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김남성(Nam Seong KIM),김기혁(Kihyuck KIM),정영대(Youngdae CHUNG),최창기(Changgi CHOI),이도경(Dohkyeong LEE),이승재(Seungjae LEE),성기석(Geesuk Sung),전영민(Youngmin JHON),성하민(Hamin SUNG),오경환(Kyunghwan OH),김종기(Jongki KIM),박지영 한국생산제조학회 2010 한국공작기계학회 추계학술대회논문집 Vol.2010 No.-
기존 레이저 미세가공기술 한계를 극복하여 LCD/AMOLED 등의 가공물 내부와 표면에 10㎛ ~ 500㎚ 까지의 초정밀청정가공을 하는 기술개발로서 관련된 고부가가치 생산시스템개발 및 시장요구형 50W/300fs/1035㎚/10㎒ 펨토초 광섬유레이저 기술개발을 소개한다. 기술개발은 2010년6월부터 2015년3월말까지 진행할 예정이며 현재 3개월여의 기술개발을 수행하고 있다. 1차년도 기술개발목표는 레이저광원으로서 20㎽/1035㎚/10㎒/300fs의 모드잠금광섬유레이저를 개발하는 것과 응용프로세스개발은 7㎛급의 내부 3차원 초미세 가공과 표면 초미세가공 등이다. (지식경제부 산업원천기술개발사업 프로젝트번호 10037371).