정용석 ( Jeong Yong Seog ),정연태 ( Jeong Yeon Tae ) 한국공업화학회 2003 공업화학 Vol.14 No.5
본 연구에서는 1-hydroxy-4-p-styrenesulfonyloxy cyclohexane (1), 1, 4-di-p-styrene-sulfonyloxy cyclohexane (2), 그리고 1-p-styrenesul-fonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane (3)을 산 중식제로 합성하고 그 성능을 평가하였다. 이러한 산 중식제들(1~3)은 레지스트 공정온도에 대하여 충분한 열적 안정성을 나타내었다. 또한 산 중식제를 사용한 경우에 광산 발생제만 사용한 poly(tert-butyl methacrylate) 필름에 비교하여 2배에서 5배 정도의 감도 증진이 일어나 광화상 제조에 효과적으로 응용할 수 있음을 확인하였다. In this research, we synthesized and evaluated 1-hydroxy-4-p-styrensulfonyloxy cyclohexane. 1,4-di-p-stryrenesulfonyloxy cyclohexane, and 1-p-styrensulfonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane as novel acid amplifiers. These acid amplifiers showed reasonable thermal stability for resist processing temperature. As estimated by the sensitivity curve, all the acid amplifiers were 2-5 times more sensitive than poly(tert-butyl methacrylate) film in the presence of a photoacid generator; and therefore, these can provided practical applicability in photoimaging.