Si-In_(2)O_(3) n-n Heterojunction은 Si-Single Crystal Wafer의 (111)面에 In_(2)O_(3) (SnO_(2) 5wt%)powder를 ∼10^(-5) ㎜Hg 眞空에서 flash 蒸發시킨 後, 空氣中에서 250℃로 30分間 □處理하여 In_(2)O_(3)薄膜을 成長시켜 ...

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광주 : 朝鮮大學校 大學院, 1977
1977
한국어
Heterojunction ; Si-In₂O₃n-n ; 광학 ; 전기 ; 물리
439.7 판사항(4)
광주
24p. : 삽도 ; 26cm
참고문헌: p. 23-24
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다운로드Si-In_(2)O_(3) n-n Heterojunction은 Si-Single Crystal Wafer의 (111)面에 In_(2)O_(3) (SnO_(2) 5wt%)powder를 ∼10^(-5) ㎜Hg 眞空에서 flash 蒸發시킨 後, 空氣中에서 250℃로 30分間 □處理하여 In_(2)O_(3)薄膜을 成長시켜 ...
Si-In_(2)O_(3) n-n Heterojunction은 Si-Single Crystal Wafer의 (111)面에 In_(2)O_(3) (SnO_(2) 5wt%)powder를 ∼10^(-5) ㎜Hg 眞空에서 flash 蒸發시킨 後, 空氣中에서 250℃로 30分間 □處理하여 In_(2)O_(3)薄膜을 成長시켜 만들었다.
本 論文에서는 이 n-n Heterojungtion의 物性을 究明하기 爲하여 In_(2)O_(3) 薄膜과 Si-In_(2)O_(3) n-n Heterojunction의 光學的, 電氣的 特性을 測定하여 energy band profile를 作成하고 아울러 轉流轉送防備를 究明하였다.
그리고 이 Heterojunction은 300㎚로부터 1100㎚까지의 太陽光 spectrum의 넓은 領域에 걸쳐 좋은 感度를 나타내기 때문에 光電素子로서의 效率을 檢討하였다.
다국어 초록 (Multilingual Abstract)
The photovoltaic elements of Si-In_(2)O_(3) n-n heterojunction are fabricated by flash-evaporating In_(2)O_(3)(SnO_(2) 5wt %) powder on the(1 1 1) face of Si single crystal wafer in a vacuum of 10^(-5)mmHg and by heat treatment for 30 minutes at 250...
The photovoltaic elements of Si-In_(2)O_(3) n-n heterojunction are fabricated by flash-evaporating In_(2)O_(3)(SnO_(2) 5wt %) powder on the(1 1 1) face of Si single crystal wafer in a vacuum of 10^(-5)mmHg and by heat treatment for 30 minutes at 250℃ in air.
The characteristic properties of In_(2)O_(3) thin film atone and of Si-In_(2)O_(3) n-n heterojunction are studied through optical and electrical measurements and the energy band profile of the n-n wide to narrow energy band heterojunction is also determined.
The samples show a good photovoltaic response over a solar spectral range of 300nm to 1100nm and its photovoltaic conversion efficiency is calculated to be 10.4 %.
목차 (Table of Contents)