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전자파 방사체의 위치정보 탐색을 위한 TDOA 방향탐지 기법 연구
양홍선,전순용 제어로봇시스템학회 2011 제어로봇시스템학회 합동학술대회 논문집 Vol.1 No.1
방향탐지장치의 방향정보는 EA(전자공격 : Electronic Attack)을 위해 송신방향을 결정하여 재밍 효과를 높이는 데 사용하거나, 신호처리의 전처리 데이터로 이용하여 많은 신호원이 존재할 때 신호분석 효율을 높이는데 활용해 왔다. 이러한 과정에서 방향탐지정확도의 향상을 주 목적으로 방사체의 위치정보가 추가로 필요하게 되어 기존의 방향탐지장치를 이용한 위치측정 방법( 두 대 이상의 방향탐지장치에서 측정된 방위 정보를 이용한 감각측량법)이 고안되어 사용되기 시작하였다. 하지만 측정 방위의 오차로 인한 낮은 위치정확도(수 100m ~ 수 Km)로 기존의 위치측정 방식은 매우 제한적으로 활용되는 문제점을 가지고 있다. 따라서 본 논문에서는 위치정확도를 높이기 위한 방안으로 위상비교 방향탐지기법의 일종인 TDOA(Time Differnece Of Arrival) 방향탐지 기법을 적용한 방향탐지장치를 통해 방사체의 방위와 위치의 정확도를 크게 개선(수 10m)할 수 있는 방법을 제시한다.
선형화기를 이용한 위성통신용 X-밴드 TWT 증폭기 선형특성 개선
최원 ( Won Choi ),양홍선 ( Hong Sun Yang ),구경헌 ( Kyung Heon Koo ) 한국항행학회 2011 韓國航行學會論文誌 Vol.15 No.5
본 논문에서는 7.9 GHz∼8.4 GHz 에서 동작하는 위성통신용 X-밴드 TWT의 AM-AM과 AM-PM 변환특성을 분석하고 선형화기를 이용하여 선형성과 IMD 특성을 개선하였다. 선형화기를 포함하는 TWT는 개선된 AM-AM과 AM-PM 변환특성을 나타내며, 1 dB 압축점은 12.3 dB, 2.0°/dB 위상왜곡점은 10 dB 개선되었다. 또한 동작출력에서 3차 상호변조 특성인 IMD3는 16.2 dB 개선되어 37.0 dBc로 측정되었다. 또한, 고출력 증폭기의 IMD 측정 방안을 제시하고, TWT의 AM-PM 왜곡 특성을 보상하여 출력전력과 선형 특성을 개선할 수 있음을 나타내었다. This paper has analyzed the AM-AM and AM-PM characteristics of 7.9 GHz∼8.4 GHz X-band TWT used for satellite communication and improved its linearity and IMD performance by using linearizer. The TWT amplifier with the linearizer shows better AM-AM and AM-PM conversion, and has increased 1 dB compression point by 12.3 dB and 2.0 °/dB phase distortion point by 10 dB. The 3rd order intermodulation distortion, IMD3 is measured to be 37.0 dBc that is 16.2 dB improvement at the operating output. This paper also proposed the measurement method of IMD for high power amplifier, and that TWT amplifier can have better linearity and output power by compensating for the AM-PM characteristics.
서유석,박대규,정철모,김상범,손평근,이승진,김한민,양홍선,박진원,Seo, Yu-Seok,Park, Dae-Gyu,Jeong, Cheol-Mo,Kim, Sang-Beom,Son, Pyeong-Geun,Lee, Seung-Jin,Kim, Han-Min,Yang, Hong-Seon,Park, Jin-Won 한국재료학회 2001 한국재료학회지 Vol.11 No.6
통계적 방법을 사용하여 스퍼터 증착한 Ta 박막의 증착속도, 비저항, 면저항 균일도, 반사도, 응력 등의 물성을 측정하고 분석하였다. RS/1의 표면 반응 분석법에 의해 독립변수와 종속변수간의 함수관계를 예측하였으며. 이때 비저항과 면저항의 균일도 측면에서 최적조건은 증착 압력 2 mTorr, 증착 전력 8 W/$\textrm{cm}^2$ 및 기판온도 $20^{\circ}C$였다. 실험 모텔의 신뢰성 (fitness)은 풀링(pooling)하지 않은 경우 0.85 ~0.9의 값을 얻었다. 본 조건하에서 증착된 박막은 비저항 180$\mu$$\Omega$cm와 면저항 균일도 ~ 2%의 값을 가졌다. 투과전자 현미경과 X선 회절법을 이용하여 분석한 결과 증착된 박막은 100~200 정도의 결정립 크기를 갖는 $\beta$-Ta 임을 확인하였다. We report the characteristics and the dependence of sputter-deposited Ta films on the process parameters. The properties of as-deposited Ta films such as deposition rate, resistivity, Rs uniformity, reflectivity, and stress were investigated and analyzed as a function of process parameter using a statistical experimental method. The functional relationships between the independent and dependent variables were predicted by surface response. The optimal deposition condition of DC magnetron sputtered Ta films was obtained at the chamber pressure of 2 mTorr, power density of 8 W/$\textrm{cm}^2$, and substrate temperature of 2$0^{\circ}C$ by means of resistivity and Rs uniformity. The fitness value for quadratic model as evaluated by the R- square was 0.85~ 0.9 without pooling. The as-deposited Ta films exhibited the resistivity of ~180$\mu$$\Omega$cm with Rs uniformity of ~2%. The transmission electron microscopy and x-ray diffractometry identified that the phase of as-deposited film was $\beta$-Ta having the grain size of 100~200.