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티타늄 실리사이드 감지소자의 결함에 의한 Band-gap의 제어
윤용수 ( Yong Soo Yoon ),정일현 ( Il Hyun Jung ) 한국공업화학회 2002 공업화학 Vol.13 No.8
공공의 존재와 그레인의 크기, 결정화도, 불순물과 같은 결함들은 band gap의 결정과 막의 응용성에 중요한 역할을 하며 실험 조건에 따라 다양한 특성을 나타내고 있다. 본 연구에서 a-Si:H는 rf파워가 증가할수록 공공이 많이 존재하였으며, 열처리 시간을 증가시켰을 때 막의 결정성, band gap과 결함수 모두 증가하였다. 또한 그레인 수가 증가할수록 band gap과 결함수는 감소하는 것으로 나타났으며, 결함수와 band gap은 서로 비례 관계에 있다. 따라서 특정 센서에 응용하기 위한 막은 결함수를 제어하므로써 적절한 band gap을 가지게 할 수 있다. The defects, such as vacancy, grain size, the degree of crystalline, impurities (or doping materials) etc., play an important role in the determination of band gap and the application of film. They show various properties, depending on experimental conditions. In this work, it was found that vacancy with increasing rf-power was plentifully existed in a-Si:H film and the crystallinity of a film, the band-gap and the number of defects increased with long annealing time. It was shown that the band-gap and the defect-number decreased with increasing the density of grain. The number of defects was found to the be in proportion to the band gap. Consequently, we found that the band-gap with controlling the number of defect can be variously applied in the specific sensor.
전법주,박용준,윤용수,정일현 ( Bup Ju Jeon,Yong Joon Park,Yong Soo Yoon,Il Hyun Jung ) 한국공업화학회 1995 공업화학 Vol.6 No.5
THF에 폴리스티렌을 용해시킨 후 20 ㎑의 주파수를 갖는 초음파를 조사시키면서 일정한 시간 간격으로 시료를 채취하여 GPC로 분석하였다 시료는 각각 1, 4, 8(w/v)%로 준비하여 반응기에 충진하였고 반응기의 온도는 273K, 293K, 313K로 조절하여 실험하였다. 분해정도는 초기의 수평균 분자량에 대하여 감소하는 수평균 분자량의 비인 degradation index로 정의하여 나타내었다. Schulz 분포함수와 log-normal 분포함수를 이용하여 각 분자량에 따른 연속 분포함수를 표현함으로써 분자량의 감소를 확인하였다. 그리고 조사시간에 따른 분해 속도상수를 결정하였다. 실험한 결과에 따르면 초음파에 의한 폴리스티렌의 분해율은 온도가 낮을수록 그리고 농도가 낮을수록 증가함을 알 수 있었다. Polystyrene dissolved in tetrahydrofuran was irradiated using the ultrasound with 20 ㎑, and then the molecular weight change was measured by GPC under a variety of experimental conditions. Polymer solutions were prepared in the concentration of 1, 4 and 8%(w/v) in THF and reaction temperature was at 273K, 293K, and 313K. Molecular weight variatious at each temperature and concentration expressed in terms of degradation index, the ratio of the number average molecular weight of the degraded chains to that initially present. Continuous distribution function as a function of molecular weight was shown by the Schulz distribution function. Degradation rate of polystyrene decreased as increasing the temperature and also decreasing the concentration of polystyrene.
황산구리 용액으로부터의 구리회수공정에서 초음파에 의한 전착반응의 증대효과
윤용수,홍인권,이재동,정일현 ( Yoon Yong Soo,Hong In Kwon,Jae Dong Lee,Jeong Il Hyun ) 한국공업화학회 1994 공업화학 Vol.5 No.2
본 연구에서는 초음파의 Cavitation에 의한 혼합효과와 표면세정 효과 그리고 유효 충돌빈도의 중가효과를 이용하여 구리이온을 함유한 용액으로부터 전착반응에 의한 구리의 회수공정에서 전착반응속도를 증가시키고자 초음파 진동자를 직접 반응기 벽면에 부착시킨 반응기를 제작하였다. 초음파 반응저에서 과전압과 황산구리의 농도를 변수로 하여 반응시간에 대한 전류밀도를 측정하고, 음극에 석출된 구리의 양에 의하여 초음파에 의한 반응속도 증가효과에 대하여 연구한 결과 초음파에 의한 효과는 과전압이 2.1V, 황산구리의 농도가 0.1M일 때 석출된 구리의 양이 초음파를 가하지 않은 반응기에 비하여 최고 582.2%까지 증가하였으며, 전류밀도는 최고 277.8% 증가하였다. 또한 전류밀도와 구리 석출량의 증가를 확산충의 두께 감소에 의한 증가효과와 표면세정과 유효충돌빈도의 증가에 의한 효과로 나누어 해석한 결과 초음파에 의한 확산충의 두께 감소로 인한 총괄 반응속도 증가율은 과전압이 2.2V, 황산구리의 농도가 0.1M일 때 최고 277.8%로 나타났으며, 표면세정과 유효 충돌빈도의 증가로 인한 총괄 반응속도 증가율은 과전압이 2.1V, 황산구리의 농도가 0.1M일 때 최고 253.6%로 나타났다. In this study, the ultrasound which provides the properties of mixing, and surface cleaning effect, the increase of the effective reaction surface area and the enhancement of the effective collision frequency, was used to enhance the recovering efficiency of Cu from the Cu-ion containning waste water. The ultrasonic reactor used in this study was designed and constructed for improving the disadvantage of the existing ultrasonic reactor. From the experimental result and its analysis, we obtained following conclusions. 1. The ultrasound increased the rate of electrochemical deposition to 582.2% in maximum at the condition of 0.1M-CuSO_4 and 2.1 V-overpotential. 2. The enhancement effect of ultrasound induced by the reduction of diffusion layer thickness was 277.8% in maximum and induced by the other effect except for the reduction effect of the diffusion layer thickness was 253.6% in maximum at 0.1M-CuSO_4 and 2.1V overpotential. 3. This study gave the possibility of the scale-up of ultrasonic reactor and in particular, ultrasonic reactor would be effective in the treatment of waste water containing a low concentration of Cu ion.