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C형 영구자석을 레일로 활용한 자기부상 이송체의 기본 설계를 위한 해석
박동용(Dong Yong Park),백윤수(Yoon Su Baek) 대한기계학회 2011 대한기계학회 춘추학술대회 Vol.2011 No.5
본 논문은 저자의 석사학위 논문을 요약한 것이다. 영구자석의 반발력을 이용한 새로운 자기부상 이송 시스템의 기본 설계를 위한 해석을 제안하였다. 안정적인 구동을 확보하기 위해 C형 구조의 영구자석을 레일로 배치하고 이송체의 다리에 막대자석을 부착하여 막대자석이 C형 자석의 중심으로부터 벗어나려는 반발력을 이용하여 추진력을 얻고 C형 자석의 옆면과 막대자석의 옆면과의 반발력을 이용하여 부상력을 얻어낸다. 레일과 이송체의 다리 사이에 발생하는 부상력과 추진력을 알아보기 위해 두 자석간의 힘을 이론식으로 유도 하였다. 1차 프로토타입을 통하여 부상력과 추진력을 측정하고 이론적 해석, 유한요소 해석과 비교하였다. 1차 프로토타입에서는 봉을 이용하여 이송체를 구속, 지지하면서 추진을 구현하였고, 2차 프로토타입은 봉을 제거하고 이송체의 좌우측에 가이드 평면을 설치하여 부상과 추진이 동시에 이루어지도록 구현하였다.
스퍼터링 타겟용 저온 분사 Cu-15 at.%Ga 코팅 소재의 특성에 미치는 열처리 분위기의 영향
최병철,박동용,김형준,오익현,이기안,Choi, Byung-Chul,Park, Dong-Yong,Kim, Hyung-Jun,Oh, Ik-Hyun,Lee, Kee-Ahn 한국분말야금학회 2011 한국분말재료학회지 (KPMI) Vol.18 No.6
This study attempted to manufacture a Cu-15 at.%Ga coating layer via the cold spray process and investigated the effect of heat treatment environment on the properties of cold sprayed coating material. Three kinds of heat treatment environments, $5%H_2$+argon, pure argon, and vacuum were used in this study. Annealing treatments were conducted at $200{\sim}800^{\circ}C$/1 hr. With the cold sprayed coating layer, pure ${\alpha}$-Cu and small amounts of $Ga_2O_3$ were detected in the XRD, EDS, EPMA analyses. Porosity significantly decreased and hardness also decreased with increasing annealing temperature. The inhomogeneous dendritic microstructure of cold sprayed coating material changed to the homogeneous and dense one (microstructural evolution) with annealing heat treatment. Oxides near the interface of particles could be reduced by heat treatment especially in vacuum and argon environments. Vacuum environment during heat treatment was suggested to be most effective one to improve the densification and purification properties of cold sprayed Cu-15 at.%Ga coating material.
저온분사법에 의해 제조된 Cu-Ga 타겟의 스퍼터링 특성평가
조영지,유정호,양준모,박동용,김종균,최강보,장지호,Cho, Youngji,Yoo, Jung Ho,Yang, Jun-Mo,Park, Dong-Yong,Kim, Jong-Kyun,Choi, Gang-Bo,Chang, Jiho 한국분말야금학회 2016 한국분말재료학회지 (KPMI) Vol.23 No.1
The microstructural properties and electrical characteristics of sputtering films deposited with a Cu-Ga target are analyzed. The Cu-Ga target is prepared using the cold spray process and shows generally uniform composition distributions, as suggested by secondary ion mass spectrometer (SIMS) data. Characteristics of the sputtered Cu-Ga films are investigated at three positions (top, center and bottom) of the Cu-Ga target by X-ray diffraction (XRD), SIMS, 4-point probe and transmission electron microscopy (TEM) analysis methods. The results show that the Cu-Ga films are composed of hexagonal and unknown phases, and they have similar distributions of composition and resistivity at the top, center, and bottom regions of the Cu-Ga target. It demonstrates that these films have uniform properties regardless of the position on the Cu-Ga target. In conclusion, the cold spray process is expected to be a useful method for preparing sputter targets.