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상사의 비인격적 감독이 이직의도에 미치는 영향: 정서적 스트레스와 직무열의의 이중매개효과
최보윤,정승철,Choi, Boyun,Jung, Sungcheol 한국디지털정책학회 2022 디지털융복합연구 Vol.20 No.4
본 논문은 조직에서 상사의 비인격적 감독이 이직의도에 미치는 영향을 확인하고 그 경로에서 정서적 스트레스와 직무열의의 매개효과를 검증하고자 하였다. 이를 위해 직장인 317명을 대상으로 온라인 설문조사를 실시하였으며 SPSS Macro 및 Bootstrapping 분석을 실시하였다. 연구 결과 비인격적 감독, 정서적 스트레스, 직무열의, 이직의도 간의 상관관계는 통계적으로 유의한 것을 확인하였으며 이중매개관계가 통계적으로 유의한 것을 확인하였다. 본 연구에서는 상사의 비인격적 감독과 정서적 스트레스, 직무열의, 이직의도에 대한 경로를 규명하였다는 점에서 시사점을 제공한다. 향후 종단적 연구 및 경로에 영향을 미치는 요인들에 대한 심층 연구가 필요할 것으로 보인다. This study was to verify the effect of the supervisor's abusive supervision on turnover intention and the mediating role of emotional stress and work engagement in the process. The online survey was conducted on 317 employees and the data were analyzed through SPSS Macro and bootstrapping. The results are as follows: the correlation between abusive supervision, emotional stress, work engagement and turnover intention was confirmed to be statistically significant, and dual mediating effect of emotional stress and work engagement was statistically significant. This study showed meaningful results on the path of the abusive supervision and turnover intention. Further studies with longitudinal method and in-depth studies on factors influencing pathways will be needed to verify substantially the dual mediating effect.
금속 질화물 박막의 원자층 증착 및 반도체 분야 응용 연구 동향
이자영(Jayeong Lee),최보윤(Boyun Choi),안준혁(Junhyeok Ahn),전나리(Nari Jeon) 한국세라믹학회 2024 세라미스트 Vol.27 No.1
With the recent advances in nanotechnology and the semiconductor industry, the study of nitride thin films has become increasingly important in the fields of electronic devices, optical devices, and nanomaterials research. Various methods have been used to synthesize nitride thin films, among which ALD stands out as a deposition technique capable of yielding high-quality thin films at lower temperatures via sequential self-limiting surface treatments. As the need for high-quality thin film deposition at the nanoscale and highly conformal thin films has emerged, the deposition of metal nitride thin films by ALD has been actively researched, encompassing hafnium nitride, aluminum nitride, titanium nitride, zirconium nitride, and silicon nitride. In this review, we will discuss the current landscape of research pertaining to metal nitride thin films prepared by ALD.