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- 저자 : 조복래(Boklae Cho) (검색결과 2 건)
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조복래,Cho, Boklae 한국진공학회 2015 진공 이야기 Vol.2 No.2
The brightness of an electron source, along with the aberrations of an objective lens, determines the image resolution and beam current on samples, which are two important parameters for evaluating the performance of an electron microscope. Here we introduce thermal electron source, Schottky emitter and cold field electron emitter. Thermal electron source is the cheapest and stable electron source but it has the lowest brightness. Schottky emitter is 10000 times brighter than tungsten thermal electron source, but requires ultrahigh vacuum operating condition. Cold field electron emitter is 10 times brighter than Schottky emitters, but it is rather unstable and its operation requires most stringent vacuum condition, hindering its widespread use.
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새로운 조합 펌프를 사용한 스테인레스 스틸 극고진공 시스템
전인규(Inkyu Chun),조복래(Boklae Cho),정석민(Sukmin Chung) 한국진공학회(ASCT) 1998 Applied Science and Convergence Technology Vol.7 No.1
이온 펌프의 중심에 네그(Non-Evaporable Getters)가 삽입된 새로운 조합 펌프를 사용하여 극고진공 시스템을 구현하였다. 진공 용기는 터보 분자 펌프만으로도 극고진공에 성공하였던, 450℃에서 잘 산화된 304 스테인레스 스틸 쳄버를 사용하였다. 시스템의 압력은 Leybold사의 EXG(Extractor Gauge)로 측정하였으나, 본 실험에서의 최고 진공도는 이미 그 게이지의 측정 한계인 1~2×10^(-12) torr 범위를 훨씬 지나 게이지 지시가 -0.×10^(-12) torr를 읽고 있는 극고진공에 도달해 있었다. 이는 효과적인 네그 활성화로 수소 가스에 대한 배기 속도를 크게 향상시켜준 결과라 볼 수 있다. 또한 본 실험은 극고진공 표면 분석 장치의 실현 가능성을 시사해주는 것으로, 앞으로의 초미세 표면 과학에 있어서 새로운 장을 열어줄 것으로 기대된다. We have developed an extreme high vacuum (XHV) system using a new combination pump composed of a suitably shaped NEG(Non-Evaporable Getters) in the body of a sputter-ion pump (SIP). The stainless-steel test chamber was used which had been well oxidized at 450℃ and already yielded XHV with a turbomolecular pumping system. The pressure was measured by a Leybold extractor gauge (EXG, limit : 1~2×10^(-12) torr), but in the ultimate pressure region the EXG shows an unusual sign as -0.×10^(-12) torr which indicates much lower pressure range than its available lower limit. These results are mainly due to the high pumping speed of NEG for hydrogen. Furthermore, use of the SIP combined with the NEG as a XHV pumping system implies the potential for actualization of the surface analysis under XHV environment, and allows one to have a chance to meet a new world in nanometer science and technology.
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