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재해피해액 산정을 위한 재해손실평가 인벤토리 구축 및 피해산정방법 연구
김혜령(Kim Haeryung),이성규(Lee Sunggyu),정은아(Jung Eunah),윤희연(Yoon Heeyeun) 한국방재학회 2018 한국방재학회논문집 Vol.18 No.3
기후변화로 인한 자연재해는 막대한 사회ㆍ경제적 손실을 발생시키고 있으며, 향후에도 지속적으로 피해를 발생시킬 것으로 예상되고 있다. 본 연구의 목적은 신속하게 재해손실금액을 추정하여 이에 따른 재난 대응 우선순위를 선정하기 위한 재해손실평가 인벤토리를 제안하는 것이다. 본 연구는 해외재해손실평가 모델(미국 HAZUS-MH와 PHRLM, 대만 TELES, 네덜란드 Standard method, 영국 MCM, 일본 FLEM)과 국내 다차원법(MD-FDA)을 문헌조사하고 공간자료 활용, 토지이용별 대응, 시설별 피해산정 방법을 고려하여 인벤토리 구조를 제안하였다. 또한 피해산정방법은 건축구조물과 건축구조물 외 자산, 사회기반시설, 농업지역, 산림지역으로 나누어 제시된 인벤토리 구조에 맞게 정리하였다. 본 연구에서 제안하는 인벤토리 구조를 고려하여 구체적인 자료를 지속적으로 구축해 나간다면, 향후 우리나라 실정에 맞는 재해피해자료 구축, 재해손실평가 모델의 개발과 정책 활용에 기본 인벤토리 구조로 활용될 것으로 기대된다. Dramatic global climate change makes unexpected natural disasters that create severe economic losses even though disaster preparedness implement sustainably. To quickly estimate disaster losses and then the priority of political response, there is a need to build the disaster damage assessment inventory in Korea. This study investigated inventory structures of South Korea and foreign natural disaster damage assessment models (HAZUS-MH and PHRLM in the US, TELES in Taiwan, Standard method in the Netherlands, MCM in the UK, FLEM in Japan). Also, we analyzed damage assessment methods considering the availability of spatial data, the response by land use and damage estimation methods. Also, the estimation methods are arranged according to the inventory structure divided into the building, other real assets, infrastructure area, agriculture area and forest area. If this inventory is used to build disaster data consistently, it will be possible to use as basic inventory structure for future damage assessment model development.
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김혜령 동명정보대학교 1999 東明情報大學校論文集 Vol.2 No.-
Particle deposition on shadow mask surface, especially before photo process, results in defect of the final product. This study focused on the reduction of particle deposition rate, as well as the increase of particle removal rate from the cleanroom. In order to obtain a quantitative understanding of particles cleanroom behavior on the shadow mask production line, the three dimensional numerical simulation of photo process line has been performed and the results are analyzed for practical application. Furthermore, additional numerical simulations have been performed by changing the cleanroom geometry to increase the particle removal rate.
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