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패턴 형상, 인쇄 및 건조 조건이 전도성 잉크를 이용한 그라비아 인쇄 결과물의 성능에 미치는 영향
안병준(Byoung Joon Ahn),한경준(Kyung Joon Han),고성림(Sung Lim Ko) 대한기계학회 2010 大韓機械學會論文集A Vol.34 No.3
e-Printing은 전통 인쇄 기술을 기반으로 하는 전자소자를 생산하기위한 새로운 기술이다. 이러한 인쇄 전자소자들은 가격을 낮추기 위하여 대면적 인쇄가 요구된다. 이렇듯 원가를 절감하며 전자 소자에 요구되는 정밀도를 충족하기 위하여 롤투롤(Roll to Roll) 방식의 그라비아(Gravure) 인쇄 시스템이 하나의 대안으로 제시된다. 그라비아 인쇄에는 인쇄 전자 소자의 성능에 영향을 미치는 요소들이 매우 많다 : 건조 방식, 건조 온도, 운전 장력, 인쇄 속도, 잉크 점도, 잉크의 전도성, 망점 및 패턴의 정밀도. 이상에서 언급한 요소들은 각각 매우 밀접한 관계를 가지고 있다. 따라서 인쇄 전자소자의 성능을 향상시키기 위해서는 반듯이 인쇄 적합조건을 찾아야만 한다. 본 논문에서는, 전도성 잉크 및 그라이아 인쇄기를 사용하여 다양한 요소의 조건을 변화하여 패턴(선 및 면)을 인쇄하였으며, 각 인쇄 요소의 변화가 인쇄 전자소자의 성능에 미치는 영향에 관하여 분석 및 연구를 수행하였다. e-Printing is a new manufacturing technology for electronic products and is based on traditional printing technology. The electronic products require a large area to facilitate printing and to be economical. A gravure printing system that supports a roll to roll (R2R) manufacturing process can be used to reduce the cost and to achieve the required accuracy. Many factors such as drying method, drying temperature, tension,-printing velocity, ink viscosity, ink conductivity, pattern accuracy, and dot geometry influence the performance of printed electronics. These factors are closely interrelated. The optimum condition for printing must be determined to enhance the performance of the printed electronics. In this study, lines and areas are printed using a gravure printer with conductive ink under different conditions of the above mentioned factors. The results are analyzed to investigate the influence of various factors on the performance of the printed electronics.
전도성 잉크를 이용한 그라비아 인쇄에서 패턴의 인쇄 방향이 전기적 성능에 미치는 영향에 관한 실험적 연구
안병준(Byoung Joon Ahn),한경준(Kyung Joon Han),고성림(Sung Lim Ko) 대한기계학회 2009 대한기계학회 춘추학술대회 Vol.2009 No.11
R2R process has two different direction which called cross machine direction(CMD) and machine direction(MD). The distortion of the printed pattern becomes more severe following CMD than MD. It is because that the patterns along CMD are influenced more easily by tension and the pressure of roll than that along MD. One interesting fact here is that the patterns along CMD which are distorted more severely show better electrical performance. Generally, it has various directions of pattern in case of printed circuit such as thin film transistor(TFT). Also, some devices include the intersections of lines which are expected to show different performance according to the geometry of the intersection. Consequently, we need research about an intersection line for performance enhancement of more complex printed circuit. In this paper, we analyze the variation of distortion and electric performance according to pattern geometry variation to find a optimal condition for the performance of patterns.