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붕산용액에서 형성된 알루미늄 전해콘덴서용 박의 화성피막 조직분석
김성갑,김성수,오한준,조남돈,지충수,Kim, Seong-Gap,Kim, Seong-Su,O, Han-Jun,Jo, Nam-Don,Ji, Chung-Su 한국재료학회 2001 한국재료학회지 Vol.11 No.4
Microstructures of barrier-type oxide layers on aluminum was studied by XRD, TEM and RBS. Fer formation of oxide layer. aluminum was anodized in a boric acid solution. The thickness of the oxide film subjected to applied voltage increased linearly at ratio of 1.54nm/V. For oxide layer anodized at 300V, amorphous structure of oxide layer was not transformed after heat treatment at 50$0^{\circ}C$ , while for oxide layers anodized at higher voltages the amorphous structure crystallized into a ${\gamma}$-alumina without any heat treatment. It was also found that the amorphous structure of oxide layer formed at 100V transformed into crystalline structure by electron irradiation. The structure was identified as ${\gamma}$-alumina. 붕산용액에서 양극산화법으로 장벽형 산화피막을 형성시킨 후 미세조직을 관찰하였다. 양극산화시 인가되는 전압에 따른 피막의 성장속도는 1.54nm/v의 직선적인 관계를 나타냈으며 300v의 인가전압에서 생성된 산화피막의 조직은 50$0^{\circ}C$에서 열처리하였을 경우 피막의 상 전이가 일어나지 않았으나 높은 인가전압에서 생성된 산화피막의 경우는 피막의 조직이 비정질에서 ${\gamma}$-alumina로 변태되는 것이 관찰되었다. 또한 피막이 전자빔 조사에 의해서도 ${\gamma}$-alumina로 전이가 일어났다.
전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 II. 유전층의 조직 및 임피던스 분석
김성갑,유인종,신동철,오한준,지충수,Kim, Seong-Gap,Yu, In-Jong,Sin, Dong-Cheol,O, Han-Jun,Ji, Chung-Su 한국재료학회 2000 한국재료학회지 Vol.10 No.5
전해콘텐서용 알루미늄박을 ammonium adipate 용액을 이용하여 $65^{\circ}C$에서 10분간 100V 및 140V로 각각 양극 산화시켜 산화 알루미늄 유전체를 만들었다. 유전층의 두께, 화학양론적 관계, 결정구조 등을 RBS 및 TEM을 이용하여 분석하였고, 알루미늄박의 에칭시 황산 첨가로 인한 표면적의 변화는 임피던스 분석법으로 조사 하였다. 생성된 유전피막은 100V 및 140V의 전압을 사용했을 경우 각각 약 130nm 및 190nm 두께의 비정질로 나타났으며 피막의 알루미늄과 산소원소의 화학양자론적 비는 약 2:3의 비율로 존재했다. 또한 유전피막은 전자빔은 조사에 의해 쉽게 $${\gamma}$-Al_2$$O_3$ 형태의 결정질로 변태 되었다. 염산 에칭욕에 황산 첨가시 나타나는 알루미늄박의 표면변화는 임피던스 분석결과와 정전 용략의 변화가 일치하는 경향을 나타냈다. Aluminium foil for electrolytic capacitors was anodized at the voltage of 100V and 140V for 10 minutes in ammonium adipate solution to form aluminum oxide layer on aluminum substrate as an dielectric film. The thickness, the stoichiometry and the crystal structure of the layer were investigated by using RBS and TEM . In addition EIS technique was employed to study the effects of addition of sulfuric acid on the increment of the foil surface area. It was found that the thickness values of the layers anodized at 100V and 140V were about 130 nm and 190 nm respectively and the stoichiometry of the elements of aluminum and oxygen was 2:3. The anodic oxide layer was shown to be amorphous. but the structure irradiated with electron beam resulted in the transformation into crystalline structure of $${\gamma}$-Al_2$$O_3$ . From a comparison of the impedance results and the capacitance variation to investigate the ef- fects of sulfuric acid addition to the etching bath of hydrochloric acid, the EIS techinque could be useful to analyze the capacitance variation.
전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 I. 에치터널의 형상 및 정전 용량
김성갑,유인종,장재명,오한준,지충수,Kim, Seong-Gap,Yu, In-Jong,Jang, Jae-Myeong,O, Han-Jun,Ji, Chung-Su 한국재료학회 2000 한국재료학회지 Vol.10 No.5
전해콘텐서용 알루미늄박의 직류에칭에서 1M 염산욕에 부식억제제로 1M 황산을 첨가했을 때의 영향을 조사하기 위하여 에치 피트의 밀도, 에치 터널의 길이와 직경, 정전 용량 등의 변화를 분석하였다. 황산이온은 부식억제제로서 염소이온보다 시료의 표면에서 에치 피트의 밀도를 증가시키며 에치 터널의 직경은 감소하나 길이를 증가시킴으로써 전체적으로 표면적이 커지고 또한 정전 용량 값이 증가하였다. 황산이온을 첨가하였을 경우 전류 밀도가 $0.9A/\textrm{cm}^2$ 보다 낮은 경우에는 정전 용량 값이 작지만 그 이상에서는 정전용량이 현저하게 증가하였다. In order to investigate the effects of addition of 1M sulfuric acid to the etching solution or 1M hydrochloric acid on the etching behavior of aluminum foil for electrolytic capacitors, the changes in the density of etch pit, the length and diameter of etch tunnels and the capacitance were analyzed using SEM, TEM, LCR meter etc. Sulfate ion as a corrosion inhibitor was contributed to the increase of the surface area comparing with chloride ion. By adding sul-furic acid the density of etch pit and the length of etched tunnel increased and the diameter of the tunnel decreased, resulting in the increase of capacitance. It was also shown that the capacitance decreased when the current density was below $0.9A/\textrm{cm}^2$, while remarkably increased in the other case.
김성갑,신동철,장재명,이종호,오한준,지충수,Kim, Seong-Gap,Shin, Dong-Cheol,Jang, Jae-Myeong,Lee, Jong-Ho,Oh, Han-Jun,Chi, Chung-Su 한국재료학회 2001 한국재료학회지 Vol.11 No.1
고순도알루미늄 유전체의 내부표면적을 증가시키기 위하여 1M의 염산 에칭용액에 첨가제를 사용했을 때 나타나는 에칭특성의 변화를 조사하였다. 염산용액에 에틸렌글리콜이 첨가된 혼합용액에서 에칭을 실시했을 경우 알루미늄 기지 표면에 미세하고 균일한 에치피트가 형성되어 표면적 증가 효과가 크게 나타났으며, 또한 양극 산화 후 측정된 정전용량의 결과에서도 에틸렌 글리콜이 첨가된 에칭액에서 제조된 유전체는 표면적 증가에 의한 높은 정전용량 값을 나타냈다. The effects of additives in the HCI etching solution on etching behaviors of aluminum foil as dielectric film for electrolytic capacitors were investigated. The etch pits formed in 1M hydrochloric acid containing ethylene glycol as an additive contain more fine and homogeneous etch tunnels compared to those in 1 M hydrochloric acid only, which led to the increase in the effective internal surface area of aluminum foil. After anodizing of aluminum foil etched in etching solutions, the LCR meter results have shown that the capacitance of dielectric film etched in hydrochloric acid with ethylene glycol was increased remarkably compared to that etched in hydrochloric acid only.
김성갑 안동대학교 농업개발원 2000 最高農業經營者課程 論文集 Vol.4 No.-
1. 경영개선의 과정 전술한 바와 같이 경영개선을 위한 과정들을 정리하면 농업을 위한 기반 구축을 위해 농지의 확보가 첫 번째의 목표로 그 성과는 70% 일단계로 마무리하고 소득성과를 높이기 위해 확보한 농지 중 생산적 수준이 현저히 낮은 부분을 양식업으로 작목전환 하였다. 양식장에서 낭비의 요소를 제거하는 방안으로 지하수를 재활용하여 2차 추가어종을 선발·생산하게 됨으로써 소득 면에서 큰 성과를 얻었다. 이 과정들 속에서 철칙으로 지켜온 것은 바로 최고의 성과보다 안전한 길을 찾아 최선의 방안으로 합리적 성과를 목표로 실천하는 것이었다.