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- 저자 : 양일동(I. D. Yang) (검색결과 1 건)
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RF 용량결합 플라즈마 발생장치에서 입자오염이 플라즈마 물성에 미치는 영향
연충규(C. K. Yeon),양일동(I. D. Yang),황기웅(K. W. Whang) 한국진공학회(ASCT) 1994 Applied Science and Convergence Technology Vol.3 No.2
음극에 DLC(Diamond-like Carbon) 필름이 놓여져 있는 용량결합형의 RF 플라즈마 장치에서 Ar 가스에 의한 방전에서 발생된 입자의 분포를 레이저 산란에 의하여 관측하였다. 발생된 입자들은 플라즈마와 sheath의 경계면에서 높은 밀도의 구름을 이루었으며, 시간에 따라 주기적인 분포의 변화가 반복되었다. 입자 구름의 발생은 플라즈마 물성의 변화를 야기하였으며, 그 결과로 심한 self-bias 전위의 감소현상이 관측되었다. 입자 구름분포의 시간에 따른 변화와 같은 주기의 self-bias, 플라즈마전위의 진동현상이 가열된 fast-scanning Langmuir 탐침에 의하여 관측되었다. 이 결과는 입자 표면에로의 음전하 누적에 따른 전체 음전하의 이동도(mobility) 감소에 의한 것으로 해석된다. 또한 방출 분광법에 의하여 입자오염상태의 Ar 플라즈마와 정상상태의 Ar 플라즈마의 방출 선세기(emission line intensity)의 변화를 관측하였는데, 입자구름 오염시의 2차전자 차폐현상에 의해 높은 문턱 에너지를 가진 Ar Ⅱ 선의 세기 감소현상이 나타났다. The particle distribution in a capacitively coupled RF plasma reactor with Ar gas is observed by the laser light scattering method. The plasma-generated particles form a cloud around the plasma-sheath boundary and their distribution varies periodically with time. The generation of particle cloud causes the self-bias voltage to decrease and the self-bias and the plasma potential vary all with the same period. This indicates that the mobility of negative charges decreases as a result of the electron accumulation on the particles. The emission spectrum is obtained from the particle-contaminated plasma, and compared with the clean normal Ar plasma. The intensity of Ar Ⅱ lines which have the higher threshold energies than Ar I lines bocomes lower as a result of the screening effect by the particle cloud.
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