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Compton 산란선을 이용한 아연계 전기도금강판 표면의 Slicone Resin Film 두께측정
소재춘,이도형,Jae Chun So,Do Hyung Lee 대한화학회 1991 대한화학회지 Vol.35 No.5
A method to determine the thickness of silicone resin film on zinc eletroplated steel using X-ray compton scattering was investigated. On the basis of the fact that compton scattering process predominates over photoelectric absorption for the light elements such as C, H, O and Si, the compton scattered line of RhK$_{\alpha}$ was used to determine the thickness of silicone resin. In this method, the standard calibration curve for thickness determination of silicone resin film was found to be linear in the range of 0.2~5.0 ${mu}$m film thickness. The analytical results agreed well with those obtained by the gravimetric method and the accuracy was found to be 0.22 ${mu}$m. X-ray Compton 산란선의 강도를 측정하여 내지문처리재(Anti-fingerprint Steel)의 표면에 Coating 되어 있는 Silicone resin film의 두께를 신속하게 측정할 수 있는 새로운 분석방법을 연구하였다. Silicone resin과 같은 유기수지들은 C, H, O, Si 등과 같은 경원소들로 구성되어 있어 compton 산란선의 강도가 높게 나타나는데 이러한 성질을 이용, X-ray tube로부터 발생된 RhK$_{\alpha}$ 선을 시료표면에 조사한 후 발생된 RhK$_{\alpha}$ compton 산란선의 강도를 측정하여 silicone resin film의 두께를 구하였다. 검량곡선 작성결과 0.2 ~ 5.0 ${mu}$m 범위에서 직선성을 나타냈으며 두께측정에 대한 정확도는 0.22 ${mu}$m 이었다.
흐름계를 이용한 크롬도금 용액의 Cr(Ⅲ)와 Cr(Ⅵ)의 분광학적 동시 분석 방법
김선관,남학현,소재춘,이원,차근식,한상현,Kim, Sun Kwan,Nam, Hakhyun,So, Jae Chun,Lee, Won,Cha, Geun Sig,Han, Sang Hyun 대한화학회 1995 대한화학회지 Vol.39 No.2
크롬도금 용액에 공존하고 있는 Cr(III)와 Cr(VI)의 양을 자외선/가시광선 분광기에 장착한 흐름계 장치를 이용하여 시료당 5분 이내에 두 가지 물질의 양을 동시에 분석하는 방법을 개발하였다. Cr(III)와 Cr(VI)는 각각 580 nm와 440 nm에서 0.05 g/L와 0.005 g/L 이상의 범위에서 Beer-Lambert 법칙에 따르는 특성 ${\lambda}_{max}$를 나타내며, 이 파장들에서의 흡광도는 pH<4의 조건에서는 pH변화에 거의 영향을 받지 않았다. 따라서 일반적으로 크롬의 농도가 수 g/L인 후처리 크롬 도금조의 용액을 흐름계의 장치에서 pH=1의 황산 용액으로 묽힌 후, 자외선/가시광선 분광기로 측정하면 Cr(III)와 Cr(VI)의 양 및 총 크롬의 양을 기존의 산화-환원 적정 방법(최소 40분/sample)보다 간편하고 신속정확하게 동시 정량할 수 있었다. 이 장치는 설치 및 사용이 간단하고, 설치 비용이 저렴하므로 많은 도금 산업 현장에서 용이하게 응용할 수 있다. The amount of Cr(Ⅲ) and Cr(Ⅵ) in a chromium plating solution could be determined simultaneously within five minutes using UV/VIS spectrophotometer coupled with a flow-through analysis(FTA) setup. The λmax's at 580 nm and 440 nm which correspond to Cr(Ⅲ) and Cr(Ⅵ), respectively, well obey the Beer-Lambert law in the range over 0.05 g/L for Cr(Ⅲ) and 0.005 g/L for Cr(Ⅵ). when the pH of the sample is less than 4.0, the absorption extinction coefficients of those peaks are not much dependent on the proton concentration. The amount of Cr(Ⅲ) and Cr(Ⅵ), and the total chromium in post treatment chromium plating solution, which normally has few g/L of Cr concentration, could be easily measured using UV/VIS spectrophotometry after the sample had been diluted with sulfuric acid of pH=1.0 in the flow-through analysis setup; this method is far more convenient and faster than the common redox titration (which requires at least 40 min/sample) method, while the accuracy of the method is highly comparable to conventional titrimetric method. Since the implementation of an PTA-UV/VIS setup in any plating industry is cost effective and easy to operate, the analytic method described in this paper may be applied directly for in situ analysis of plating solutions.