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폴리실리콘 기판 위에 형성된 코발트 니켈 복합실리사이드 박막의 열처리 온도에 따른 물성과 미세구조변화
김상엽,송오성,Kim, Sang-Yeob,Song, Oh-Sung 한국재료학회 2006 한국재료학회지 Vol.16 No.9
Silicides have been required to be below 40 nm-thick and to have low contact resistance without agglomeration at high silicidation temperature. We fabricated composite silicide layers on the wafers from Ni(20 nm)/Co(20 nm)/poly-Si(70 nm) structure by rapid thermal annealing of $700{\sim}1100^{\circ}C$ for 40 seconds. The sheet resistance, surface composition, cross-sectional microstructure, and surface roughness were investigated by a four point probe, a X-ray diffractometer, an Auger electron spectroscopy, a field emission scanning electron microscope, and a scanning probe microscope, respectively. The sheet resistance increased abruptly while thickness decreased as silicidation temperature increased. We propose that the fast metal diffusion along the silicon grain boundary lead to the poly silicon mixing and inversion. Our results imply that we may consider the serious thermal instability in designing and process for the sub-0.1 um CMOS devices.
니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구
김상엽,송오성,Kim, Sang-Yeob,Song, Oh-Sung 한국재료학회 2007 한국재료학회지 Vol.17 No.2
For the sub-65 nm CMOS process, it is necessary to develop a new silicide material and an accompanying process that allows the silicide to maintain a low sheet resistance and to have an enhanced thermal stability, thus providing for a wider process window. In this study, we have evaluated the property and unit process compatibility of newly proposed composite silicides. We fabricated composite silicide layers on single crystal silicon from $10nm-Ni_{1-x}Co_x/single-crystalline-Si(100),\;10nm-Ni_{1-x}Co_x/poly-crystalline-\;Si(100)$ wafers (x=0.2, 0.5, and 0.8) with the purpose of mimicking the silicides on source and drain actives and gates. Both the film structures were prepared by thermal evaporation and silicidized by rapid thermal annealing (RTA) from $700^{\circ}C\;to\;1100^{\circ}C$ for 40 seconds. The sheet resistance, cross-sectional microstructure, surface composition, were investigated using a four-point probe, a field emission scanning probe microscope, a field ion beam, an X-ray diffractometer, and an Auger electron depth profi1ing spectroscopy, respectively. Finally, our newly proposed composite silicides had a stable resistance up to $1100^{\circ}C$ and maintained it below $20{\Omega}/Sg$., while the conventional NiSi was limited to $700^{\circ}C$. All our results imply that the composite silicide made from NiCo alloy films may be a possible candidate for 65 nm-CMOS devices.
게이트를 상정한 니켈 코발트 복합실리사이드 박막의 물성연구
김상엽,정영순,송오성,Kim, Sang-Yeob,Jung, Young-Soon,Song, Oh-Sung 한국마이크로전자및패키징학회 2005 마이크로전자 및 패키징학회지 Vol.12 No.2
We fabricated Ni/Co(or Co/Ni) composite silicide layers on the non-patterned wafers from Ni(20 nm)/Co(20 nm)/poly-Si(70 nm) structure by rapid thermal annealing of $700{\~}1100^{\circ}C$ for 40 seconds. The sheet resistance, cross-sectional microstructure, and surface roughness were investigated by a four point probe, a field emission scanning electron microscope, and a scanning probe microscope, respectively. The sheet resistance increased abruptly while thickness decreased as silicidation temperature increased. We propose that the poly silicon inversion due to fast metal diffusion lead to decrease silicide thickness. Our results imply that we should consider the serious inversion and fast transformation in designing and process f3r the nano-height fully cobalt nickel composite silicide gates. 궁극적으로 게이트를 저저항 복합 실리사이드로 대체하는 가능성을 확인하기 위해 70 nm 두께의 폴리실리콘 위에 각 20nm의 Ni, Co를 열증착기로 적층순서를 달리하여 poly/Ni/Co, poly/Co/Ni구조를 만들었다. 쾌속열처리기를 이용하여 실리사이드화 열처리를 40초간 $700{\~}1100^{\circ}C$ 범위에서 실시하였다. 복합 실리사이드의 온도별 전기저항변화, 두께변화, 표면조도변화를 각각 사점전기저항측정기와 광발산주사전자현미경, 주사탐침현미경으로 확인하였다. 적층순서와 관계없이 폴리실리콘으로부터 제조된 복합실리사이드는 $800^{\circ}C$ 이상부터 급격한 고저항을 보이고, 두께도 급격히 얇아졌다. 두께의 감소는 기존의 단결정에서는 없던 현상으로 폴리실리콘의 두께가 한정된 경우 금속성분의 inversion 현상이 커서 폴리실리콘이 오히려 실리사이드 상부에 위치하여 제거되기 때문이라고 생각되었고 $1000^{\circ}C$ 이상에서는 실리사이드가 형성되지 못하였다. 이러한 결과는 나노급 두께의 게이트를 저저항 실리사이드로 만 들기 위해서는 inversion과 두께감소를 고려하여야 함을 의미하였다.
김상엽,Kim, Sang-Yeob 대한물리치료과학회 2001 대한물리치료과학회지 Vol.8 No.2
Delayed onset muscle soreness is a sensation of discomfort that occurs 24 h after exercise, and it is associated with the performance of unfamiliar and high force muscle work, such as eccentric contractions. The injury to the muscle has been well described but the mechanism underlying the injury is not fully understood. Although the pathophysiological processes underlying delayed onset muscle soreness are not completely understood, many researchers have investigated various treatments in a attempt to reduce the soreness. Physical therapy is the most importance techniques to reduce delayed onset muscle soreness. The purpose of this study is to investigate the effect of a cryotherapt on DOMS. Thirty subjects were randomly assigned to experimental group : control, cryotherapy, and placebo group. Elbow flexion range, mechanical pain threshold. and subjective pain were measured 30 min before DOMS was induced and 24, 48, 72 hours after DOMS was induced. The results of this study were as follows: 1. Elbow flexion range showed significant difference each time, especially at 48 and 72 hours 2. Mechanical pain thershold and subjectively pain showed no significant difference between group.
신재생에너지 자원의 활용을 위한 WebGIS 기반의 자원지도 시스템 개발
김상엽 ( Sang-yeob Kim ),윤창열 ( Chang-yeol Yun ),조덕기 ( Dok-ki Jo ),김현구 ( Hyun-goo Kim ),강용혁 ( Young-heack Kang ) 한국정보처리학회 2013 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.20 No.1
신재생에너지자원 사용의 확대와 더불어 그 안전성에도 관심이 고조되고 있다. 이에 따라 신재생에너지의 개발과 보급을 위한 데이터를 축적하고 관리, 활용할 수 있는 체계가 필요하다. 본 연구에서는 신재생에너지자원을 보다 효율적으로 활용하기 위한 WebGIS 기반의 시스템을 개발한다. 공간 데이터의 관리, 공간정보 서비스 인프라를 구축하기 위해서 기 구축된 시스템에 OGC의 표준을 적용하고, 평가를 위한 공간정보를 연계하여 신재생에너지자원의 개발 및 보급을 위한 경제성평가 모듈의 신뢰성을 향상시켰다. 이를 통해 신재생에너지 자원평가, 최적지 선정 및 잠재량 등에 대한 정밀한 분석 및 평가가 가능하며, Web기반의 시스템 개발을 통해 신재생에너지 정보의 활용성 증대, 신재생에너지에 대한 인식제고를 위한 도구로써 활용될 수 있다.